一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法技术

本发明专利技术一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，所述方法采用两个设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸、两个釉泵、淋釉钟罩、淋釉斗组成闭路釉浆循环系统，在整个釉浆循环系统中，釉浆始终处于降温、循环流动、过筛处理的节奏中，很好的解决了淋釉过程出现的釉浆触变、釉浆液面结皮、釉浆不均匀等问题，同时可滤掉一些大的杂质颗粒，主釉缸釉浆液面稳定，对整个淋釉系统起到稳定的基石作用，本发明专利技术一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法很好的保持了砖坯整个淋釉过程的稳定。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在陶瓷生产中一种淋釉方法，尤其是一种可以保持釉浆恒温、淋釉过程稳定的方法。
技术介绍
目前，在陶瓷生产中，淋釉看起来是一道比较简单的工序，但又是比较容易出错的工序，很多瓷砖釉面缺陷都是淋釉引起，像釉面波纹、不平、针孔、釉泡、釉粉等缺陷，淋釉引起的缺陷在瓷砖缺陷降级中占有很大比例。目前，淋釉过程主要采用单釉缸淋釉方式，一个釉缸、一个釉泵，釉泵抽釉输送到釉斗，釉斗的釉一部分向下流向淋釉钟罩，经淋釉钟罩呈帘幕状淋在砖面上，另一部分经回釉管流回釉缸（釉泵输釉流量大于釉斗向下流量），淋釉钟罩帘幕淋釉一部分淋在砖面一部分经集釉斗收集流回到釉缸，釉缸、釉泵、釉斗、淋釉钟罩、集釉斗在釉泵与输釉管联接下组成一个循环系统。此循环系统在生产过程中存在很多缺陷。1、釉缸中釉浆在釉泵的搅拌过程会存在分层差异，釉缸下层的釉浆搅拌速度较快流动性好，上层流动性慢时会出现触变现象，上层釉浆呈固体果冻状态，搅动一下又成釉浆。触变现象不去处理时间一长随着表层水份的蒸发表层会形成一层釉皮，此釉皮水份含量减少，经搅拌不能返回成釉浆，时间越长釉皮会越厚。釉皮块或颗粒淋在砖面，砖会形成釉团釉泡等缺陷。釉缸中釉的触变同时也导致釉浆的不均匀，釉浆的不均匀淋釉烧成后会出现产品颜色不稳定。2、釉缸中的釉浆在使用过程中，釉浆液位会逐步下降，下降到一定位置又添加新釉料，液位又回升，整个淋釉工序釉缸中的釉浆液位处于一个上下下上的变化过程，这对于稳定淋釉十分不利，釉浆液位的高低会影响釉泵抽釉的压力，从而影响输釉量的变化，输釉量的变化也就是整个循环系统的变化。当釉浆液位低于或平行釉泵泄流孔时，釉浆从釉泵泄流孔流出速度快很容易飞浅出来，同时釉浆很容易产生气泡，泄流孔失去外压流量加大，相对向上输釉量就会减小，这对淋釉是十分不利。3、釉浆粘性大，易沉淀、同色与均匀性要求高，釉泵在釉缸中需要不断搅拌，搅拌叶片旋转摩擦产生大量热量，导致釉浆温度升高，釉浆温度高会引起釉浆性能变差，釉浆会变粘，釉浆水分蒸发加快，淋釉釉量不稳定等问题。
技术实现思路
为了克服目前淋釉的缺点：本专利技术提供一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其特征在于：所述方法采用两个设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸、两个釉泵、淋釉钟罩、淋釉斗组成闭路釉浆循环系统，釉浆始终处于降温、循环流动、过筛处理的循环状态。本专利技术方法采用如下技术方案。首先，本专利技术采用了一种组合淋釉装置，包含主釉缸，主釉缸釉泵，主釉泵输釉管，淋釉斗，回釉管，淋釉钟罩，集釉管，主釉缸釉泵具有第一泄流孔，集釉管上连接一集釉斗，其改进在于，还包含：一副釉缸及与之配合的副釉缸釉泵，副釉缸釉泵具有第二泄流孔；一副釉泵输釉管，其入口端设置于副釉缸内，出口端延伸至主釉缸；所述副釉缸内的釉浆通过副釉缸釉泵及副釉泵输釉管输送入至主釉缸内；一溢流管，其入口端设置于主釉缸的靠近顶部位置，出口端延伸至副釉缸，主釉缸内釉浆通过溢流管回流至副釉缸；所述回釉管延伸至副釉缸；所述集釉管延伸至副釉缸。