一种5道清洗硅片下料装置制造方法及图纸

技术编号:15166916 阅读:141 留言:0更新日期:2017-04-13 12:53
本实用新型专利技术公开了一种5道清洗硅片下料装置,包括底板,底板上从一侧到另一侧依次设有第一硅片输送机,第二硅片输送机以及第三硅片输送机;其中,第二硅片输送机位于第一硅片输送机和第三硅片输送机中间,用于向第一硅片输送机或者第三硅片输送机输送硅片。本实用新型专利技术将中间硅片料片单独加一段输送机,实现2+1+2结构,左右均可输送的目的,结构同样简单紧凑同时还增加了产能。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及太阳能硅片清洗下料装置,特别是一种5道清洗硅片下料装置
技术介绍
生产硅片清洗下料工艺中,硅片同时以5片或者8片排列进入清洗设备中,清洗后硅片同时是已5片或8片排列出硅片,因5片是单数,出料分为左右,故是3+2结构样式,硅片3+2结构导致硅片收集一边堆叠,一边闲置,虽机构简单紧凑但产能过低,无法满足生产需求。
技术实现思路
技术目的:本技术所要解决的技术问题是针对现有技术的不足,提供一种5道清洗硅片下料装置。为了解决上述技术问题,本技术公开了一种5道清洗硅片下料装置,包括底板,底板上从一侧到另一侧依次设有第一硅片输送机,第二硅片输送机以及第三硅片输送机;其中,第二硅片输送机位于第一硅片输送机和第三硅片输送机中间,用于向第一硅片输送机或者第三硅片输送机输送硅片。本技术中,所述底板下方设有抬升气缸。本技术中,所述抬升气缸为两个,分别位于第一硅片输送机和第三硅片输送机中下方的底板下方。本技术中,所述第一硅片输送机为两列式硅片输送机。本技术中,所述第二硅片输送机为一列式硅片输送机。本技术中,所述第三硅片输送机为两列式硅片输送机。有益效果:本技术将中间硅片料片单独加一段输送机,实现2+1+2结构,左右均可输送的目的,结构同样简单紧凑同时还增加了产能。附图说明下面结合附图和具体实施方式对本技术做更进一步的具体说明,本技术的上述和/或其他方面的优点将会变得更加清楚。图1为实施例侧视图。图2为实施例使用状态俯视图。具体实施方式本技术公开了一种5道清洗硅片下料装置,包括底板,底板上从一侧到另一侧依次设有第一硅片输送机,第二硅片输送机以及第三硅片输送机;其中,第二硅片输送机位于第一硅片输送机和第三硅片输送机中间,用于向第一硅片输送机或者第三硅片输送机输送硅片。所述底板下方设有抬升气缸。所述抬升气缸为两个,分别位于第一硅片输送机和第三硅片输送机中下方的底板下方。所述第一硅片输送机为两列式硅片输送机。所述第二硅片输送机为一列式硅片输送机。所述第三硅片输送机为两列式硅片输送机。本技术输送中的硅片是从清洗机清洗后的硅片,要进行收集;当硅片输送到此新型机构中,两个抬升气缸同时供入气压,同时抬升,第一硅片输送机输送2张硅片收集到左侧硅片盒,第三硅片输送机输送2张硅片收集到右侧硅片盒,第二硅片输送机5通过硅片计数判断左右硅片盒哪一方空闲等待,即向哪一方输送1张硅片,再进入对应的硅片盒。经多次调试和改进此结构紧凑,改动量小,达到预期设备产能。实施例图1和图2中各个附图标记定义如下:1-抬升气缸1、2-抬升气缸2、3-底板、4-左侧2硅片输送机、5-中间1硅片输送机、6-右侧2硅片输送机,71左侧硅片,72-中间硅片,73-右侧硅片。如图1和图2所示,本实施例中抬升气缸1与抬升气缸2固定在设备机架上,底板3与气缸活塞杆相连,左侧2硅片输送机4、中间1硅片输送机5、右侧2硅片输送机6固定在底板3上,抬升气缸1与抬升气缸2同时抬升,带动底板3、左侧2硅片输送机4、中间1硅片输送机5、右侧2硅片输送机6升降。本实施例中5道硅片进入此新型装置后抬升气缸1与抬升气缸2同时供入气压,通入气压在0.4~0.6Mpa,同时抬升后,抬升高度由硅片进入左右侧输送机的高度决定,左侧硅片输送机4、右侧硅片输送机5、中间硅片输送机6均有伺服电机控制,可调节速度。左侧硅片输送机4输送2张左侧硅片71收集到左侧硅片盒,右侧硅片输送机5输送2张右侧硅片73收集到右侧硅片盒,中间硅片输送机6判断左右那边闲置往那边输送1张中间硅片72。本实施例将中间料片单独加一段输送机,实现2+1+2结构,左右均可输送的目的,结构同样简单紧凑同时还增加了产能。本技术提供了一种5道清洗硅片下料装置,具体实现该技术方案的方法和途径很多,以上所述仅是本技术的优选实施方式,应当指出,对于本
的普通技术人员来说,在不脱离本技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。本实施例中未明确的各组成部分均可用现有技术加以实现。本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种5道清洗硅片下料装置,其特征在于,包括底板,底板上从一侧到另一侧依次设有第一硅片输送机,第二硅片输送机以及第三硅片输送机;其中,第二硅片输送机位于第一硅片输送机和第三硅片输送机中间,用于向第一硅片输送机或者第三硅片输送机输送硅片。

【技术特征摘要】
1.一种5道清洗硅片下料装置,其特征在于,包括底板,底板上从一侧到另一侧依次设有第一硅片输送机,第二硅片输送机以及第三硅片输送机;其中,第二硅片输送机位于第一硅片输送机和第三硅片输送机中间,用于向第一硅片输送机或者第三硅片输送机输送硅片。2.根据权利要求1所述的一种5道清洗硅片下料装置,其特征在于,所述底板下方设有抬升气缸。3.根据权利要求2所述的一种5道清洗硅片下料装置,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:张弛王志刚
申请(专利权)人:南京卓胜自动化设备有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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