光学活性二膦配体制造技术

＊＊＊ Ⅰ 式Ⅰ的光学活性二膦配体，式中：Ｒ↑［１］为氢、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［１０］－链烯基，它们各自可以为直链或支链的；芳基、芳烷基，其中在环体系均可以被取代，Ｒ↑［４］Ｒ↑［５］Ｒ↑［６］Ｓｉ－；Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］相互独立，可以为直链或支链的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－烷基，芳基、芳烷基，其中环体系均可以被取代；Ｒ↑［４］、Ｒ↑［５］和Ｒ↑［６］相互独立，可以为直链或支链的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－烷基，芳基、芳烷基，其中环体系均可以被取代。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学活性二膦、光学活性二膦和它们的过渡金属络合物的制备方法以及用于对映选择性合成的金属络合物的用途。用铑络合物和钌络合物进行对映选择性氢化和异构化在光学活性化合物的合成中是非常重要的。然而，通常由光学活性二膦配体和铑或钌化合物制备的用于该目的的催化剂是非常昂贵的，并且只能通过精细的制备方法获得。制备光学活性膦和二膦的已知方法都是复杂的，通常包括工业上精细和昂贵的消旋体拆分(例如EP-A-0614901、EP-A-0271311、H.B.Kagan，“非对称催化的手性配体”Asymmetric Synthesis，第5卷，(1985)，13-23、EP-A-0151282、EP-A-0185882、R.Noyori，AccChem.Res.23(1990)345、EP-A-0269395、M.J.Burk，Tetrahedron，Asymmetry，(1991)569-569、J.Am.Chem.Soc.113(1991)8518-19、上述文献，115(1993)10125-138、上述文献，117(1995)9375-76、上述文献，188(1996)5142)。这些缺点使得目前这类催化剂的工业利用困难并且不经济。本专利技术的目的是提供光学活性二膦，它们适用作过渡金属络合物催化剂的配体，其制备避免了上述缺点。我们发现通过提供式I的光学活性二膦，可以达到该目的， 式中R1为氢、C1-C10-酰基、C1-C10-烷基、C2-C10-链烯基，它们各自可以为直链或支链，芳基、芳烷基，其中环体系均可以被取代， R2、R3相互独立，可以为直链或支链的C1-C10-烷基、芳基、芳烷基，其中环体系各自可以被取代，R4、R5和R6相互独立，可以为直链或支链的C1-C10-烷基、芳基、芳烷基，其中环体系各自可以被取代。式I的新二膦配体中R1的酰基为支链或非支链的、饱和或不饱和的，其中合适的是多不饱和C1-C10-酰基链，特别是甲酰基、乙酰基、丙酰基、正丁酰基、异丁酰基和新戊酰基。可以提到的R1-R6的烷基为支链或非支链的C1-C10-烷基链，最好为甲基、乙基、正丙基、1-甲基乙基、正丁基、1-甲基丙基、2-甲基丙基、1，1-二甲基乙基、正戊基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、2，2-二甲基丙基、1-乙基丙基、正己基、1，1-二甲基丙基、1，2-二甲基丙基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、3-甲基戊基、4-甲基戊基、1，1-二甲基丁基、1，2-二甲基丁基、1，3-二甲基丁基、2，2-二甲基丁基、2，3-二甲基丁基、3，3-二甲基丁基、1-乙基丁基、2-乙基丁基、1，1，2-三甲基丙基、1，2，2-三甲基丙基、1-乙基-1-甲基丙基、1-乙基-2-甲基丙基、正己基、正辛基、正壬基、正癸基。可以提到的R1的链烯基为支链或非支链的C2-C10-链烯基链，最好为乙烯基、丙烯基、异丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、2-甲基-1-丁烯基、2-甲基-2-丁烯基、3-甲基-1-丁烯基、1-己烯基、2-己烯基、1-庚烯基、2-庚烯基、1-辛烯基或2-辛烯基。R1-R6的芳基是指芳环或环体系中具有6-18个碳原子的环体系，例如苯基或萘基，它们每个可以被一个或多个基团取代，这些基团诸如卤素(例如氟、氯或溴)、氰基、硝基、氨基、C1-C4-烷氨基、C1-C4-二烷氨基、羟基、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基或其它基团，特别是磺基。最好是未取代或取代的苯基、甲氧苯基和萘基。