磁盘用玻璃基板及磁盘制造技术

本发明专利技术提供一种对应于高记录密度化的磁盘用玻璃基板及磁盘。所述磁盘用玻璃基板具有主表面，其特征在于，通过原子力显微镜在所述主表面上测定的算术平均粗糙度Ra为0.15nm以下，基于通过原子力显微镜测定的结果，对预定的区域在使角度方向以每次变化1°的方式从0°变化至180°的同时算出各角度方向上的角度方向算术平均粗糙度Ra_deg，在将所述算出的角度方向算术平均粗糙度Ra_deg中的最大值设为角度方向算术平均粗糙度最大值Ra_deg_max、且将最小值设为角度方向算术平均粗糙度最小值Ra_deg_min的情况下，(Ra_deg_max)/(Ra_deg_min)的值为2.6以下，由此解决了上述课题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及磁盘用玻璃基板及磁盘。
技术介绍
作为搭载于硬盘驱动器装置(HDD装置)中的磁记录介质，存在有磁盘。磁盘是通过在金属基板、玻璃基板上形成磁性层的膜而形成，以往广泛使用铝合金基板作为磁盘用的基板，但近年来随着磁盘的小型化、薄板化、高记录密度化，多使用与铝合金基板相比表面的平滑性高、薄板时的强度优良的玻璃基板。但是，对于磁盘而言，高记录密度化的要求进一步提高，今后，仅使用玻璃基板作为磁盘用基板时，有时不能充分应对磁盘的高记录密度化。即，在磁盘中，在形成于基板的主表面上的磁性膜中进行信息的记录，但该磁性层中的磁特性取决于基板的主表面的表面状态等。因此，由于基板的主表面的表面状态等有时不能充分应对磁盘的高记录密度化。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2010/038741号小册子专利文献2：日本特开2007-26536号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题具体而言，对于磁盘用玻璃基板而言，为了磁盘的高记录密度化，要求降低磁盘用玻璃基板的主表面的表面粗糙度(算术平均粗糙度Ra)。例如，对于与500GB/PL(2.5英寸尺寸的磁盘)相对应的磁盘用玻璃基板的主表面，要求使算术平均粗糙度Ra为0.15nm以下。但是，欲进一步使磁盘高记录密度化时，仅减小磁盘用玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度Ra，也不能充分抑制磁盘的记录再现特性中的例如作为指标之一的漏脉冲等错误。因此，本申请的目的在于提供一种针对660Gbit/in2、750Gbit/in2、1Tbit/in2等或者其以上的高记录密度的磁盘、或者每一片2.5英寸磁盘为660GB、750GB、1TB等或者其以上的高记录密度的磁盘能够充分抑制漏脉冲等记录再现特性中的错误的、对应于高记录密度化的磁盘用玻璃基板。用于解决问题的手段根据本实施方式的一个方案，其为具有主表面的磁盘用玻璃基板，其特征在于，通过原子力显微镜在上述主表面上测定的算术平均粗糙度Ra为0.15nm以下，基于通过原子力显微镜测定的结果，对预定区域在使角度方向以每次变化1°的方式从0°变化至180°的同时算出各角度方向上的角度方向算术平均粗糙度Ra_deg，在将上述算出的角度方向算术平均粗糙度Ra_deg中的最大值设为角度方向算术平均粗糙度最大值Ra_deg_max、且将最小值设为角度方向算术平均粗糙度最小值Ra_deg_min的情况下，(Ra_deg_max)/(Ra_deg_min)的值为2.6以下。专利技术效果利用该公开的磁盘用玻璃基板，能够提供对应于高记录密度化的磁盘用玻璃基板。附图说明图1为本实施方式中的磁盘用玻璃基板的结构图。图2为本实施方式中的磁盘用玻璃基板的评价方法的说明图(1)。图3为本实施方式中的磁盘用玻璃基板的评价方法的说明图(2)。图4为本实施方式中的磁盘的结构图。[符号说明]10磁盘用玻璃基板11开口部21内周面22外周面30主表面具体实施方式以下对用于实施的方式进行说明。需要说明的是，对于相同构件等赋以相同符号而省略说明。首先，对磁盘用玻璃基板的主表面进行说明。对于可用作磁盘的垂直磁性层的垂直磁材料而言，垂直磁性层中的磁性合金的结晶取向一致会对记录再现特性(S/N比)带来很大影响。具体而言，理想的是磁性合金的结晶的易磁化轴为垂直取向的状态，但取向不一致时，再现信号中的干扰成分增加。为了使垂直磁性层中的结晶取向一致，公开了在垂直磁性层之下层叠取向膜、进一步层叠基底膜等方法，层叠有这些膜的玻璃基板的主表面的表面状态对结晶取向也带来很大影响。为了使垂直磁性层的结晶取向一致而提高磁记录再现特性，有如下方法：对玻璃基板的主表面进行研磨(研磨)，使得研磨后的主表面的表面粗糙度规定为预定值以下；或者使用在高亮度下通过目视观察到研磨痕少或者观察不到研磨痕的状态的玻璃基板。