【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种具有下式(Ⅰ)的化合物或其盐:R↑[1]-X-*-Y-Z-*-*-OH(Ⅰ)其中R↑[1]为氢、低级烷基、低级链烯基、低级或高级炔基、环(低级)烷基、环(高级)烷基、环(低级)烷基(低级)烷基、环(高级)烷基(低级)烷基、环(低级)链烯基(低级)烷基、芳基-稠合的环(低级)烷基、低级烷氧基、酰基、芳基、芳(低级)烷氧基、芳(低级)烷基、杂芳(低级)烷基、氨基、杂芳基、杂环基或杂环基(低级)烷基,它们可以被一个或多个合适的取代基取代,R↑[2]为氢或低级烷基,X为亚芳基、亚杂芳基、亚环烷基、亚杂环烷基或芳基-稠合的亚环烷基,Y为亚芳基或亚杂芳基,它们可以被一个或多个合适的取代基取代,Z为低级亚烯基,其可被低级烷基或卤素取代。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:石桥直树,泽田由纪,浦野泰治,佐藤茂树,井上善一,永久良辉,向吉耕一朗,上条一纪,白井文幸,高杉寿,
申请(专利权)人:安斯泰来制药有限公司,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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