一种半透膜膜元件清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种半透膜膜元件的清洗装置，包含清洗水箱T1、膜元件静置箱T2、清洗液加药系统和清洗液回流系统，所述膜元件静置箱T2中含有清洗液。对于严重污染的RO膜元件或NF膜元件EL，使用该装置，在逆向清洗时，控制逆清洗条件，降低膜元件在清洗过程中的损坏率；而且清洗液从膜元件产水管进入，逆向清洗可以将严重污染结垢物质疏松化获得更好的清洗效果；清洗装置中膜元件直接连接清洗管路，无膜壳，结构简单、便于拆装。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及膜法水处理
，具体涉及一种半透膜膜元件的清洗装置。
技术介绍
反渗透膜法和纳滤膜法水处理技术在电力、水力、药业、食品等水处理领域被越来越广泛地采用，但由于进水水质复杂和预处理不充分，反渗透(RO)膜膜元件或纳滤(NF)膜膜元件可能被进水中的无机物、有机物、微生物、颗粒状物和胶体等杂质污染。这些物质沉积在膜表面，将会引起RO膜和NF膜的性能下降，如低的产水流量、高的溶质透过率、原水和浓水之间的压差增大。为恢复RO膜或NF膜的性能，需定期进行膜的清洗。随着运行时间不断增加，RO膜或NF膜可能在使用过程中发生严重污染和堵塞，膜元件很难通过常规在线化学清洗获得性能恢复。为了恢复RO膜或NF膜的性能，可以采用膜元件的离线清洗，如专利文献1中提出，清洗液通过清洗泵进、出水阀，保安进水阀，保安出水阀，RO进水阀进入压力容器，在浓水阀，产水阀，浓水回流阀、产水回流阀开启状态下，控制清洗流量和压力，对RO膜元件进行循环清洗。如果RO膜元件严重污染或污堵时，污染物在膜片表面黏附性强，采用该方法很难获得较好的清洗效果。当RO膜或NF膜严重污染时，为了使膜表面的污染物从膜表面能够更有效地分离，可以采用膜元件的逆向清洗，如专利文献2中提出，清洗液经过清洗水泵，经由产水阀门从产水端进入反渗透膜系统，用于对膜系统进行逆方向加压冲洗，使得黏附牢固的污染物从膜表面剥离。该清洗方法从产水端进水，采用清洗水泵单独进水，进水压力难于控制，因此现有逆向清洗方法对RO膜元件的清洗损坏率高；当采用膜表面逆方向加压冲洗后，从膜表面剥离的污染物不能及时从膜表面脱落离开，再次正向加压运行时，被剥离的污染物会重新压紧至膜表面，清洗效果欠佳。专利文献1：CN201310250776.4专利文献2：CN201310030825.3。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种半透膜膜元件清洗装置。使用该装置，对于严重污染的半透膜膜元件进行逆向清洗，通过控制逆向清洗条件，降低膜元件在清洗过程中的损坏率，同时提高清洗效果。为了解决上述问题，本专利技术将下面的任一构成作为特征。(1)一种半透膜膜元件清洗装置，包含清洗水箱T1、膜元件静置箱T2、清洗液加药系统和清洗液回流系统，所述膜元件静置箱T2中含有清洗液。(2)根据上述(1)所述的半透膜膜元件清洗装置，清洗水箱T1通过清洗液加药系统与膜元件的产水管相连接。(3)根据上述(1)所述的半透膜膜元件清洗装置，膜元件静置箱T2内清洗液高度是膜元件静置箱T2高度的30％-90％。(4)根据上述(3)所述的半透膜膜元件清洗装置，膜元件静置箱T2内清洗液高度是膜元件静置箱T2高度的50％-80％。(5)根据上述(1)所述的半透膜膜元件清洗装置，清洗液加药系统主要包含清洗水箱阀门V7、清洗水泵P1、控压阀VP和压力传感器Pr1。(6)根据上述(5)所述的半透膜膜元件清洗装置，控压阀VP的压力范围在0.02-0.06Mpa。此外，在本专利技术中，所述半透膜膜元件为反渗透(RO)膜膜元件或纳滤(NF)膜膜元件。根据本专利技术，对于严重污染的反渗透(RO)膜膜元件或纳滤(NF)膜膜元件，使用该装置，在逆向清洗时，调节清洗水箱T1和膜元件静置箱T2中清洗液的浓度与膜元件静置箱T2中液位，降低了膜元件在逆向清洗时的渗透压，保证清洗液更容易透过膜元件。