其中，所述主釉缸和副釉缸均为包含釉缸外壁和釉缸内壁的双层结构；所述釉缸外壁和釉缸内壁之间设置有镙旋形分隔层并形成有镙旋形冷却液通道；所述镙旋形冷却液通道的入口设在釉缸缸体底部外壁上，出口设在釉缸缸体外壁上部与外界相通。其中，所述主釉缸设置有第一过筛网，所述副釉泵输釉管的出口端与之相对；所述副釉缸设置有第二过筛网和第三过筛网，所述溢流管的出口端与第二过筛网相对，所述回釉管和集釉管的出口端与之相对。其中，所述主釉缸和副釉缸底部均设有底部固定凹口，该底部固定凹口呈圆形分散布置，底部固定凹口尺寸大于釉泵支撑脚面大小。此外，本专利技术提供一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其改进在于：将釉浆加入副釉缸，釉浆液位第二泄流孔时，启动副釉缸釉泵，使得釉浆处于搅拌状态；当釉浆液位接近溢流管时，打开副釉泵输釉管上的阀门，让釉浆经副釉泵输釉管输送到主釉缸第一过筛网过筛流到主釉缸；持续往副釉缸添加釉浆，到主釉缸的釉浆从溢流管顺畅回流到副釉缸第二过筛网过筛流回副釉缸，调节副釉泵输釉管上的阀门的开度，使副釉泵输釉管输釉流量小于溢流管的最大可流出量；接通主釉缸釉泵的电源，釉泵叶片旋转，让主釉缸中的釉浆处于搅拌状态；打开主釉缸输釉管上的阀门，让釉浆输送到淋釉斗，当淋釉斗上的回釉管有釉浆流出时，打开淋釉斗下部阀门，让釉浆流下到淋釉钟罩形成釉浆帘幕。实时调整主釉缸输釉管上的阀门使得淋釉斗的液位处于回釉溢流孔内高度的0.2至0.5位。实时调整副釉泵输釉管上的阀门开度主釉缸中的釉浆液位要处于溢流口内高度的0.2至0.5位。所述副釉缸向主釉缸输送流量要大于主釉缸向淋釉斗的输送流量，多的部分经溢流管流回副釉缸。所述主釉缸向淋釉斗输送釉浆量要大于淋釉斗向淋釉钟罩输送釉量，多的部分经回釉管流回副釉缸。所述淋釉钟罩形成釉浆帘幕，砖坯在皮带的输送下在釉浆帘幕下通过，釉浆淋于砖坯面上，多余的釉浆经集釉斗收集流回副釉缸。上述技术方案主、副两个设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸，主釉缸釉泵抽釉至淋釉斗，淋釉斗釉桨一部分向下流到淋釉钟罩淋釉到砖坯上，向下流量由淋釉斗阀门控制，溢多的一部分釉桨经回釉管回流到副釉缸过筛网过筛流回副釉缸；淋釉钟罩流下的多余釉料经集釉斗收集也回流到副釉缸过筛网过筛流回副釉缸。副釉缸釉泵把副釉缸的釉浆经副釉泵输釉管输送到主釉缸过筛网过筛，过筛后的釉浆流到主釉缸。主釉缸、淋釉斗、淋釉钟罩、副釉缸形成一个闭路的釉浆循环系统。这里主釉缸釉泵输送流量要大于淋釉斗向下流量，副釉缸釉泵向主釉缸输送流量要大于主釉缸釉泵向釉斗输送流量。所述方法采用两个设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸，主釉缸放置位置高度高于副釉缸位置，高度以主釉缸溢流管釉浆能顺畅流向副釉缸过筛网为优选,副釉缸釉泵把副釉缸的釉浆经副釉泵输釉管输送到主釉缸过筛网过筛，过筛后的釉浆流到主釉缸；副釉缸釉泵向主釉缸输送流量要大于主釉缸釉泵向釉斗输送流量。主釉缸随釉浆的输入釉浆液面上升，上升至溢出口时，釉浆经溢流管流向副釉缸过筛网过筛流回副釉缸，主釉缸与副釉缸之间组成一个小循环系统。此小循环系统可以很好的解决釉浆的触变问题，釉浆触变原因是缺乏流动，主釉缸釉浆在釉缸中搅拌，上层流动慢的釉浆经溢流管流向副釉缸过筛网过筛流回副釉缸，副釉缸搅拌好的釉浆过筛后补充回主釉缸，这样就能保证主釉缸中上下层釉浆都处于循环状态，以解决釉浆触变问题，主釉缸釉浆在溢流管的溢流作用下，釉浆液面可以保持稳定，主釉缸釉泵对釉浆抽压就稳定，主釉缸釉泵对釉浆抽压稳定对整个淋釉系统起到稳定的基石作用。主釉缸对外界落下的有机杂质和少量釉皮，可随上层釉浆经溢流管流到副釉缸过筛网过筛除去，副釉缸输送到主釉缸的釉也经过过筛处理，这样可以保证主釉缸釉浆干净液面稳定，对后续淋釉提供保证！