热处理炉制造技术

本实用新型专利技术提供的热处理炉，包括加热腔室、加热装置和冷却装置，其中，在加热腔室内设置有内腔管体，在内腔管体内设置有承载架，用以承载被加热件；在内腔管体的顶部设置有盖板，用以封闭内腔管体的顶部开口；冷却装置包括冷却气源和进气管路，进气管路包括第一进气端、第二进气端和出气端，第一进气端与冷却气源相连通；第二进气端设置在内腔管体的内侧壁上，与内腔管体的内部相连通；出气端朝上设置在加热腔室内，且位于内腔管体的外侧；冷却气源向进气管路提供冷却气体。本实用新型专利技术提供的热处理炉，其不仅可以提高热交换效率，减少附着在被加热件表面的污染颗粒，而且还可以提高被加热件的温度均匀性，从而可以减少被加热件的形变量差异。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示装置加工
，具体地，涉及一种热处理炉。
技术介绍
低温多晶硅(LowTemperaturePoly-Silicon，简称LTPS)的形成过程是：利用准分子镭射作为热源，镭射光经过投射系统后，会产生能量均匀分布的镭射光束，投射于非晶硅结构的玻璃基板上，当非晶硅结构的玻璃基板吸收准分子镭射的能量后，会转变成为多晶硅结构。由于镭射光束投射于玻璃基板时，基板温度可达1400℃左右，导致非晶硅中氢含量偏高会产生氢爆，进而影响设备及产品质量，热处理炉(Furnace)为镭射前氢处理工艺，减少非晶硅中的氢含量，在镭射时减少氢爆的发生，此外工艺后的多晶硅玻璃基板可以使显示装置具有重量轻、低耗电、色彩艳丽以及影像清晰等特点。图1为现有的热处理炉的结构示意图。请参阅图1，热处理炉包括加热腔室1、加热装置2和冷却装置，其中，在加热腔室1内设置有内腔管体6，并且在加热腔室1内还设置有承载架，用以承载玻璃基板等的被加热件5。加热装置2环绕设置在加热腔室1的内侧壁中，用以向被加热件5辐射热量。冷却装置包括冷却气源4和进气管路3，其中，进气管路3的进气口与冷却气源4连接，出气口设置在加热腔室1的内侧壁上。在进行热处理的过程中，冷却气源4通过进气管路3向加热腔室1的内部输送冷却气体，当加热腔室1的气压上升至一定数值之后，冷却气体由下而上流动，然后自位于加热腔室1顶部的出气口排出，并带走被加热件5的热量，从而保证了工艺温度的稳定，冷却气体的流动方向如图1中的箭头所示。现有的热处理炉在实际应用中不可避免地存在以下问题：在进行热处理的过程中，由于冷却气体由下而上流动，这不仅导致玻璃基板5表面的气体流通量较少，热交换效率较低、且容易附着污染颗粒，而且还会导致玻璃基板5内及各层玻璃基板5之间的温度存在较大差异，从而造成热交换效果不均匀，进而导致玻璃基板5之间的形变量差异扩大。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种热处理炉，其不仅可以提高热交换效率，减少附着在被加热件表面的污染颗粒，而且还可以提高被加热件的温度均匀性，从而可以减少被加热件的形变量差异。本技术提供一种热处理炉，包括加热腔室、加热装置和冷却装置，其中，在所述加热腔室内设置有内腔管体，在所述内腔管体内设置有承载架，用以承载被加热件；并且，在所述加热腔室的顶部设置有排气口；所述加热装置设置在所述加热腔室内，且环绕在所述内腔管体的外围，用以朝向所述被加热件辐射热量；在所述内腔管体的顶部设置有盖板，用以封闭所述内腔管体的顶部开口；所述冷却装置包括冷却气源和进气管路，其中，所述进气管路包括第一进气端、第二进气端和出气端，其中，所述第一进气端与所述冷却气源相连通；所述第二进气端设置在所述内腔管体的内侧壁上，与所述内腔管体的内部相连通；所述出气端朝上设置在所述加热腔室内，且位于所述内腔管体的外侧；所述冷却气源用于向所述进气管路提供冷却气体。优选的，所述冷却装置包括至少两套，且至少两套所述冷却装置的进气管路沿所述内腔管体的周向对称分布。优选的，所述承载架用于承载多个所述被加热件，且使多个所述被加热件沿所述内腔管体的轴向间隔分布；在每套所述冷却装置中，所述进气管路包括多个，且多个所述进气管路沿所述内腔管体的轴向间隔分布；并且，多套所述冷却装置的进气管路的数量相同，且一一对应地相对设置。优选的，在每套所述冷却装置中，多个所述进气管路的所述出气端相互对齐。优选的，所述冷却装置还包括控制器，用于控制所述冷却气源的开启或关闭，以及调节所述进气管路中的气压大小。优选的，所述冷却装置还包括出气管路、通断开关和热交换器，其中，所述出气管路的进气端设置在所述加热腔室的内侧壁顶部；所述出气管路的出气端与所述热交换器的进气端连接；所述热交换器的出气端与所述冷却气源连接；所述热交换器用于对来自所述出气管路的气体进行冷却，并输送至所述冷却气源；所述通断开关用于接通或断开所述出气管路。优选的，所述冷却装置包括至少两套，且至少两套所述冷却装置的进气管路沿所述内腔管体的周向对称分布；至少两套所述冷却装置的出气管路沿所述内腔管体的周向对称分布。本技术具有以下有益效果：本技术提供的热处理炉，其通过在内腔管体的顶部设置有盖板，来封闭内腔管体的顶部开口，可以使内腔管体的内部形成封闭的空间，从而不仅便于控制内腔管体内部的气压，而且还可以遮挡自加热腔室的顶部掉落的颗粒污染被加热件。