一种摄像模组解像力检测方法及检测系统技术方案

本申请公开了一种摄像模组解像力检测方法及检测系统，其中，利用所述摄像模组解像力检测方法对摄像模组进行解像力测试时，首先将摄像模组设置于温湿度控制箱中；然后通过设置增距镜，并调节增距镜、摄像模组及温湿度控制箱之间的距离，满足测试要求；最后控制所述摄像模组开始工作，利用所述温湿度控制箱控制其内部的环境参数并通过所述摄像模组的处理芯片获取在不同环境参数下所述摄像模组拍摄的靶纸图像，并对所述靶纸图像进行分析获取所述摄像模组在不同环境参数下的解像力参数。所述摄像模组解像力检测方法解决了现有技术中对摄像模组解像力进行测试的检测结果较为单一，不能较为全面的检测所述摄像模组的解像力性能的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及摄像模组检测
，更具体地说，涉及一种摄像模组解像力检测方法及检测系统。
技术介绍
解像力是指摄像模组分辨被摄原物细节的能力，现有技术中测试摄像头解像力的设备包括靶纸和解码工装，在摄像模组测试时，首先将所述解码工装与摄像模组连接；然后选取合适的测试距离，利用摄像模组对准靶纸进行拍摄；最后，所述解码工装将摄像模组拍摄的靶纸图像显示出来后，通过测试员读取靶纸图像中能够分辨的线对有多少，以此表示该摄像模组的解像力。摄像模组在出厂之前都会对摄像模组在经过耐受实验前后的解像力进行测试，测试结果满足解像力出厂要求的摄像模组才能够出厂。所述耐受实验是指将摄像模组置于严苛的环境(例如高温环境或高温高湿环境)一定时间，以测试摄像模组的耐受能力。但是现有技术中对摄像模组解像力的检测仅能够获得所述摄像模组在经过耐受实验前后其解像力的变化情况，检测结果较为单一，不能较为全面的检测所述摄像模组的解像力性能。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种摄像模组解像力检测方法及检测系统，以便于实现获取摄像模组在不同环境参数下的解像力参数，从而较为全面的检测所述摄像模组的解像力性能的目的。为实现上述技术目的，本专利技术实施例提供了如下技术方案：一种摄像模组解像力检测方法，所述摄像模组包括处理芯片，所述摄像模组解像力检测方法包括：将摄像模组设置于温湿度控制箱中，所述摄像模组的镜头朝向所述温湿度控制箱的透视窗；将增距镜设置于温湿度控制箱一侧，与所述摄像模组的镜头对准；将靶纸设置于所述增距镜背离所述摄像模组一侧，并调节所述摄像模组镜头与所述增距镜之间以及所述增距镜与所述靶纸之间的距离，以满足所述摄像模组的检测条件；控制所述摄像模组开始工作，并利用所述温湿度控制箱控制其内部的环境参数，所述环境参数包括温度参数和湿度参数；通过所述处理芯片获取在不同环境参数下所述摄像模组拍摄的靶纸图像，并对所述靶纸图像进行分析获取所述摄像模组在不同环境参数下的解像力参数。优选的，调节所述摄像模组镜头与所述增距镜之间以及所述增距镜与所述靶纸之间的距离，以满足所述摄像模组的检测条件包括：将所述摄像模组镜头与所述增距镜之间的距离调节为2cm；将所述增距镜与所述靶纸之间的距离调节为30cm。优选的，利用所述温湿度控制箱控制其内部的环境参数包括：利用所述温湿度控制箱在预设时间内将其内部的温度由-40℃-95℃循环渐变，将其内部的湿度控制为0％。优选的，利用所述温湿度控制箱控制其内部的环境参数包括：利用所述温湿度控制箱在预设时间内将其内部的温度由-40℃-105℃循环渐变，将其内部的湿度控制为0％。优选的，所述预设时间的取值范围为150h-350h，包括端点值。优选的，所述处理芯片获取在不同环境参数下所述摄像模组拍摄的靶纸图像，并对所述靶纸图像进行分析获取所述摄像模组在不同环境参数下的解像力参数之后还包括：利用所述摄像模组在不同环境参数下的解像力参数绘制所述摄像模组在不同环境参数下的解像力曲线，并通过显示装置显示。优选的，所述解像力参数为调制传输函数值。一种摄像模组解像力检测系统，所述摄像模组包括处理芯片，所述摄像模组解像力检测系统包括：温湿度控制箱，所述温湿度控制箱的一侧包括透视窗，用于调节其内部的环境参数，所述环境参数包括温度参数和湿度参数；设置于所述温湿度控制箱一侧的增距镜，所述增距镜与所述透视窗对准；设置于所述增距镜背离所述温湿度控制箱一侧的靶纸。优选的，所述摄像模组解像力检测系统还包括：显示装置。优选的，所述处理芯片为电荷耦合元件处理芯片或互补金属氧化物半导体处理芯片。从上述技术方案可以看出，本专利技术实施例提供了一种摄像模组解像力检测方法及检测系统；其中，利用所述摄像模组解像力检测方法对摄像模组进行解像力测试时，首先将摄像模组设置于温湿度控制箱中；然后通过设置增距镜，并调节增距镜、摄像模组及温湿度控制箱之间的距离，满足测试要求；最后控制所述摄像模组开始工作，利用所述温湿度控制箱控制其内部的环境参数并通过所述摄像模组的处理芯片获取在不同环境参数下所述摄像模组拍摄的靶纸图像，并对所述靶纸图像进行分析获取所述摄像模组在不同环境参数下的解像力参数。通过上述测试流程可以发现，利用所述摄像模组解像力测试方法对摄像模组进行测试可以获得所述摄像模组在不同环境参数下的解像力参数，解决了现有技术中对摄像模组解像力进行测试的检测结果较为单一，不能较为全面的检测所述摄像模组的解像力性能的问题。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为本申请的一个实施例提供的一种摄像模组解像力检测方法的流程示意图；图2为本申请的一个优选实施例提供的一种摄像模组解像力检测方法的流程示意图；图3为本申请的一个实施例提供的一种摄像模组解像力检测系统的结构示意图。具体实施方式正如
技术介绍
所述，现有技术中对所述摄像模组解像力的测试结果较为单一，不能较为全面的检测所述摄像模组的解像力性能。有鉴于此，本申请实施例提供了一种摄像模组解像力检测方法，所述摄像模组包括处理芯片，所述摄像模组解像力检测方法包括：将摄像模组设置于温湿度控制箱中，所述摄像模组的镜头朝向所述温湿度控制箱的透视窗；将增距镜设置于温湿度控制箱一侧，与所述摄像模组的镜头对准；将靶纸设置于所述增距镜背离所述摄像模组一侧，并调节所述摄像模组镜头与所述增距镜之间以及所述增距镜与所述靶纸之间的距离，以满足所述摄像模组的检测条件；控制所述摄像模组开始工作，并利用所述温湿度控制箱控制其内部的环境参数，所述环境参数包括温度参数和湿度参数；通过所述处理芯片获取在不同环境参数下所述摄像模组拍摄的靶纸图像，并对所述靶纸图像进行分析获取所述摄像模组在不同环境参数下的解像力参数。相应的，本申请实施例还提供了一种摄像模组解像力检测系统，所述摄像模组包括处理芯片，所述摄像模组解像力检测系统包括：温湿度控制箱，所述温湿度控制箱的一侧包括透视窗，用于调节其内部的环境参数，所述环境参数包括温度参数和湿度参数；设置于所述温湿度控制箱一侧的增本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种摄像模组解像力检测方法，所述摄像模组包括处理芯片，其特征在于，所述摄像模组解像力检测方法包括：将摄像模组设置于温湿度控制箱中，所述摄像模组的镜头朝向所述温湿度控制箱的透视窗；将增距镜设置于温湿度控制箱一侧，与所述摄像模组的镜头对准；将靶纸设置于所述增距镜背离所述摄像模组一侧，并调节所述摄像模组镜头与所述增距镜之间以及所述增距镜与所述靶纸之间的距离，以满足所述摄像模组的检测条件；控制所述摄像模组开始工作，并利用所述温湿度控制箱控制其内部的环境参数，所述环境参数包括温度参数和湿度参数；通过所述处理芯片获取在不同环境参数下所述摄像模组拍摄的靶纸图像，并对所述靶纸图像进行分析获取所述摄像模组在不同环境参数下的解像力参数。

