本发明专利技术涉及一种制备头孢类抗生素的新方法。该方法涉及先将起始原料7-氨基-3-羟甲基头孢烷酸的C7位酰化,然后用产品所需的相应酯基团酯化C2位上的羧基,再将所得产物的C3位功能化。采用本发明专利技术方法减少了反应步骤、提高了合成总收率、降低了成本,同时也减少了化学物质对环境的污染。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及。
技术介绍
目前已经上市、供临床上应用的头孢类抗生素,都是半合成头孢菌素,除7-ADCA(1)系列口服头孢菌素如头孢氨苄(Cefalexin)(1a)、头孢羟氨苄(Cefadroxil)(1b)、头孢拉啶(Cephradine)(1c)、头孢他美酯(Cefetamet pivoxil)(1d)等,以及7-ACA(2)系列的C3-位具醋酸甲酯基团的头孢菌素如头孢噻吩(Cephalothin)(2a)、头孢氨噻肟(Cefotaxime)(2b)、头孢硫脒(Cefathiamidine)(2c)外,其他的各种头孢菌素均为在C3-位具有不同基团取代的头孢菌素,它们大体上可分为1.C3-位含硫代甲基取代的头孢菌素,如头孢唑啉(Cefazoline)(3a)、头孢哌酮(Cefoperazone)(3b)、头孢三嗪(Ceftriaxone)(3c)等;2.C3-位含氮甲基取代的头孢菌素,如头孢他啶(Ceftazidime)(4a)、头孢吡肟(Cefepime)(4b)、头孢特仑酯(Cefteram pivoxil)(4c)、头孢匹罗(Cefpirom)(4d)、头孢唑兰(Cefozopran)(4e)、头孢瑟利(Cefoselis)(4f)等;3.C3-位含双键取代的头孢菌素,如头孢地尼(Cefdinir)(5a)、头孢克肟(Cefixime)(5b)、头孢地托仑酯(Cefditoren pivoxil)(5c)、头孢普昔(Cefprozil)(5d)等;4.C3-位含醚基取代的头孢菌素,如头孢泊肟酯(Cefpodoxime proxetil)(6a)等;5.C3-位含氨基甲酸酯取代的头孢菌素,如头孢呋辛(Cefuroxime)(6b)及其酯(Cefuroxime axetil)(6c)、头孢卡品新戌酯(Cefcapene pivoxil)(6d)等。上述化合物的结构式可参见下表(其中的编号在本说明书中通用) 表1.7-ADCA系列的头孢类抗生素 表2.7-ACA系列的头孢类抗生素 表3.C3位含硫代甲基的头孢菌素 表4.C3位含氮甲基取代的头孢菌素 表5.C3位含双键取代的头孢菌素 表6.C3位含醚基取代(6a)或氨基甲酸酯取代(6b-6d)的头孢菌素 表7.作为头孢菌素制备起始原料的其它化合物 其中,GCLE=对甲氧基苄基-7-((苯基乙酰基)氨基)-3-氯代甲基-3-头孢(cephem)-4-羧酸酯;GCLH=二苯基甲基-7-((苯基乙酰基)氨基)-3-氯代甲基-3-头孢-4-羧酸酯;ACLE=对甲氧基苄基-7-氨基-3-氯代甲基-3-头孢-4-羧酸酯;ACLH=二苯基甲基-7-氨基-3-氯代甲基-3-头孢-4-羧酸酯。所述头孢菌素的合成方法有多种多样,归纳主要的合成方法有以下几类1.C3-位含硫的目前国内生产上应用的都是以7-ACA(2)为起始原料,先在C3-位接上含硫的基团,然后在C7-位上进行酰化反应,将所需的侧链接上去,制得成品。可参见J.Antibiot.,1970,23,131;J.Antibiot.,1980,33,783。2.C3-位含氮甲基的目前国内生产的有以下方法以7-ACA(2)为起始原料,先将7-位氨基和2-位羧基采用易脱除的保护基先行保护后,进行C3-位含氮化合物取代反应,然后脱除保护基,游离出氨基,将所需的侧链缩合上去,制得成品。也有采用GCLE(7a)、GCLH(7b)为起始原料,利用C3-位氯甲基上氯的化学活泼性,先进行C3-位含氮化合物取代反应,然后裂解断除C7-位苯乙酰基,游离出氨基,将所需的侧链缩合上去,最后除去C2位羧基保护基团制得成品。若采用ACLE(7c)、ACLH(7d)为起始原料,则先将C7-位氨基保护,然后采用与以GCLE(7a)、GCLH(7b)为起始原料类似的方法,进行C3-位含氮化合物取代反应,然后脱除保护基,游离出氨基,将所需的侧链缩合上去,最后除去C2位羧基保护基团制得成品。可参见日本公开特许公报平4-173792;美国专利5831085;EP 397804;德国专利3137854;EP203271;EP64740。3.C3-位含双键的目前国内生产的一般都使用GCLE(7a)、GCLH(7b)为起始原料〔或使用ACLE(7c)、ACLH(7d)为起始原料〕,利用C3-位氯甲基上氯的化学活泼性,先进行C3-位碘代反应,以碘原子取代氯原子而再增强其化学反应性,以此进行Wittig反应,引入双键。其后类同上述反应,游离出氨基,进行C7-位所需基团的酰化反应,最后去除保护基,制得成品。可参见J.Antibiot.,1988,41,828,1602,1873,1888,1896;J.Antibiot.,1985,33,1738;J.Antibiot.,1985,38,1738;J.Antibiot.,1993,46,359;EP 30630;EP 175610;US 4423213。4.C3-位含醚基或含氨基甲酸酯基的国内一般均使用7-ACA(2)为起始原料,在碱性条件下水解7-ACA(2)的C3-位醋酸酯,制得C3-羟甲基衍生物。不经分离直接进行C7-位取代反应或保护C7-位氨基,然后进行C3-位取代或加成反应,制得成品。若是口服酯类产品,最后用碘代物进行羧酸基酯化,即得产品。可参见US 3974153;日本公开特许公报昭60-260584;J.Antibiot.,1987,40(3)370;Synthetic communication,2003,33(14)2475。但是,采用现有的生产方法制备头孢类抗生素存在很多缺点,例如,原料纯度不高,在碱性条件下水解遇碱不稳定的7-ACA(2)而产生降解物质,从而影响转化率以及产物纯度;反应复杂,最终产品总收率低;所使用或产生的化学物质对环境产生污染等等。
技术实现思路
为克服本领域生产头孢类抗生素所遇到的问题,本专利技术一方面提供一种制备具有下式(I)结构的头孢菌素的方法 式中,R1为-C(O)-CR4R5,其中,R4、R5各自独立选自氨基、=N-O-C(CH3)2-COOH、=NOCH3、=NOH、=N-O-CH2-COOH、=CHCH2CH3、以及6-8元碳环基或含1-3个选自O、S、N的杂环原子的5-7元杂环基,其中,所述碳环基或杂环基可被选自羟基、氨基或卤素的基团取代;R2选自任选取代的5-12元含氮杂环基团,所述取代基选自C1-4烷基、氨基、羟烷基;或者R2选自C1-6烷氧基、氨酰基氧基;或者式I化合物C3位上的该-CH2R2基团为-CH=CHR2′基团,其中,R2′选自H、C1-4烷基或任选取代的噻唑基,其中,噻唑基可被C1-4烷基、氨基或卤素取代;R3选自H或任选取代的C1-4烷基,所述烷基可被-OOC-C1-4烷基、-O-C(O)-O-C1-4烷基取代; 所述制备方法包括(1)在碱性条件下,将式(IIa)化合物 与R1COA反应,将式(IIa)化合物的C7位酰化,得到下式(II)产物,其中,A选自F、Cl、Br、I、-S-苯并噻唑或-O-含氮杂环,所述含氮杂环选自 或 M+为钾离子或钠离子 (2)将式II化合物与R3X反应,使式II化合物C本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种制备具有下式(Ⅰ)结构的头孢菌素的方法:***(Ⅰ)式中,R↓[1]为-C(O)-CR↓[4]R↓[5],其中,R↓[4]、R↓[5]各自独立选自氨基、=N-O-C(CH↓[3])↓[2]-COOH、=NOC H↓[3]、=NOH、=N-O-CH↓[2]-COOH、=CHCH↓[2]CH↓[3]、以及6-8元碳环基或含1-3个选自O、S、N的杂环原子的5-7元杂环基,其中,所述碳环基或杂环基可被选自羟基、氨基或卤素的基团取代;R↓[2]选 自任选取代的5-12元含氮杂环基团,所述取代基选自C↓[1-4]烷基、氨基、羟烷基;或者R↓[2]选自C↓[1-6]烷氧基、氨酰基氧基;或者式Ⅰ化合物C3位上的该-CH↓[2]R↓[2]基团为-CH=CHR↓[2′]基团,其 中,R↓[2′]选自H、C↓[1-4]烷基或任选取代的噻唑基,其中,噻唑基可被C↓[1-4]烷基、氨基或卤素取代;R↓[3]选自H或任选取代的C↓[1-4]烷基,所述烷基可被-OOC-C↓[1-4]烷基、-O-C(O)-O-C↓[1 -4]烷基取代;所述制备方法包括:(1)在碱性条件下,将式(Ⅱa)化合物***(Ⅱa)与R↓[1]COA反应,将式(Ⅱa)化合物的C7位酰化,得到下式(Ⅱ)产物,其中,A选自F、Cl、Br、I、-S-苯并 噻唑或-O-含氮杂环,所述含氮杂环选自***,M↑[+]为钾离子或钠离子:***(Ⅱ);(2)将式Ⅱ化合物与R↓[3]X反应,使式Ⅱ化合物C2位的羧酸基酯化;(3)通过以下反应,使步骤(2)所得的产物的C3位功能 化,从而得到式(Ⅰ)结构的头孢菌素;(3-1)将步骤(2)所得的产物与取代异氰酸酯反应;(3-2)先将步骤(2)所得的产物与卤化剂反应,所得产物再与R↓[2′]CHO或R↓[2]H反应,其中R↓[2]为所述含氮杂环基团;或 (3-3)先将步骤(2)所得的产物与卤化剂反应,所得产物与R↓[2]H反应,或将步骤(2)所得的产物在氯化钙催化剂下与R↓[2]H反应,其中R↓[2]选自所述C↓[1-6]烷氧基;其中,X为卤素,R↓[1]、R↓[3]和R↓[ 2′]定义同上。...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:撒应福,任秉钧,
申请(专利权)人:浙江震元制药有限公司,上海卢湾区光陆技贸有限公司,
类型:发明
国别省市:33[中国|浙江]
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