而且，通过采用具有三个端口的进气管路，即，第一进气端与冷却气源相连通，第二进气端设置在内腔管体的内侧壁上，与内腔管体的内部相连通，出气端朝上设置在加热腔室内，且位于内腔管体的外侧，可以使内腔管体内的气体横向流动，然后在内腔管体内的气压上升到一定数值之后，依次自进气管路的第二进气端和出气端排出内腔管体，从而不仅可以提高热交换效率，而且还可以提高被加热件的温度均匀性，从而可以减少被加热件的形变量差异。附图说明图1为现有的热处理炉的结构示意图；图2为本技术实施例提供的热处理炉的结构示意图。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图来对本技术提供的热处理炉进行详细描述。图2为本技术实施例提供的热处理炉的结构示意图。请参阅图2，热处理炉包括加热腔室11、加热装置12和冷却装置。其中，在加热腔室11内设置有内腔管体16，且在内腔管体16内设置有承载架，用以承载被加热件15，该被加热件15例如可以为玻璃基板等。在本实施例中，承载架用于承载多个被加热件15，且使多个被加热件15沿内腔管体16的轴向(即，图2的竖直方向)间隔分布。此外，在加热腔室11的顶部设置有排气口17，用以将加热腔室11内的废气排出。加热装置12设置在加热腔室11内(例如内壁上)，且环绕在内腔管体16的外围，用以朝向被加热件15辐射热量，从而实现对被加热件15的热处理。在本实施例中，在内腔管体16的顶部设置有盖板21，用以封闭内腔管体16的顶部开口，从而使内腔管体16的内部形成封闭的空间，从而不仅便于控制内腔管体16内部的气压，而且还可以遮挡自加热腔室11的顶部掉落的颗粒污染被加热件15。盖板21可以采用耐高温、导热高、不易膨胀的石英或陶瓷材料制作，例如微晶陶瓷(Ceo-Ceramics)。在本实施例中，冷却装置包括两套，每套冷却装置包括冷却气源14和进气管路13，其中，两套冷却装置的进气管路13沿内腔管体16的周向对称分布，以提高内腔管体16内的气流均匀性，如图2所示，两条冷却装置对应内腔管体16的左、右两侧相对分布。而且，在每套冷却装置中，进气管路13包括三个，分别为第一进气管路13a、第二进气管路13b和第三进气管路13c，且三个进气管路13沿内腔管体16的轴向间隔分布，并且多套冷却装置的进气管路13的数量相同，且一一对应地相对设置，以进一步提高内腔管体16内的气流均匀性。具体来说，左侧冷却装置的第一进气管路13a与右侧冷却装置的第一进气管路13a相对；左侧冷却装置的第二进气管路13b与右侧冷却装置的第二进气管路13b相对；左侧冷却装置的第三进气管路13c与右侧冷却装置的第三进气管路13c相对。在每套冷却装置中，每个进气管路13包括第一进气端131、第二本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种热处理炉，包括加热腔室、加热装置和冷却装置，其中，在所述加热腔室内设置有内腔管体，在所述内腔管体内设置有承载架，用以承载被加热件；并且，在所述加热腔室的顶部设置有排气口；所述加热装置设置在所述加热腔室内，且环绕在所述内腔管体的外围，用以朝向所述被加热件辐射热量；其特征在于，在所述内腔管体的顶部设置有盖板，用以封闭所述内腔管体的顶部开口；所述冷却装置包括冷却气源和进气管路，其中，所述进气管路包括第一进气端、第二进气端和出气端，其中，所述第一进气端与所述冷却气源相连通；所述第二进气端设置在所述内腔管体的内侧壁上，与所述内腔管体的内部相连通；所述出气端朝上设置在所述加热腔室内，且位于所述内腔管体的外侧；所述冷却气源用于向所述进气管路提供冷却气体。

【技术特征摘要】
1.一种热处理炉，包括加热腔室、加热装置和冷却装置，其中，在所述加热腔室内设置有内腔管体，在所述内腔管体内设置有承载架，用以承载被加热件；并且，在所述加热腔室的顶部设置有排气口；所述加热装置设置在所述加热腔室内，且环绕在所述内腔管体的外围，用以朝向所述被加热件辐射热量；其特征在于，在所述内腔管体的顶部设置有盖板，用以封闭所述内腔管体的顶部开口；所述冷却装置包括冷却气源和进气管路，其中，所述进气管路包括第一进气端、第二进气端和出气端，其中，所述第一进气端与所述冷却气源相连通；所述第二进气端设置在所述内腔管体的内侧壁上，与所述内腔管体的内部相连通；所述出气端朝上设置在所述加热腔室内，且位于所述内腔管体的外侧；所述冷却气源用于向所述进气管路提供冷却气体。2.根据权利要求1所述的热处理炉，其特征在于，所述冷却装置包括至少两套，且至少两套所述冷却装置的进气管路沿所述内腔管体的周向对称分布。3.根据权利要求2所述的热处理炉，其特征在于，所述承载架用于承载多个所述被加热件，且使多个所述被加热件沿所述内腔管体的轴向间隔分布；在每套所述冷却装置中，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿斯根，罗少先，宋志明，邱伟，唐宁波，杨爱国，刘智，
申请(专利权)人：鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：内蒙古;15