一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的运输装置制造方法及图纸

一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的运输装置，主要解决现有的控制系统无专用运输装置，而对系统容易造成损伤的问题。它的主体包括设有推手的机架。进一步地，机架的上板设有胶垫，胶垫上制有一孔与气控箱相通；进一步地，机架的前底部设有脚轮；进一步地，机架的后底部设有万向轮，与万向轮相对应的部位设有刹车。在对气相沉积设备反应气体集中控制系统做氦气检漏及保压的过程中，气控箱可起到气体集中控制系统内隔膜阀的作用，使气体通畅。本发明专利技术结构简单，到达工位后，可使用刹车装置，保证系统安全。在做氦气检漏、氮气保压的过程中，使用气控箱对系统内的隔膜阀进行开关控制。能够满足不同规格的控制系统在到货时检验及运输的要求。可广泛应用于半导体设备技术领域。

Transport device for gas concentration control system of gas phase deposition equipment

The utility model relates to a transport device for a gas concentration control system of a vapor deposition equipment, which mainly solves the problem that the existing control system does not have a special transport device, and is easy to cause damage to the system. The main body of the utility model comprises a frame provided with pushing hands. Further, on the plate rack is provided with rubber pad, rubber pad is provided with a hole and a gas control box is communicated; and further, before the frame bottom is provided with casters; further, the bottom frame is provided with a universal wheel, corresponding to the universal wheel with brake parts. In the process of gas leak detection and pressure maintaining in the centralized control system of the gas in the gas phase deposition equipment, the gas control box can play the role of the diaphragm valve in the gas centralized control system, which makes the gas open. The invention has simple structure and can be used to ensure the safety of the system after reaching the station. In the process of helium leak detection and nitrogen pressure maintaining, the gas control box is used to control the switch in the system. To meet the requirements of different specifications of the control system in the delivery inspection and transport. The utility model can be widely used in the technical field of semiconductor devices.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种新型的气相沉积设备反应气体集中控制系统的运输装置，该装置亦可用于氦气检漏、保压的操作平台使用。属于半导体设备应用

技术介绍
半导体设备中需要反应气体集中控制系统来输送气体，在反应气体集中控制系统到货后，运至洁净间的过渡间，需要将反应气体集中控制系统运送到指定工位进行氦气检漏及保压测试。到货检验合格后再运送反应气体集中控制系统将其安装在机台的工位上。反应气体集中控制系统的平均重量一般在40kg左右，且里面所安装的都是精密的器件，要求具有稳定的搬运环境并必须保证系统的安全。长期以来，此种反应气体集中控制系统并没有专用的运输装置，无专门用于搬运的把手等方便搬运的设计，以人力搬运或用叉车搬运极易造成反应气体集中控制系统不同程度的损伤，包括掉漆，内部元件的松动等意外情况的发生。
技术实现思路
本专利技术以解决上述问题为目的，主要解决现有的气相沉积设备反应气体集中控制系统无专用运输装置，而对系统容易造成损伤的问题。为实现上述目的，本专利技术采用下述技术方案：一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的运输装置，该运输装置的主体包括设有推手的机架。进一步地，机架的上板设有胶垫，胶垫上制有一孔与气控箱相通；进一步地，机架的前底部设有脚轮；进一步地，机架的后底部设有万向轮，与万向轮相对应的部位设有刹车。所述脚轮和万向轮各设两个。反应气体集中控制系统到货后需对其进行一系列的检验，检验合格后搬运安装于设备上。在对气相沉积设备反应气体集中控制系统做氦气检漏及保压的过程中，气控箱可起到气体集中控制系统内隔膜阀的作用，使气体通畅。本专利技术的有益效果及特点：结构合理，由于采用了万向轮，可使在运输的过程中随时转向。到达工位后，可使用刹车装置，对整个系统实现控制，使其无法移动，保证系统安全。在做氦气检漏、氮气保压的过程中，使用气控箱对系统内的隔膜阀进行开关控制。由于装置的放置面较大，可满足不同规格的气相沉积设备反应气体集中控制系统在到货时检验及运输的要求。可广泛应用于半导体设备
附图说明图1是本专利技术的结构示意图。图中零件标号分别代表:1、气控箱；2、胶垫；3、推手；4、机架；5、刹车；6、万向轮；7、脚轮。下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的说明。具体实施方式实施例参照图1，一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的运输装置，该运输装置的主体包括设有推手3的机架4。所述机架4的上板设有胶垫2，胶垫2上制有一孔与气控箱1相通；所述机架4的前底部设有脚轮7；所述机架4的后底部设有万向轮6，与万向轮6相对应的部位设有刹车5。所述脚轮7和万向轮6各设两个。使用时，将刹车踩下，将反应气体集中控制系统8搬运至运输装置上并固定。打开刹车5，操作人员手推推手3，运输到指定工位。打开反应气体集中控制系统8的箱门，连接气控箱及反应气体集中控制系统8中的隔膜阀，连接氦气检漏仪，进行氦气检漏。当检漏合格后，接通氮气，同时控制气控箱，做氮气保压工装。当保压合格后，可推放在指定工位，踩下刹车，使系统固定。或推送至机台，踩下刹车，将反应气体集中控制系统安装在设备上。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的运输装置，该运输装置的主体包括设有推手的机架，其特征在于：所述机架的上板设有胶垫，胶垫上制有一孔与气控箱相通。

【技术特征摘要】
1.一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的运输装置，该运输装置的主体包括设有推手的机架，其特征在于：所述机架的上板设有胶垫，胶垫上制有一孔与气控箱相通。2.如权利要求1所述的气相沉积设备反应气体集中控制系统的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张建，郑英杰，吕光泉，吴凤丽，苏欣，
申请(专利权)人：沈阳拓荆科技有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21