作为组蛋白脱乙酰酶(HDAC)抑制剂的异羟肟酸衍生物制造技术

技术编号:1514185 阅读:188 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
具有下式(Ⅰ)的化合物或其盐:其中R↑[1]是任选被一个或多个合适取代基取代的含N杂环,R↑[2]是羟氨基,R↑[3]是氢或合适的取代基,L↑[1]是任选被一个或多个合适取代基取代的-(CH↓[2])↓[n]-(其中n是0-6的整数),其中一个或多个亚甲基可被合适的杂原子置换,L↑[2]是低级亚烯基。所述化合物可用作组蛋白脱乙酰酶抑制剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及可用作药物的化合物,以及包含此化合物的药物组合物。
技术介绍
已知组蛋白脱乙酰酶(以下也称为HDAC)在调节基因表达的转录机制中起到主要的作用,能诱导组蛋白过度乙酰化及影响基因表达。因此,它可作为治疗性或预防性药物用于基因异常表达引起的疾病,例如炎性病症、糖尿病、糖尿病并发症、纯合子地中海贫血、纤维化、硬变、急性早幼粒细胞白血病(APL)、器官移植排斥、自身免疫性疾病、原生动物感染、肿瘤等。WO 01/38322公开了下式表示的组蛋白脱乙酰酶抑制剂Cy-L1-Ar-Y1-C(O)-NH-Z其中Cy是环烷基、芳基、杂芳基或杂环基,其各自均可任选被取代;L1是-(CH2)m-W-,其中m是0-4的整数,W选自-C(O)NH-、-S(O)2NH-等;Ar是任选被取代的亚芳基,其任选与芳基、杂芳环等稠合;Y1是化学键或直链或支链饱和亚烷基,其中所述亚烷基可任选被取代;Z选自苯胺基、吡啶基、噻二唑基和-O-M(其中M是H或药物可接受的阳离子)。WO 02/22577公开了作为脱乙酰酶抑制剂的以下异羟肟酸酯化合物或其药物可接受的盐 其中R1是H、卤素或直链C1-C6烷基;R2选自H、C1-C10烷基、C4-C9环烷基、C4-C9杂环烷基、C4-C9杂环烷基烷基、环烷基烷基、芳基、杂芳基等;R3和R4相同或不同,独立为H、C1-C6烷基、酰基或酰氨基,或R3和R4与它们所连接的碳一起代表C=O、C=S等,或R2与其连接的氮和R3与其连接的碳一起形成C4-C9杂环烷基、杂芳基、多杂芳基、非芳族聚杂环,或混合的芳基和非芳基聚杂环;R5选自H、C1-C6烷基等;n、n1、n2和n3相同或不同,独立选自0-6,当n1为1-6时,各个碳原子可任选独立被R3和/或R4取代;X和Y相同或不同,独立选自H、卤素、C1-C4烷基等。专利技术概述本专利技术涉及可用作药物的新型化合物,以及包含此化合物的药物组合物。更具体而言,本专利技术涉及对组蛋白脱乙酰酶活性具有有效抑制作用的化合物。本专利技术的专利技术人也发现,组蛋白脱乙酰酶抑制剂,例如式(I)化合物(以下称为化合物),具有有效的免疫抑制作用和有效的抗肿瘤作用。因此,组蛋白脱乙酰酶抑制剂如化合物可用作免疫抑制药物和抗肿瘤药物的活性成分,也可作为用于以下疾病的治疗性或预防性药物的活性成分炎性病症、糖尿病、糖尿病并发症、纯合子地中海贫血、纤维化、硬变、急性早幼粒细胞白血病(APL)、器官移植排斥、自身免疫性疾病、原生动物感染、肿瘤等。因此,本专利技术的一个目标是提供具有治疗和预防上述疾病的生物活性的化合物。本专利技术的又一个目标是提供包含作为活性成分的化合物的药物组合物。本专利技术还又一个目标是提供组蛋白脱乙酰酶抑制剂例如化合物在治疗和预防上述疾病中的用途。本专利技术还又一个目标是提供商品包装物,该商品包装物包括含有化合物的药物组合物以及所附的书面文件,该书面文件说明所述药物组合物可以或应该用于治疗或预防上述疾病。因此,本专利技术提供下式(I)化合物或其盐 其中R1是任选被一个或多个合适取代基取代的含N杂环,R2是羟氨基,R3是氢或合适的取代基,L1是任选被一个或多个合适取代基取代的-(CH2)n-(其中n是0-6的整数),其中一个或多个亚甲基可被合适的杂原子置换,L2是低级亚烯基。