釉斗溢多的一部分回釉与淋釉钟罩流下的多余釉料都经过筛处理后流回副釉缸，副釉缸有三处回釉口、一处抽釉口可以保证其釉浆的搅拌的均匀性。随着生产的进行，主釉缸釉浆液位可以保持不变，生产用去的釉浆会在副釉缸下降的釉液位体现出来，随着副釉缸液位的下降，可以往副釉缸中添加新的釉料，添加过程需经过筛处理，整个添加过程对主釉缸没有影响。所述方法采用的釉缸为设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸，该釉缸的缸壁部分全部采用双层设计，内、外缸壁之间的冷却通道采用镙旋形分隔层分隔成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种组合淋釉装置，包含主釉缸（5），主釉缸釉泵（3），主釉泵输釉管（20），淋釉斗（19），回釉管（18），淋釉钟罩（17），集釉管（14），主釉缸釉泵（3）具有第一泄流孔（8‑1），集釉管（14）上连接一集釉斗（15），其特征在于，还包含：一副釉缸（12）及与之配合的副釉缸釉泵（16），副釉缸釉泵（16）具有第二泄流孔（8‑2）；一副釉泵输釉管（13），其入口端设置于副釉缸（12）内，出口端延伸至主釉缸（5）；所述副釉缸（12）内的釉浆（9）通过副釉缸釉泵（16）及副釉泵输釉管（13）输送入至主釉缸（5）内；一溢流管（11），其入口端设置于主釉缸（5）的靠近顶部位置，出口端延伸至副釉缸（12），主釉缸（5）内釉浆（9）通过溢流管（11）回流至副釉缸（12）；所述回釉管（18）延伸至副釉缸（12）；所述集釉管（14）延伸至副釉缸（12）。

【技术特征摘要】
1.一种组合淋釉装置，包含主釉缸（5），主釉缸釉泵（3），主釉泵输釉管（20），淋釉斗（19），回釉管（18），淋釉钟罩（17），集釉管（14），主釉缸釉泵（3）具有第一泄流孔（8-1），集釉管（14）上连接一集釉斗（15），其特征在于，还包含：一副釉缸（12）及与之配合的副釉缸釉泵（16），副釉缸釉泵（16）具有第二泄流孔（8-2）；一副釉泵输釉管（13），其入口端设置于副釉缸（12）内，出口端延伸至主釉缸（5）；所述副釉缸（12）内的釉浆（9）通过副釉缸釉泵（16）及副釉泵输釉管（13）输送入至主釉缸（5）内；一溢流管（11），其入口端设置于主釉缸（5）的靠近顶部位置，出口端延伸至副釉缸（12），主釉缸（5）内釉浆（9）通过溢流管（11）回流至副釉缸（12）；所述回釉管（18）延伸至副釉缸（12）；所述集釉管（14）延伸至副釉缸（12）。2.如权利要求1所述的组合淋釉装置，其特征在于：所述主釉缸（5）和副釉缸（12）均为包含釉缸外壁（22）和釉缸内壁（24）的双层结构；所述釉缸外壁（22）和釉缸内壁（24）之间设置有镙旋形分隔层（26）并形成有镙旋形冷却液通道（23）；所述镙旋形冷却液通道（23）的入口（7）设在釉缸缸体底部外壁上，出口（6）设在釉缸缸体外壁上部与外界相通。3.如权利要求2所述的组合淋釉装置，其特征在于：所述主釉缸（5）设置有第一过筛网（4-1），所述副釉泵输釉管（13）的出口端与之相对；所述副釉缸（12）设置有第二过筛网（4-2）和第三过筛网（4-3），所述溢流管（11）的出口端与第二过筛网（4-2）相对，所述回釉管（18）和集釉管（14）的出口端与之相对。4.如权利要求2所述的组合淋釉装置，其特征在于：所述主釉缸（5）和副釉缸（12）底部均设有底部固定凹口（25），该底部固定凹口（25）呈圆形分散布置，底部固定凹口尺寸大于釉泵支撑脚面大小。5.一种釉浆恒温淋釉稳...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶德林，洪卫，李辉，黄诗程，谢石长，
申请(专利权)人：佛山市三水新明珠建陶工业有限公司，广东新明珠陶瓷集团有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44