但是，本专利技术人发现即使使用使基板的主表面的表面粗糙度为预定值以下的玻璃基板制作磁盘也不能充分提高记录再现特性。另外，即使是在高亮度下通过目视观察不到研磨痕的状态的基板，在AFM(AtomicForceMicroscope：原子力显微镜)等高分辨率的表面测定中，也存在有在某一方向具有方向性的条状图案，这样的具有方向性的条状图案有可能会导致使得形成的磁性膜的结晶取向紊乱。本专利技术的目的在于解决上述课题，通过在基板的主表面上规定利用AFM观测的水平的条状图案的状态，由此提供对于高记录密度而言记录再现特性优良的磁盘用玻璃基板。(磁盘用玻璃基板)接着，对本实施方式中的磁盘用玻璃基板进行说明。如图1所示，本实施方式中的磁盘用玻璃基板10形成为圆环形状，在中央部分具有圆形的开口部11。对于本实施方式中的磁盘用玻璃基板而言，形成有开口部11的内侧为内周面21，外侧为外周面22，在内周面21与外周面22之间的主表面30之上形成磁性层的膜，由此制作出磁盘。(磁盘用玻璃基板的制造方法)磁盘用玻璃基板的制造方法具有坯板加工工序、倒角部加工工序、端面研磨工序以及主表面研磨工序等。可以在这些工序之间或这些工序之后进行蚀刻工序、清洗工序、干燥工序等。坯板加工工序是通过对玻璃坯板进行加工而得到中央部具有圆孔的圆盘状玻璃基板。玻璃坯板通过例如浮法、熔融法、压制成形法、下拉法、再拉法等进行成形。倒角部加工工序中，利用倒角磨石对玻璃基板的端面(内周端面及外周端面)进行研削(研削)，由此在玻璃基板的端面形成倒角部及侧面部。倒角部可以相对于玻璃基板的主面倾斜，侧面部可以相对于玻璃基板的主面垂直。需要说明的是，倒角部也可以不为平面，可以为带有圆弧的曲面。端面研磨工序中，在供给研磨液的同时利用旋转刷对倒角部及侧面部进行研磨，由此除去倒角部、侧面部中的加工变质层。将研磨液供给至利用旋转刷进行研磨的部位。需要说明的是，可以依次进行多个端面研磨工序，也可以不只利用旋转刷除去加工变质层。除了利用旋转刷进行的刷研磨以外，还可以进行海绵研磨、粘性流体研磨、磁性流体研磨等。在多个端面研磨工序之间，可以进行清洗工序、干燥工序。主表面研磨工序中，对玻璃基板的主表面(第1主表面及第2主表面)进行研磨。在主表面研磨工序中，可以使用对玻璃基板的第1表面及第2表面同时进行研磨的双面研磨机。双面研磨机可以同时对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁盘用玻璃基板，其具有主表面，其特征在于，通过原子力显微镜在所述主表面上测定的算术平均粗糙度Ra为0.15nm以下，基于通过原子力显微镜测定的结果，对预定的区域在使角度方向以每次变化1°的方式从0°变化至180°的同时算出各角度方向上的角度方向算术平均粗糙度Ra_deg，在将所述算出的角度方向算术平均粗糙度Ra_deg中的最大值设为角度方向算术平均粗糙度最大值Ra_deg_max、且将最小值设为角度方向算术平均粗糙度最小值Ra_deg_min的情况下，(Ra_deg_max)/(Ra_deg_min)的值为2.6以下。

【技术特征摘要】
2014.11.07 JP 2014-2270911.一种磁盘用玻璃基板，其具有主表面，其特征在于，
通过原子力显微镜在所述主表面上测定的算术平均粗糙度Ra为
0.15nm以下，
基于通过原子力显微镜测定的结果，对预定的区域在使角度方向
以每次变化1°的方式从0°变化至180°的同时算出各角度方向上的角度
方向算术平均粗糙度Ra_deg，在将所述算出的角度方向算术平均粗糙
度Ra_deg中的最大值设为角度方向算术平均粗糙度最大值
Ra_deg_max、且将最小值设为角度方向算术平均粗糙度最小值
Ra_deg_min的情况下，(Ra_deg_max)/(Ra_deg_min)的值为2.6以下。
2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，
(Ra_deg_max)/(Ra_deg_min)的值为2.4以下。
3.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，
(Ra_deg_max)-(Ra_deg_min)的值为0.020nm以下。
4.一种磁盘用玻璃基板，其具有主表面，其特征在于，

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤正文，志田德仁，高野茂喜，大塚晴彦，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP