线栅偏振片、包括其的显示装置和制造显示装置的方法制造方法及图纸

本公开提供了线栅偏振片、包括其的显示装置和制造显示装置的方法。该线栅偏振片包括透光基板和线栅图案，线栅图案设置在透光基板上并布置为透射第一偏振光并反射在垂直于第一偏振光的偏振方向的方向上偏振的第二偏振光，线栅图案包括目标图案，该目标图案包括成形为封闭曲线的导电结构，导电结构中的至少一个围绕导电结构中的另一个且在两者之间具有间隙。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施方式总地涉及平板显示器。更具体地，本专利技术的实施方式涉及线栅偏振片、包括该线栅偏振片的显示装置以及制造所述显示装置的方法。
技术介绍
线栅是被设置且布置为仅产生电磁波的特定偏振的平行导电线的阵列。具有比非偏振的入射光的波长小的周期的线栅结构反射在其线的方向上偏振的光并透射垂直于该线的方向偏振的光。与吸收性偏振器不同，线栅偏振器能够再利用被反射的偏振光。
技术实现思路
本专利技术的方面提供一种具有改善的光效率的偏振片。本专利技术的方面还提供一种具有改善的光效率的显示装置。本专利技术的方面还提供一种制造具有改善的光效率的显示装置的方法。然而，本专利技术的方面不限于这里阐述的那些。通过参照以下给出的本发明的详细说明，本专利技术的以上和其他的方面对于本专利技术所属领域内的普通技术人员将变得更加明显。根据本专利技术的一方面，提供一种线栅偏振片，该线栅偏振片包括透光基板和线栅图案。线栅图案设置在透光基板上并布置为透射第一偏振光并反射在垂直于第一偏振光的偏振方向的方向上偏振的第二偏振光。线栅图案包括目标图案，该目标图案包括成形为封闭曲线的导电结构，导电结构中的至少一个围绕导电结构中的另一个且在两者之间具有间隙。导电结构可以成形为多边形的封闭曲线，每个导电结构可以包括在第一方向上延伸的两个第一线结构以及在不同于第一方向的第二方向上延伸的两个或更多个第二线结构。导电结构可以成形为非多边形的封闭曲线，每个导电结构可以包括在第一方向上延伸的两个第一线结构以及在不同于第一方向的第二方向上延伸的两个或更多个第二线结构。每个非多边形的封闭曲线可以包括拱形部分。每个线栅图案还可以包括设置在目标图案之间的第三线结构。线栅偏振片还可以包括反射图案。反射图案可以设置在线栅图案之间并布置为反射第一偏振光和第二偏振光两者。第三线结构可以连接到反射图案。线栅图案中的两个或更多个可以在面积上不同。根据本专利技术的一方面，提供一种显示装置，该显示装置包括线栅偏振片，该线栅偏振片包括透光基板和线栅图案，该线栅图案设置在透光基板上并布置为透射第一偏振光且反射在垂直于第一偏振光的偏振方向的方向上偏振的第二偏振光。显示装置还包括设置在线栅偏振片上的不透明层。每个线栅图案包括目标图案，该目标图案包括成形为封闭曲线的两个或更多个导电结构，封闭曲线中的至少一个围绕封闭曲线中的另一个且在两者之间具有间隙。此外，每个导电结构包括在第一方向上延伸的两个第一线结构和在不同于第一方向的第二方向上延伸的两个或更多个第二线结构，不透明层覆盖第二线结构。每个线栅图案还可以包括设置在目标图案之间的第三线结构。线栅偏振片还可以包括反射图案。反射图案可以设置在线栅图案之间并布置为反射第一偏振光和第二偏振光两者。第三线结构可以连接到反射图案。不透明层还可以覆盖反射图案，反射图案可以包括在第一方向上延伸的第一反射区和垂直于第一方向延伸的第二反射区，不透明层可以包括交叠并覆盖第一反射区的弯曲的第一不透明区以及覆盖第二反射区的直的第二不透明区。显示装置还可以包括设置在线栅偏振片上的绝缘层、设置在绝缘层上以交叠第二反射区的栅极布线以及设置在栅极布线上以交叠第一反射区的数据布线。不透明层可以包括具有不同面积的两个或更多个开口。线栅偏振片还可以包括具有不同面积的两个或更多个线栅图案。根据本专利技术的一方面，提供一种制造显示装置的方法，该方法包括：在透光基板上形成金属层；在金属层上形成引导图案层，该引导图案层包括引导阻挡肋和设置在引导阻挡肋之间的沟槽，其中沟槽暴露金属层。该方法还包括在沟槽中形成纳米结构，该纳米结构由自对准的嵌段共聚物形成，该纳米结构包括第一域和第二域，第二域具有与第一域不同的蚀刻速率。该方法还包括通过利用第一域或第二域作为掩模图案化包括目标图案的金属层而形成线栅图案。目标图案包括成形为封闭曲线的导电结构，导电结构中的至少一个围绕导电结构中的另一个且在两者之间具有间隙。目标图案可以包括两个或更多个导电结构，每个导电结构包括在第一方向上延伸的两个第一线结构以及在不同于第一方向的第二方向上延伸的两个或更多个第二线结构。该方法可以包括将不透明层设置在线栅图案上，不透明层覆盖第二线结构。形成引导图案层还可以包括减小引导阻挡肋的宽度。形成线栅图案还可以包括在目标图案之间形成第三线结构。