可以提到的R1-R6的芳烷基为支链或非支链的苯基-C1-C5-烷基或萘基-C1-C5-烷基链，诸如苯甲基、苯乙基、苯丙基、苯基-1-甲基乙基、苯丁基、苯基-1-甲基丙基、苯基-2-甲基丙基、苯基-1，1-二甲基乙基、苯戊基、苯基-1-甲基丁基、苯基-2-甲基丁基、苯基-3-甲基丁基、苯基-2，2-二甲基丙基、苯基-1-乙基丙基、萘甲基、萘乙基、萘丙基、萘基-1-甲基乙基、萘丁基、萘基-1-甲基丙基、萘基-2-甲基丙基、萘基-1，1-二甲基乙基、萘戊基、萘基-1-甲基丁基、萘基-2-甲基丁基、萘基-3-甲基丁基、萘基-2，2-二甲基丙基或萘基-1-乙基丙基以及它们的异构形式或立体异构形式。作为芳基，可以提到取代或未取代苯基或萘基。R1的芳烷基也是指C(Ph)3，其中苯环可以被一个或多个基团取代，这些基团诸如卤素(例如氟、氯或溴)、氰基、硝基、氨基、C1-C4-烷氨基、C1-C4-二烷氨基、羟基、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基或其它基团。特别推荐的光学活性二膦配体是式Ia的那些光学活性二膦， 其中R1为C(CH3)3、C(Ph)3， R2、R3相互独立，为环体系各自可以被取代的芳基和芳烷基，R4、R5、R6相互独立，可以为直链或支链的C1-C10-烷基、芳基和芳烷基，其中环体系各自可以被取代。本专利技术还涉及式I光学活性二膦配体的制备方法，它包括a)使式II的光学活性α，β-不饱和内酯作为Michael受体与阴离子HP(R2)2反应，然后与HalP(R3)2反应，其中R1-R3具有与下述式III中R1-R3相同的定义， 以及b)将式III二膦取代内酯的羰基官能团还原为亚甲基。 因此，本专利技术也涉及式III的光学活性二膦配体，其中取代基定义如下R1为氢、C1-C10-酰基、C1-C10-烷基、C2-C10-链烯基，它们各自可以为直链或支链的，芳基、芳烷基，其中环体系均可以被取代， R2、R3相互独立，可以为直链或支链的C1-C10-烷基、芳基、芳烷基，其中环体系均可以被取代，R4、R5和R6相互独立，可以为直链或支链的C1-C10-烷基、芳基、芳烷基，其中环体系均可以被取代。用作Michael受体的光学活性α，β-不饱和内酯II可以以已知方式，或者由公开于Tetrahedron 43(21)(1987)5055的D-核糖(ribono)-1，4-内酯制备，或者由Tetrahedron 38(15)(1982)2377中描述的甘油醇制备。阴离子P(R2)2可以在强碱存在下由相应的生成。可以使用的强碱包括本身已知的有机锂化合物(例如丁基锂或二异丙酰胺锂(LDA))和醇化物。可能的反离子(阳离子)除钠、钾、镁和铝外，最好是锂。可以采用卤代烷基膦或卤代二芳基膦，最好采用卤代二芳基膦，特别是氯代二苯基膦，引入第二膦残基。可以用于该反应的溶剂为所有的常规惰性溶剂。推荐溶剂的实例为甲苯、己烷、环己烷、THF、MTB和乙醚。进行反应的温度可以为-100℃至+50℃，最好为-80℃至+30℃，严格排除氧气。因为生成的式III二膦取代内酯对水解和氧化非常敏感，因此有利于通过与BH3反应，将它们转化为相应的稳定硼烷加合物。式III的内酯或其硼烷加合物可以以本身已知的方式(Organikum，第19版，Deuscher Verlag der Wissenschaften，1993，510-514)，用络合金属氢化物(诸如LiAlH4、NaBH4或DIBHA)，还原为相应的环醚。推荐的还原剂是与硅烷(例如Et3SiH、Ph3SiH或PhSiH3)混合或与BF3混合的氢化二异丁基铝(DIBAH)，以用于随后的内酯还原。通过用碱性试剂(最好为有机胺)本文档来自技高网...

【技术保护点】
式Ⅰ的光学活性二膦配体或其硼烷加成物，＊＊＊Ⅰ式中：Ｒ↑［１］为氢、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［１０］－链烯基，它们各自可以为直链或支链的，芳基、芳烷基，其中环体系均可以被取代，＊＊＊Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］相互独立，可以为直链或支链的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－烷基、芳基、芳烷基，其中环体系均可以被取代，Ｒ↑［４］、Ｒ↑［５］和Ｒ↑［６］相互独立，可以为直链或支链的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－烷基、芳基、芳烷基，其中环体系均可以被取代。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：G赫尔姆谢，C米尔曼，
申请(专利权)人：BASF公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]