并且通过控制逆向清洗压力，降低膜元件在清洗过程中的损坏率；清洗液从膜元件产水管进入，逆向清洗可以将严重污染结垢物质疏松化，获得更好的清洗效果；清洗装置中膜元件直接连接清洗管路，无膜壳，结构简单、便于拆装。附图说明图1是表示本专利技术的清洗装置的一个实施方式的流程图。图2是表示本专利技术的清洗装置的另一个实施方式的流程图。符号说明T1：清洗水箱；T2：膜元件静置箱；V1-V6：调节阀门；V7：清洗水箱阀门；V8：清洗水箱回流阀门；V9：膜元件静置箱回流阀门；VP：控压阀；F1-F6：流量计；P1：清洗水泵；P2：循环水泵；Pr1：压力传感器；EL：反渗透膜膜元件或纳滤膜膜元件；HL：高液位传感器；LL：低液位传感器；D：纳米微孔曝气器；S：反渗透膜膜元件或纳滤膜膜元件支架；具体实施方式以下，基于附图所示的实施方式对本专利技术进行更详细的说明。需要说明的是，本专利技术并不限定于以下的实施方式。使用本专利技术的图1所示的半透膜膜元件清洗装置，包含清洗水箱T1、膜元件静置箱T2、清洗液加药系统和清洗液回流系统，其中，所述膜元件静置箱T2中含有清洗液。所述膜元件静置箱T2为膜元件竖直放置的箱体，在清洗时，膜元件浸泡在清洗液中。清洗水箱T1和膜元件静置箱T2采用相同的清洗液，本专利技术对清洗液没有特别限定，根据膜元件的污染程度及类型，参考膜元件用户手册进行选择。本专利技术的膜元件静置箱T2中清洗液浓度高于清洗水箱T1中清洗液浓度，当清洗水箱T1中清洗液进入膜元件后，膜片两侧的清洗液存在浓度差，降低了清洗时渗透压，使清洗液更容易透过膜元件。优选清洗水箱T1中的清洗液浓度是膜元件静置箱T2中的清洗液浓度的10％-50％。为了降低清洗时渗透压和提高清洗效果，优选膜元件静置箱T2内清洗液高度是膜元件静置箱T2高度的30％-90％，由于考虑适当降低清洗水泵P1所需提供的水压以及清洗液费用因素，进一步优选膜元件静置箱T2内清洗液高度是膜元件静置箱T2高度的50％-80％。本专利技术对于膜元件静置箱T2的液位控制没有特别限定，优选膜元件静置箱T2的液位通过水箱内高液位传感器HL和低液位传感器LL控制。T1和T2中清洗液的浓度差以及膜元件静置箱T2中清洗液高度降低了膜元件在逆向清洗时的渗透压，保证清洗液更容易透过膜元件。本专利技术对RO膜元件或NF膜元件EL的放置方式没有特别限定，优选将待清洗的RO膜元件或NF膜元件EL放入膜元件静置箱T2底部的RO膜元件或NF膜元件支架S上，膜元件的产水管与清洗管道连接，清洗水箱T1通过清洗液加药系统与膜元件的产水管相连接，清洗时，保证清洗液从产水管进入膜片，达到膜片的逆向清洗。清洗液加药系统主要包含清洗水箱阀门V7、清洗水泵P1、控压阀VP和压力传感器Pr1。清洗时，打开清洗水箱阀门V7、清洗水泵P1和控压阀VP，在水泵压力下，清洗水箱T1中的清洗液通过清洗液加药系统加入每支待清洗本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半透膜膜元件清洗装置，包含清洗水箱T1、膜元件静置箱T2、清洗液加药系统和清洗液回流系统，其特征在于：所述膜元件静置箱T2中含有清洗液。

【技术特征摘要】
1.一种半透膜膜元件清洗装置，包含清洗水箱T1、膜元件静置箱T2、清洗
液加药系统和清洗液回流系统，其特征在于：所述膜元件静置箱T2中含
有清洗液。
2.根据权利要求1所述的半透膜膜元件清洗装置，其特征在于：清洗水箱T1
通过清洗液加药系统与膜元件的产水管相连接。
3.根据权利要求1所述的半透膜膜元件清洗装置，其特征在于：膜元件静置
箱T2内清洗液高度是膜元件静置箱T2高度的30％-90％。...

【专利技术属性】
技术研发人员：王丽华，杨瑜芳，
申请(专利权)人：东丽先端材料研究开发中国有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31