新的除草剂制造技术

式Ⅰ的化合物或这种化合物的可农用盐／异构体／对映异构体／互变异构体　　　　＊＊＊　　（Ⅰ）　　　　其中　　　　Ｙ为氢、ＮＲ↓［４ａ］、硫、磺酰基、亚磺酰基、Ｃ（Ｏ）、Ｃ（＝ＮＲ↓［４ｂ］）、Ｃ（＝ＣＲ↓［６ａ］Ｒ↓［６ｂ］）或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］亚烷基或Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］亚烯基链，所述基团可以被氧、ＮＲ↓［５ａ］、硫、磺酰基、亚磺酰基、Ｃ（Ｏ）或Ｃ（＝ＮＲ↓［５ｂ］）间断和／或被Ｒ↓［６］一或多取代；　　　　Ａ↓［１］为氮或ＣＲ↓［７］；　　　　Ａ↓［２］为氮或ＣＲ↓［８］；　　　　Ｒ↓［１］、Ｒ↓［２］、Ｒ↓［６］、Ｒ↓［７］和Ｒ↓［８］彼此独立地为氢、羟基、巯基、ＮＯ↓［２］、氰基、卤素、甲酰基、氧亚氨基亚甲基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基亚氨基亚甲基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］链烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤代链烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］炔基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤代炔基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷氧基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］链烯氧基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］炔氧基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］氧杂环烷基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］硫杂环烷基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］二氧杂环烷基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］二硫杂环烷基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］氧杂硫杂环烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基羰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基羰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基羰氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基羰氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］－烷基磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基亚磺酰基、ＮＲ↓［９］Ｒ↓［１０］、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基、三（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基）甲硅烷基、二（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基）－苯基甲硅烷基、三（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基）甲硅烷氧基、二（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基）苯基甲硅烷氧基或Ａｒ↓［１］；　　　　或者Ｒ↓［１］、Ｒ↓［２］、Ｒ↓［６］、Ｒ↓［７］、Ｒ↓［８］彼此独立地为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］链烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］炔基或Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基，所述基团可被以下基团间断：氧、硫、磺酰基、亚磺酰基、－ＮＲ↓［１１］－或－Ｃ（Ｏ）－和／或被以下基团一、二或三取代：羟基、巯基、ＮＯ↓［２］、氰基、卤素、甲酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］链烯氧基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］炔氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基羰氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基羰氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基－羰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基羰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基亚磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基磺酰基、ＮＲ↓［１２］Ｒ↓［１３］、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］链烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］炔基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基、三（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基）甲硅烷基、三（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基）－甲硅烷氧基或Ａｒ↓［２］；　　　　或者在相同碳原子上的两个取代基Ｒ↓［６］一起形成－ＣＨ↓［２］Ｏ－或Ｃ↓［２］－Ｃ↓［５］亚烷基链，所述基团可能被氧、硫、亚磺酰基或磺酰基间断一次或两次和／或被Ｒ↓［６ｃ］一或多取代，条件是两个杂原子不能处在相邻的位置；　　　　或者在不同碳原子上的两个取代基Ｒ↓［６］一起形成氧桥或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］亚烷基链，所述基团可以进而被Ｒ↓［６ｃ］取代；　　　　或者Ｒ↓［７］和Ｒ↓［８］一起形成－ＣＨ↓［２］ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＨ＝ＣＨ－或－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝ＣＨ－桥或Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］亚烷基链，所述基团可以被氧或－Ｓ（Ｏ）↓［ｎ１］－间断和／或被Ｒ↓［６ｄ］一或多取代；　　　　Ｒ↓［３］为羟基、卤素、巯基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基亚磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］卤代烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］卤代烷基亚磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］卤代烷基磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基亚磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基磺酰基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］链烯硫基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］－炔硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷硫基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷硫基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］链烯硫基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基－羰基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基羰基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基亚磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基羰基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基磺酰基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］环烷硫基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］环烷基亚磺酰基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］环烷基磺酰基、苯基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷硫基、苯基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基亚磺酰基、苯基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基磺酰基、Ｓ（Ｏ）↓［ｎ１］－Ａｒ↓［３］、苯硫基、苯基亚磺酰基、苯基磺酰基，所述含苯基的基团可以被一个或多个以下基团取代：Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］卤代烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］卤代烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基羰基、卤素、氰基、羟基或硝基；　　　　或者Ｒ↓［３］为Ｏ↑［－］Ｍ↑［＋］，其中Ｍ↑［＋］为碱金属阳离子或铵阳离子；　　　　Ｑ是原子团　　　　＊＊＊　　　　ｐ↓［１］、ｐ↓［２］和ｐ↓［３］为０或１；　　　　ｍ↓［１］、ｍ↓［２］和ｍ↓［３］为１、２或３；　　　　Ｘ↓［１］、Ｘ↓［２］和Ｘ↓［３］为羟基、卤素、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］链烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤代链烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］炔基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤代炔基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基亚磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷基亚磺酰基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷基磺酰基；　　　　Ｚ↓［１］、Ｚ↓［２］和Ｚ↓［３］为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基，所述基团被以下取代基取代：被卤素、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基取代的Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］环烷基或Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］环烷基；被Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基取代的环氧乙烷基或环氧乙烷基；被Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基取代的３－环氧丁烷基或３－环氧丁烷基；被Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基取代的３－环氧丁烷氧基或３－环氧丁烷氧基；被卤素、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］－烷氧基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基取代的Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷氧基或Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］环烷氧基；Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷氧基；Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基磺酰氧基；Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷基－磺酰氧基；苯基磺酰氧基；苄基磺酰氧基；苯甲酰氧基；苯氧基；苯硫基；苯基－亚磺酰基；苯基磺酰基；Ａｒ↓［１０］；ＯＡｒ↓［１２］；三（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基）甲硅烷基或三（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基）甲硅烷氧基，含苯基的基团可以被以下基团一或多取代：Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］卤代烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］卤代烷氧基、卤素、氰基、羟基或硝基；　　　　或者Ｚ↓［１］、Ｚ↓［２］和Ｚ↓［３］为３－环氧丁烷基；被Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基取代的３－环氧丁烷基；被卤素、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基取代的Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基；三（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基）甲硅烷基；三（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基）甲硅烷氧基或ＣＨ＝Ｐ（苯基）↓［３］；　　　　或Ｚ↓［１］、Ｚ↓［２］和Ｚ↓［３］为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］链烯基或Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］炔基，所述基团被氧、－Ｏ（ＣＯ）－、－（ＣＯ）Ｏ－、－Ｏ（ＣＯ）Ｏ－、－Ｎ（Ｒ↓［１４］）Ｏ－、－ＯＮＲ↓［１５］－、硫、亚磺酰基、磺酰基、－ＳＯ↓［２］ＮＲ↓［１６］－、－ＮＲ↓［１７］ＳＯ↓［２］－或－ＮＲ↓［１８］－间断并被Ｌ↓［１］一或多取代；Ｌ↓［１］可以结合在Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］链烯基或Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］炔基的末端碳原子上；　　　　或者Ｚ↓［１］、Ｚ↓［２］和Ｚ↓［３］为氢、羟基、巯基、ＮＯ↓［２］、氰基、卤素、甲酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］链烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤代链烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］炔基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤代炔基、Ｃ↓［１（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及新的具有除草活性的烟酰基衍生物，它们的制备方法，包含这些化合物的组合物，和它们在控制杂草，特别是有用植物的收成，或者抑制植物生长中的应用。例如，在WO00/15615和WO01/94339中描述了具有除草作用的烟酰基衍生物。我们现已发现，具有除草和生长抑制性能的新的烟酰基衍生物，其结构的特异之处是双环辛-3-烯-2-酮、双环壬-3-烯-2-酮、8-氧杂-双环-辛-3-烯-2-酮、8-氮杂-双环辛-3-烯-2-酮、8-硫杂-双环辛-3-烯-2-酮和双环辛-3-烯-2，8-二酮基团的6，7-位的双键。WO00/15615涉及某些这类化合物，但没有具体公开这些化合物。WO01/66522包括作为制备芳酰基酮的中间产物的具有双环辛-3-烯-2-酮的吡啶酮。其中没有提及具有除草作用的那些化合物。因此，本专利技术涉及式I的化合物 其中Y为氧、NR4a、硫、磺酰基、亚磺酰基、C(O)、C(＝NR4b)、C(＝CR6aR6b)或C1-C4亚烷基或C2-C4亚烯基链，所述基团可以被氧、NR5a、硫、磺酰基、亚磺酰基、C(O)或C(＝NR5b)间断和/或被R6一或多取代；A1为氮或CR7；A2为氮或CR8；R1、R2、R6、R7和R8彼此独立地为氢、羟基、巯基、NO2、氰基、卤素、甲酰基、氧亚氨基亚甲基、C1-C6烷氧基亚氨基亚甲基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C3-C6链烯氧基、C3-C6炔氧基、C3-C6氧杂环烷基、C3-C6硫杂环烷基、C3-C6二氧杂环烷基、C3-C6二硫杂环烷基、C3-C6氧杂硫杂环烷基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷基羰基、C1-C6烷氧基羰氧基、C1-C6烷基羰氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6-烷基磺酰基、C1-C6烷基亚磺酰基、NR9R10、C3-C6环烷基、三(C1-C6烷基)甲硅烷基、二(C1-C6烷基)-苯基甲硅烷基、三(C1-C6烷基)甲硅烷氧基、二(C1-C6烷基)苯基甲硅烷氧基或Ar1；或者R1、R2、R6、R7、R8彼此独立地为C1-C6烷基、C2-C6链烯基、C2-C6炔基或C3-C6环烷基，所述基团可被以下基团间断氧、硫、磺酰基、亚磺酰基、-NR11-或-C(O)-和/或被以下基团一、二或三取代羟基、巯基、NO2、氰基、卤素、甲酰基、C1-C6烷氧基、C3-C6链烯氧基、C3-C6炔氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C2烷氧基-C1-C2烷氧基、C1-C4烷氧基羰氧基、C1-C4烷基羰氧基、C1-C4烷氧基-羰基、C1-C4烷基羰基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、NR12R13、C1-C6烷基、C2-C6链烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、三(C1-C6烷基)甲硅烷基、三(C1-C6烷基)-甲硅烷氧基或Ar2；或者在相同碳原子上的两个取代基R6一起形成-CH2O-或C2-C5亚烷基链，所述基团可能被氧、硫、亚磺酰基或磺酰基间断一次或两次和/或被R6c一或多取代，条件是两个杂原子不能处在相邻的位置；或者在不同碳原子上的两个取代基R6一起形成氧桥或C1-C4亚烷基链，所述基团可以进而被R6c取代；或者R7和R8一起形成-CH2CH＝CH-、-OCH＝CH-或-CH＝CH-CH＝CH-桥或C3-C4亚烷基链，所述基团可以被氧或-S(O)n1-间断和/或被R6d一或多取代；R3为羟基、卤素、巯基、C1-C8烷硫基、C1-C8烷基亚磺酰基、C1-C8烷基磺酰基、C1-C8卤代烷硫基、C1-C8卤代烷基亚磺酰基、C1-C8卤代烷基磺酰基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷硫基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基磺酰基、C3-C8链烯硫基、C1-C3-炔硫基、C1-C4烷硫基-C1-C4烷硫基、C3-C4链烯硫基-C1-C4烷硫基、C1-C4烷氧基-羰基-C1-C4烷硫基、C1-C4烷氧基羰基-C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷氧基羰基-C1-C4烷基磺酰基、C3-C8环烷硫基、C3-C8环烷基亚磺酰基、C3-C8环烷基磺酰基、苯基-C1-C4烷硫基、苯基-C1-C4烷基亚磺酰基、苯基-C1-C4烷基磺酰基、S(O)n1-Ar3、苯硫基、苯基亚磺酰基、苯基磺酰基，所述含苯基的基团可以被一个或多个以下基团取代C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C4烷氧基羰基、卤素、氰基、羟基或硝基；或者R3为O-M+，其中M+为碱金属阳离子或铵阳离子；Q是原子团 或 其中p1、p2和p3为0或1；m1、m2和m3为1、2或3；X1、X2和X3为羟基、卤素、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6卤代烷硫基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基或C1-C6卤代烷基磺酰基；Z1、Z2和Z3为C1-C6烷基，所述基团被以下取代基取代被卤素、C1-C6烷基、C1-C3烷氧基或C1-C3烷氧基-C1-C3烷基取代的C3-C4环烷基或C3-C4环烷基；被C1-C6烷基或C1-C3烷氧基-C1-C3烷基取代的环氧乙烷基或环氧乙烷基；被C1-C6烷基、C1-C3烷氧基或C1-C3烷氧基-C1-C3烷基取代的3-环氧丁烷基或3-环氧丁烷基；被C1-C6烷基、C1-C3烷氧基或C1-C3烷氧基-C1-C3-烷基取代的3-环氧丁烷氧基或3-环氧丁烷氧基；被卤素、C1-C6烷基、C1-C3-烷氧基或C1-C3烷氧基-C1-C3烷基取代的C3-C6环烷氧基或C3-C4环烷氧基；C1-C6卤代烷氧基；C1-C6烷基磺酰氧基；C1-C6卤代烷基-磺酰氧基；苯基磺酰氧基；苄基磺酰氧基；苯甲酰氧基；苯氧基；苯硫基；苯基-亚磺酰基；苯基磺酰基；Ar10；OAr12；三(C1-C6烷基)甲硅烷基或三(C1-C6烷基)甲硅烷氧基，含苯基的基团可以被以下基团一或多取代C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、卤素、氰基、羟基或硝基；或者Z1、Z2和Z3为3-环氧丁烷基；被C1-C3烷氧基、C1-C3烷氧基-C1-C3烷基或C1-C6烷基取代的3-环氧丁烷基；被卤素、C1-C3烷基或C1-C3烷氧基-C1-C3烷基取代的C3-C6环烷基；三(C1-C6烷基)甲硅烷基；三(C1-C6烷基)甲硅烷氧基或CH＝P(苯基)3；或Z1、Z2和Z3为C1-C6烷基、C2-C6链烯基或C2-C6炔基，所述基团被氧、-O(CO)-、-(CO)O-、-O(CO)O-、-N(R14)O-、-ONR15-、硫、亚磺酰基、磺酰基、-SO2NR16-、-NR17SO2-或-NR18-间断并被L1一或多取代；L1可以结合在C1-C6烷基、C2-C6链烯基或C2-C6炔基的末端碳上；或者Z1、Z2和Z3为氢、羟基、巯基、NO2、氰基、卤素、甲酰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：R·比奥德格尼斯，A·埃德蒙斯，C·卢斯，R·G·霍尔，S·温德博恩，J·查策尔，
申请(专利权)人：辛根塔参与股份公司，
类型：发明
国别省市：