【技术实现步骤摘要】
本技术涉及磁控溅射镀膜技术,具体地说,是柔性、连续型磁控溅射多阴极沉积装置中阴极表面气体密度分布控制技术,广泛应用于柔性显示器件、柔性智能触摸屏、柔性薄膜太阳能电池的制造中。
技术介绍
磁控溅射阴极沉积中,阴极靶位于屏蔽罩内,在正对阴极靶的屏蔽罩面板上开有矩形溅射孔,溅射孔的长度方向与阴极靶的长度方向一致。磁控溅射装置工作时,电子撞击氩气产生离子,所产生的离子在电场作用下撞向阴极靶面从而溅射出靶原子,靶原子穿过溅射孔而附着在基材上,完成对基材的镀膜。可能是由于阴极靶两端的磁场、以及工作(反应)气体密度供给分布不均匀的缘故,使得阴极靶两端溅射沉积速率与中间部分有较大差异,越靠近两端差异越大。从而导致溅射镀膜在基底上形成的薄膜厚度均匀性差,与阴极靶中间部分相对应的膜层厚度基本一致,而与阴极靶两端相对应的膜层厚度较大。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种能够使得阴极靶长度方向上阴极表面气体密度分布均匀,进而保证镀膜厚度在阴极靶的长度方向上基本相同的磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置。本技术的磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置,包括位于屏蔽罩内的阴极靶,在正对阴极靶的屏蔽罩面板上开有中间宽度一致,两端宽度逐渐变小的腰形溅射孔,腰形溅射孔的长度方向与阴极靶的长度方向一致。上述的控制装置,腰形溅射孔的两端是半圆弧。上述的控制装置,腰形溅射孔的两端是两根或以上的线段组成的折线。上述的控制装置,在屏蔽罩面板上开有长方形孔,长方形孔的四个内角处分别设置有遮挡板,长方形孔除去被遮挡板遮挡的部分而形成所 ...
【技术保护点】
磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置,包括位于屏蔽罩内的阴极靶,其特征是:在正对阴极靶的屏蔽罩面板上开有中间宽度一致,两端宽度逐渐变小的腰形溅射孔,腰形溅射孔的长度方向与阴极靶的长度方向一致。
【技术特征摘要】
1.磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置,包括位于屏蔽罩内的阴极靶,其特征是:在正对阴极靶的屏蔽罩面板上开有中间宽度一致,两端宽度逐渐变小的腰形溅射孔,腰形溅射孔的长度方向与阴极靶的长度方向一致。
2.如权利要求1所述的控制装置,其特征是:腰形溅射孔的两端是半圆弧。
3.如权利要求1所述的控制装置,其特征是:腰形溅射孔的两端是两根或以上的线段组成的折线。
4.如权利要求1、2或3所述的控制...
【专利技术属性】
技术研发人员:王鲁南,朴賸一,王建华,全武贤,李锺允,窦立峰,
申请(专利权)人:南京汇金锦元光电材料有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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