一种过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏及其制造方法，触摸显示屏包括基板，基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第四膜层和第五膜层，第一膜层为五氧化三钛层，第二膜层为二氧化硅层，第三膜层为金属层，第四膜层为高硬度层，第五膜层的为氟化物层。其制造方法包括以下步骤：1）对基板进行清洗；2）对基板的外表面进行镀膜。本发明专利技术的触摸显示屏能有效地过滤33％以上有害蓝光，而且整体清晰度高，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，通过对有害蓝光的过滤能有效的缓解视觉疲劳。同时，该触摸显示屏具有较高的耐磨性而且能有效地防水和防油污。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏及其制造方法。
技术介绍
随着现代生活触摸显示屏的普遍使用，而且人们的生活越来越离不开触摸显示屏，有很多人经常性的使用触摸显示屏带来的结果是眼睛出现酸涩、疼痛、流泪等不舒服症状，更严重的出现视力下降，这些不舒服的症状是因为眼睛长时间对触摸显示屏，由触摸显示屏所散发出来的有害光线所致，触摸显示屏发出的光是眼睛的大敌，普遍触摸显示屏供应商为了体现触摸显示屏的色彩对比度及饱和度，会提高触摸显示屏背后的灯光亮度，这样会使屏幕表面像装了一片玻璃一样显得有质感，提高了清晰度，同样它也会像玻璃一样反射光线，但光线照向屏幕时会增加光线反射，尤其是晚上的时候消费者在使用触摸显示屏时，LED灯光照向触摸显示屏会增加光线反射，这样很容易被这些光线伤害到眼睛，并产生视觉疲劳的症状，慢慢的会引起视力下降和头痛的健康问题，，触摸显示屏产生的“不舒服的光”持续照射我们的眼睛还会引起视觉系统失调，触摸显示屏发出的光让我们眼睛不舒服是因为这些光线里面含有大量不规则频率的高能短波蓝光，这些短波蓝光具有能量能穿透我们的眼球晶体直达视网膜，短波蓝光持续照射视网膜会产生大量自由基离子，这些自由基离子会使得视网膜的色素上皮细胞衰亡，上皮细胞的衰会使感光细胞缺少养分而引起视力损伤；这些短波蓝光也是引起黄斑部病变的主要起因，我们每天长时间面对触摸显示屏产生的蓝光刺激，殊不知蓝光波长短能量高，易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。蓝光约占可见光的50~60%，而蓝光也是引起黄斑部病变的主要原因之一，严重可能导致失明。蓝光会刺激视网膜产生大量自由基离子，使得视网膜色素上皮的萎缩，再引起光敏感细胞的衰亡，这是因为我们所处的是信息时代，人们的工作与学习都离不开触摸显示屏,面对触摸显示屏的时间越来越长,用眼的频率也越来越高。眼睛开始酸涩、疼痛、流泪，它凄切的告诉我们：我们的眼睛已经受到了伤害，需要在使用触摸显示屏时得到保护。目前触摸显示屏发出的蓝光、电磁波、自由电子它们均会对眼睛造成伤害，为了保护眼睛，必须加以过滤，而目前过滤触摸显示屏蓝光的方法是在触摸显示屏表面贴一层保护膜，触摸显示屏贴膜以后，透光率往往会下降，所贴的膜容易产生划痕影响视觉效果，对过滤蓝光效果依然不够理想。另外，保护膜耐磨性差，容易刮花，影响视觉效果。此外，人们的手触摸到触摸显示屏上时，手上的油污和水渍很容易在触摸显示屏上留下痕迹，这些痕迹又很不容易擦除掉，这样就会影响使用者观察事物的效果，给使用者带来不便。而且经常性的擦拭触摸显示屏又很容易将触摸显示屏刮花。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏及其制造方法，该方法制造出来的触摸显示屏能够防止有害蓝光对人体的伤害，而且具有高耐性和防水油污的功能。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏，包括基板，所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层和第五膜层，所述第一膜层为五氧化三钛层，第一膜层的厚度为10-100nm；所述第二膜层为二氧化硅层，第二膜层的厚度为50-100nm；第三膜层为金属层，第三膜层的厚度为5-20nm；所述第四膜层为高硬度层，该第四膜层的厚度为10-50nm；所述第五膜层为氟化物层，第五膜层的厚度为3-10nm。所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍,并使用电子枪蒸镀成型。所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,并使用电子枪蒸镀成型。所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并使用电子枪蒸镀成型。所述氟化物层为电阻蒸镀成型的氟化镁层。所述基板为树脂或玻璃成型。所述触摸显示屏的基板为树脂成型时，该过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏的制造方法具体包括以下步骤：1）对基板的外表面进行清洗；2）对基板的外表面进行镀膜；A、镀第一膜层：将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第一膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层；B、镀第二膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm，其中第二膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层；C、镀第三膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1?/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm，其中第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层。D、镀第四膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7?/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第四膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体,形成高硬度层；E、镀第五膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电阻加热第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为1.5?/S，第五膜层最终形成后的厚度为3-10nm，其中第五膜层的膜材为氟化物,形成氟化物层。所述步骤1）中，对基板清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面3分钟。所述触摸显示屏的基板为玻璃成型时，该过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏的所述制造方法具体包括以下步骤：1）对基板的外表面进行清洗；2）对基板的外表面进行镀膜；A、镀第一膜层：将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第一膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层；B、镀第二膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏，包括基板，其特征在于：所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层和第五膜层，所述第一膜层为五氧化三钛层，第一膜层的厚度为10‑100nm；所述第二膜层为二氧化硅层，第二膜层的厚度为50‑100nm；第三膜层为金属层，第三膜层的厚度为5‑20nm；所述第四膜层为高硬度层，该第四膜层的厚度为10‑50nm；所述第五膜层为氟化物层，第五膜层的厚度为3‑10nm。

【技术特征摘要】
1.一种过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏，包括基板，其特征在于：所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层和第五膜层，所述第一膜层为五氧化三钛层，第一膜层的厚度为10-100nm；所述第二膜层为二氧化硅层，第二膜层的厚度为50-100nm；第三膜层为金属层，第三膜层的厚度为5-20nm；所述第四膜层为高硬度层，该第四膜层的厚度为10-50nm；所述第五膜层为氟化物层，第五膜层的厚度为3-10nm。
2.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏，其特征在于：所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍,并使用电子枪蒸镀成型。
3.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏，其特征在于：所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,并使用电子枪蒸镀成型。
4.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏，其特征在于：所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并使用电子枪蒸镀成型。
5.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏，其特征在于：所述氟化物层为电阻蒸镀成型的氟化镁层。
6.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏，其特征在于：所述基板为树脂或玻璃成型。
7.一种根据权利要求6所述过滤蓝光防水油污的耐磨触摸显示屏的制造方法，其特征在于：所述触摸显示屏的基板为树脂成型时，所述制造方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第一膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm，其中第二膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1?/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm，其中第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7?/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第四膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴晓彤，方俊勇，
申请(专利权)人：奥特路漳州光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35