上述的化合物或其盐,其中R1是由以下各式表示的含N杂环 或 其中R4是氢或选自以下的基团(1)任选被二(低级)烷基氨基或羟基取代的低级烷基,(2)低级烷氧基,(3)任选被选自卤素、低级烷酰基、低级烷基磺酰基、低级烷氧基和二(低级)烷基氨基的取代基取代的芳基,(4)低级烷酰基,(5)低级烷氧基羰基,(6)芳基羰基,(7)芳基(低级)烷氧基,(8)任选被选自低级烷基、低级烷酰基和环烷基的取代基单取代或二取代的氨基,(9)卤代(低级)烷基,(10)芳氧基,(11)任选被羟基取代的芳基(低级)烷基,(12)羧基, (13)硝基,(14)氰基,(15)卤素,(16)杂芳基,(17)任选被低级烷基取代的非芳族杂环,(18)羟基,(19)(低级)烷基磺酰基氨基甲酰基,(20)非芳族杂环羰基;R5是氢或选自低级烷基和芳基(低级)烷基的基团,R6、R7和R8各自是氢或低级烷基,R9为氢或选自以下的基团(1)任选被二(低级)烷基氨基取代的低级烷基,(2)任选被低级烷氧基取代的芳基,(3)(低级)烷氧基羰基,(4)氰基,(5)任选被(低级)烷基单取代或二取代的氨基甲酰基,(6)卤素,(7)(低级)烷基羰基,(8)芳基羰基,(9)环(低级)烷基,R10是氢或选自以下的基团(1)(低级)烷基氨基甲酰基,(2)二(低级)烷基氨基甲酰基,(3)任选被卤素取代的芳基,(4)(低级)烷氧基羰基,(5)羧基,(6)非芳族杂环羰基,(7)卤素, (8)任选被羟基、(低级)烷氧基、非芳族杂环、芳基、二(低级)烷基氨基或卤素取代的(低级)烷基,(9)金刚烷基,R11是氢或芳基(低级)烷基,其中芳基部分被低级烷氧基取代,R12是氢或选自任选被卤素取代的低级烷基和芳基的基团,R13是氢或选自低级烷基和芳基的基团,R14是氢或低级烷基,R2是羟氨基,R3是氢或低级烷氧基,L1是任选被一个或多个选自低级烷基和芳基(低级)烷基的取代基取代的-(CH2)n-(其中n是1-5),其中一个亚甲基可以被氧原子置换,L2是1,2-亚乙烯基。上述的化合物,其中R1是下式表示的含N稠合杂环 其中R4和R5各自如上述中所定义。上述的化合物或其盐,其中R4和R5各自为氢,R2是羟氨基,R3是氢,L1是-CH2-,L2是1,2-亚乙烯基。上述的化合物,其中R1是下式表示的含N杂环 其中R9、R10和R11各自如上述中所定义。上述的化合物或其盐,其中R9是氢或任选被低级烷氧基取代的芳基,R10是氢或任选被卤素取代的芳基,R11是氢,R2是羟氨基,R3是氢,L1是-CH2-,L2是1,2-亚乙烯基。下式化合物或其盐 或 具有下式(I′)的化合物或其盐 其中R1是任选被一个或多个合适取代基取代的含N稠合杂环,R2是羟氨基,R3是氢或合适的取代基,L1是任选被一个或多个合适取代基取代的-(CH2)n-(其中n是0-6的整数),其中一个或多个亚甲基可被合适的杂原子置换,L2是低级亚烯基。上述的化合物或其盐,其中R1是下式表示的含N稠合杂环 或 其中R4是氢或选自以下的基团(1)低级烷基,(2)低级烷氧基,(3)任选被选自卤素、低级烷酰基、低级烷基磺酰基、低级烷氧基和二(低级)烷基氨基的取代基取代的芳基,(4)低级烷酰基,(5)低级烷氧基羰基,(6)芳基羰基,(7)芳基(低级)烷氧基,(8)任选被选自低级烷基、低级烷酰基和环烷基的取代基单取代或二取代的氨基,(9)卤代(低级)烷基,(10)芳氧基,(11)任选被羟基取代的芳基(低级)烷基,(12)羧基, (13)硝基,(14)氰基,(15)卤素,(16)杂芳基,(17)任选被低级烷基取代的非芳族杂环,R5是氢或选自低级烷基和芳基(低级)烷基的基团,R6、R7和R8各自为氢或低级烷基,R2是羟氨基,R3是氢或低级烷氧基,L1是任选被一个或多个选自低级烷基和芳基(低级)烷基的取代基取代的-(CH2)n-(其中n是1或2),其本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有下式(Ⅰ)的化合物或其盐:***(Ⅰ)其中R↑[1]是任选被一个或多个合适取代基取代的含N杂环,R↑[2]是羟氨基,R↑[3]是氢或合适的取代基,L↑[1]是任选被一个或多个合适取 代基取代的-(CH↓[2])↓[n]-(其中n是0-6的整数),其中一个或多个亚甲基可被合适的杂原子置换,L↑[2]是低级亚烯基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:浦野泰治佐藤茂树石桥直树上条一纪
申请(专利权)人:安斯泰来制药有限公司
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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