The invention discloses a method for preparing a high performance copper electroforming layer with a low copper sulfate concentration of zero additive. This method without using any additives, with very low concentration and high acid concentration increase the cathodic polarization and solution dispersion ability, obtain a copper concentration range of preparation of superior mechanical properties of electroformed copper layer at low copper concentration region. The cathode current density can be increased by using a liquid flushing fixture with an anode, and the cathode polarization can be further improved by increasing the cathode current density. The 526MPa is the highest tensile strength of copper electroforming layer prepared by the invention, the extension of the copper layer rate was 30%; the highest elongation of electroformed copper layer prepared by the invention of the rate of up to 43%, while the tensile strength of the copper layer is 216MPa. With high strength and high elongation of copper electroforming greatly improve the reliability and service life of the device.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及了一种电铸铜层方法,更确切的说,利用零添加剂的酸性硫酸盐溶液制备具综合力学性能较好的电铸铜层,属电铸加工领域。
技术介绍
电铸技术是一种精密特种加工方法,其具有极高的复制精度和重复精度,尤其是能准确复制出芯模的表面形貌,容易得到零件的多层结构,用以制造传统加工技术难以制造或制造成本很高的各种精密、异型、复杂、微细金属零部件。电铸铜由于具有纯度高、晶粒细化、优良的导电性和导热性及延展性,在航空、军工产品、仪器仪表、塑料、精密机械、模具制造、电子工业及纳米材料制备等方面获得广泛应用。铜的力学性能与铜的使用寿命息息相关,高的力学性能能大大提高零件的使用寿命。常规的电铸铜采用酸性硫酸盐溶液,硫酸铜的浓度为200-240g/L,抗拉强度在200MPa左右,延伸率在20%左右。一般情况下,强度随着硫酸铜浓度的提高而下降,延伸率趋势则相反。为了提高电铸铜的力学性能,利用辅助手段辅助电沉积是一种常用的工艺方法,其中超声波辅助电沉积是常用的工艺方法。研究表明超声波辅助电沉积制备的电铸铜层的抗拉强度大大提高,但是延伸率却降低。在电铸液中添加微量的添加剂是另一种常用的工艺方法,利用整平剂、光亮剂等来消除针孔,提高阴极极化,细化电铸层晶粒,使沉积层光滑平整,改善电铸层的力学性能。研究表明,在酸性硫酸盐电铸铜溶液中加入一种HM的添加剂,制得的电铸铜层在没有经过热处理时,抗拉强度为214MPa,延伸率为52%。但是电铸层需要很厚时,在长时间的电铸过程中许多添加剂会有明显消耗,电铸液成分发生变化,从而影响电铸层的质量,电铸液的维护非常困难。综上基于电铸铜工艺的不足之处, ...
【技术保护点】
一种零添加剂极低硫酸铜浓度制备高力学性能电铸铜层方法,其特征在于包括以下过程:直流电源(1)正、负极分别与阳极(2)、工件(3)相连;在电铸过程中工件(3)保持运动;调节电铸电流密度为0.1‑0.5A/dm2,调节电铸液温度为28‑32℃,电铸液由硫酸铜、硫酸和去离子水混合而成,其中硫酸铜浓度为30‑60g/ L,硫酸浓度为168‑172g/L;所述的工件运动包括工件平动、转动、或转动与平动的复合运动。
【技术特征摘要】
1.一种零添加剂极低硫酸铜浓度制备高力学性能电铸铜层方法,其特征在于包括以下过程:直流电源(1)正、负极分别与阳极(2)、工件(3)相连;在电铸过程中工件(3)保持运动;调节电铸电流密度为0.1-0.5A/dm2,调节电铸液温度为28-32℃,电铸液由硫酸铜、硫酸和去离子水混合而成,其中硫酸铜浓度为30-60g/L,硫酸浓度为168-172g/L;所述的工件运动包括工件平动、转动、或转动与平动的复合运动。2.一种零添加剂极低硫酸铜浓度制备高力学性能电铸铜层方法,其特征在于包括以下过程:直流电源(1)正、负极分别于阳极(2)、工件(3)相连;在电铸过程中工件(3)保持运动;调节电铸液温度为28-32℃,电铸液由硫酸铜、硫酸和去离子水混合而成,其中硫酸铜浓度为20-6...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱增伟,沈春健,朱荻,
申请(专利权)人:南京航空航天大学,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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