【技术特征摘要】
1.一种摄像模组解像力检测方法，所述摄像模组包括处理芯片，其特征
在于，所述摄像模组解像力检测方法包括：
将摄像模组设置于温湿度控制箱中，所述摄像模组的镜头朝向所述温湿
度控制箱的透视窗；
将增距镜设置于温湿度控制箱一侧，与所述摄像模组的镜头对准；
将靶纸设置于所述增距镜背离所述摄像模组一侧，并调节所述摄像模组
镜头与所述增距镜之间以及所述增距镜与所述靶纸之间的距离，以满足所述
摄像模组的检测条件；
控制所述摄像模组开始工作，并利用所述温湿度控制箱控制其内部的环
境参数，所述环境参数包括温度参数和湿度参数；
通过所述处理芯片获取在不同环境参数下所述摄像模组拍摄的靶纸图
像，并对所述靶纸图像进行分析获取所述摄像模组在不同环境参数下的解像
力参数。
2.根据权利要求1所述的摄像模组解像力检测方法，其特征在于，调节
所述摄像模组镜头与所述增距镜之间以及所述增距镜与所述靶纸之间的距
离，以满足所述摄像模组的检测条件包括：
将所述摄像模组镜头与所述增距镜之间的距离调节为2cm；
将所述增距镜与所述靶纸之间的距离调节为30cm。
3.根据权利要求1所述的摄像模组解像力检测方法，其特征在于，利用
所述温湿度控制箱控制其内部的环境参数包括：
利用所述温湿度控制箱在预设时间内将其内部的温度由-40℃-95℃循环
渐变，将其内部的湿度控制为0％。
4.根据权利要求1所述的摄像模组解像力检测方法，其特征在于，利用
所述温湿度控制箱控制其内部的环境参...

【专利技术属性】
技术研发人员：兰胜军，蒋冰林，王鹏，
申请(专利权)人：信利光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44