附图说明通过参考附图详细描述示例性实施方式，本专利技术的以上和其它方面及特征将变得更加明显，在图中：图1至10是示意性截面图，示出了根据本专利技术的第一实施方式的制造线栅偏振片的方法；图11是图5的所得结构的示意性平面图；图12是图11的区域‘A’的示意性放大图；图13是图10的线栅偏振片的示意性平面图；图14是图13的区域‘A’的示意性放大图；图15是示出图13的线栅偏振片与不透明层之间的布置关系的示意性平面图；图16是图15的区域‘A’的示意性放大图；图17是示出图10的线栅偏振片与不透明层之间的布置关系的示意性局部截面图；图18是图12的变形示例；图19是图14的线栅偏振片的变形示例；图20是示出图13的线栅偏振片的第一变形示例与不透明层之间的布置关系的示意性平面图；图21是示出图13的线栅偏振片的第二变形示例与不透明层之间的布置关系的示意性布局图；图22是示出图13的线栅偏振片的第三变形示例与不透明层之间的布置关系的示意性布局图；图23是示出图13的线栅偏振片的第四变形示例与不透明层之间的布置关系的示意性布局图；图24是示出图13的线栅偏振片的第五变形示例与不透明层之间的布置关系的示意性布局图；以及图25至34是示意性截面图，示出了根据本专利技术的第二实施方式的制造线栅偏振片的方法。具体实施方式本专利技术构思的特征以及实现其的方法可以通过参考示例性实施方式的以下详细描述和附图而被更容易地理解。本专利技术构思可以以许多不同的形式实施且不应被理解为限于此处阐明的实施方式。而是，提供这些实施方式使得本公开将本专利技术构思充分地传达给本领域的普通技术人员。在图中，为了清晰，可以夸大层和区域的厚度。因此，各个附图将不是按比例绘制的。将理解，当元件或层被称为“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“联接到”另一元件或层时，元件或层可以直接在另一元件或层上、直接连接到或直接联接到另一元件或层，或者存在一个或多本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种线栅偏振片，包括：透光基板；和线栅图案，设置在所述透光基板上，所述线栅图案布置为透射第一偏振光并反射在垂直于所述第一偏振光的偏振方向的方向上偏振的第二偏振光，所述线栅图案包括目标图案，所述目标图案包括成形为封闭曲线的导电结构，所述导电结构中的至少一个围绕所述导电结构中的另一个且在两者之间具有间隙。

【技术特征摘要】
2014.11.18 KR 10-2014-0161069;2015.04.24 KR 10-2011.一种线栅偏振片，包括：
透光基板；和
线栅图案，设置在所述透光基板上，所述线栅图案布置为透射第一偏振
光并反射在垂直于所述第一偏振光的偏振方向的方向上偏振的第二偏振光，
所述线栅图案包括目标图案，所述目标图案包括成形为封闭曲线的导电结
构，所述导电结构中的至少一个围绕所述导电结构中的另一个且在两者之间
具有间隙。
2.如权利要求1所述的线栅偏振片，其中所述导电结构成形为多边形的
封闭曲线，并且其中每个所述导电结构包括在第一方向上延伸的两个第一线
结构以及在不同于所述第一方向的第二方向上延伸的两个或更多个第二线
结构。
3.如权利要求1所述的线栅偏振片，其中每个所述线栅图案还包括设置
在所述目标图案之间的第三线结构。
4.如权利要求3所述的线栅偏振片，还包括反射图案，所述反射图案设
置在所述线栅图案之间并布置为反射所述第一偏振光和所述第二偏振光两
者，其中所述第三线结构连接到所述反射图案。
5.如权利要求1所述的线栅偏振片，其中所述导电结构成形为非多边形
的封闭曲线，并且其中每个所述导电结构包括在第一方向上延伸的两个第一
线结构以及在不同于所述第一方向的第二方向上延伸的两个或更多个第二
线结构。
6.如权利要求5所述的线栅偏振片，其中每个所述非多边形的封闭曲线
包括拱形部分。
7.如权利要求5所述的线栅偏振片，其中每个所述线栅图案还包括设置
在所述目标图案之间的第三线结构。
8.如权利要求7所述的线栅偏振片，还包括反射图案，所述反射图案设
置在所述线栅图案之间并布置为反射所述第一偏振光和所述第二偏振光两
者，其中所述第三线结构连接到所述反射图案。
9.如权利要求8所述的线栅偏振片，其中所述线栅图案中的两个或更多
个具有不同的面积。
10.一种显示装置，包括：
线栅偏振片，包括透光基板和线栅图案，所述线栅图案设置在所述透光
基板上并布置为透射第一偏振光且反射在垂直于所述第一偏振光的偏振方
向的方向上偏振的第二偏振光；和
不透明层，设置在所述线栅偏振片上，
其中每个所述线栅图案包括目标图案，所述目标图案包括成形为封闭曲
线的两个或更多个导电结构，所述封闭曲线中的至少一个围绕所述封闭曲线
中的另一个且在两者之间具有间隙，并且
其中每个所述导电结构包括在第一方向上延伸的两个第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：金泰佑，朴升元，李文圭，谢磊，尹大镐，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR