一种开口掩膜板、掩膜板及基板制造技术

本实用新型专利技术实施例提供一种开口掩膜板、掩膜板及基板，涉及显示技术领域，该掩膜板既可以确保形成膜层的精确度，又可以确保在清洗掩膜板时，防止清洗药液和水残留在掩膜板上。该开口掩膜板上设置有第一凹槽，所述第一凹槽的底部设置有构图区域限定口，所述第一凹槽的底部还设置有通孔。用于形成OLED显示器件中的膜层。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示
，尤其涉及一种开口掩膜板、掩膜板及基板。
技术介绍
有机电致发光二极管(OrganicLightEmitting，简称OLED)显示技术，由于具有自发光、反应速度快、视角广、成本低、制造工艺简单、分辨率高以及亮度高等优点，而使得OLED显示器件受到越来越广泛的应用。OLED显示器件的结构包括阳极、发光层和阴极。其中，发光层一般通过蒸镀的方法形成，而用于真空蒸镀的精细金属掩膜板(FineMetalMask，简称FMM)是蒸镀过程中一项非常重要和关键的部件，该部件的质量和精度直接影响着蒸镀形成的发光层的质量，最终影响着OLED显示器件的良率和质量。
技术实现思路
本技术的实施例提供一种开口掩膜板、掩膜板及基板，该掩膜板既可以确保形成膜层的精确度，又可以确保在清洗掩膜板时，防止清洗药液和水残留在掩膜板上。为达到上述目的，本技术的实施例采用如下技术方案：第一方面，提供一种开口掩膜板，所述开口掩膜板上设置有第一凹槽，所述第一凹槽的底部设置有构图区域限定口，所述第一凹槽的底部还设置有通孔。优选的，所述开口掩膜板的边缘区域还设置有第二凹槽，所述第二凹槽与所述第一凹槽位于所述开口掩膜板的同一侧，所述第二凹槽的底部设置有通孔。优选的，所述开口掩膜板包括多个第一凹槽，每个所述第一凹槽的底部设置有一个所述构图区域限定口。优选的，所述第一凹槽的形状为圆形或矩形。优选的，所述第一凹槽的底部和所述第二凹槽的底部设置有多个所述通孔。进一步优选的，所述通孔为圆形，且所述通孔的直径为600～800μm。第二方面，提供一种掩膜板，包括：框架，固定设置在所述框架上、且相互贴合的开口掩膜板和精细掩膜板，所述开口掩膜板为上述开口掩膜板；第一凹槽的槽口朝向所述精细掩膜板，所述框架不遮挡所述开口掩膜板上的通孔。优选的，所述精细掩膜板包括多个掩膜条，每个所述掩膜条对应一列所述第一凹槽；每个所述掩膜条覆盖所述第一凹槽；或者，每个所述掩膜条覆盖所述构图区域限定口，且不完全覆盖所述第一凹槽。第三方面，提供一种开口掩膜板，所述开口掩膜板上设置有构图区域限定口，所述开口掩膜板的边缘区域设置有第二凹槽，所述第二凹槽的底部设置有通孔。第四方面，提供一种掩膜板，包括：框架，固定设置在所述框架上、且相互贴合的开口掩膜板和精细掩膜板，所述开口掩膜板为上述的开口掩膜板；第二凹槽的槽口朝向所述精细掩膜板，所述框架不遮挡所述开口掩膜板上的通孔。优选的，所述精细掩膜板包括多个掩膜条，所述多个掩膜条不完全覆盖所述第二凹槽。第五方面，提供一种掩膜板，包括：框架，固定设置在所述框架上、且相互贴合的开口掩膜板和精细掩膜板，所述开口掩膜板上设置有第一凹槽，所述第一凹槽的底部设置有构图区域限定口；所述第一凹槽的槽口朝向所述精细掩膜板；所述精细掩膜板包括多个掩膜条，每个所述掩膜条对应一列所述第一凹槽，每个掩膜条覆盖所述第一凹槽底部的构图区域限定口，且不完全覆盖所述第一凹槽。第六方面，提供一种基板，包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的膜层，所述膜层通过上述的掩膜板形成。本技术实施例提供一种开口掩膜板、掩膜板及基板，当开口掩膜板和精细掩膜板配合用于形成图案时，由于开口掩膜板上的构图区域限定口的形状即是要形成图案区域的形状，因而精细掩膜板上的构图区域可以设置成在精细掩膜板焊接时不影响精细掩膜板平坦度的任意形状，且精细掩膜板上的图案覆盖开口掩膜板的构图区域限定口，这样便可以确保利用开口掩膜板和精细掩膜板配合形成的图案的精确度。在此基础上，本技术实施例在开口掩膜板的第一凹槽的底部设置通孔，因而在清洗开口掩膜板和精细掩膜板配合形成的双层掩膜板时，药液和水可以从通孔中流出，从而避免了药液和水残留在第一凹槽内，从而确保了形成的图案的质量。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术提供一种掩膜板的清洗工艺流程示意图；图2(a)为本技术提供的一种开口掩膜板的结构示意图一；图2(b)为本技术提供的一种开口掩膜板的结构示意图二；图2(c)为图2(a)的AA`向剖视示意图；图3为本技术提供的一种开口掩膜板的结构示意图三；图4为本技术提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图一；图5为本技术提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图二；图6(a)为本技术提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图三；图6(b)为本技术提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图四；图7为本技术提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图五；图8为本技术提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图六；图9为本技术提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图七。附图标记：01-开口掩膜板；02-精细掩膜板；03-框架；10-第一凹槽；101-构图区域限定口；102-通孔；20-第二凹槽。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。现有技术中，在利用精细掩膜板进行蒸镀时，必须将精细掩膜板焊接在框架上才能放在蒸镀腔室里面使用。然而，若精细掩膜板上的构图区域为圆形，在将精细掩膜板焊接在框架上时，由于圆形的构图区域会受力不均，因而常会导致精细掩膜板的构图区域发生褶皱，从而影响了精细掩膜板的平坦度。考虑到上述问题，因而本技术通过将开口掩膜板和精细掩膜板配合使用，开口掩膜板上设置有构图区域限定口，精细掩膜板上的图案与开口掩膜板上的构图区域限定口对应，这样精细掩膜板上的构图区域可以设置成任意的形状，只要不影响精细掩膜板焊接时构图区域的平坦度即可，因而开口掩膜板和精细掩膜板配合使用，可以确保精细掩膜板的平坦度，从而可以确保形成的膜层精确度。在此基础上，当掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板时，一方面，考虑到在使用时，由于重力的原因，开口掩膜板可能会向下弯曲，从而导致开口掩膜板上的构图区域限定口弯曲；另一方面，考虑到在利用掩膜板进行蒸镀时，构图区域限定口周围受到的力可能会使得构图区域限定口的形状发生变化。基于上述两个方面的考虑，本技术实施例在开口掩膜板上设置第一凹槽，在第一凹槽的底部设置构图区域限定口，这样一来，第一凹槽不仅可以减小开口掩膜板的重力，而且第一凹槽还可以形成应力缓冲区，防止在蒸镀时开口掩膜板上的构图区域限定口变形。同理，为了减小开口掩膜板的重力，以及防止将开口掩膜板或精细掩膜板焊接在框架上时，开口掩膜板边缘区域受力不均，而影响开口掩膜板构图区域限定口的形状，因而还可以在开口掩膜板的边缘区域设置第二凹槽，这样不仅可以减小开口掩膜板的重力，而且还可以形成应力缓冲区，防止将开口掩膜板或精细掩本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种开口掩膜板，其特征在于，所述开口掩膜板上设置有第一凹槽，所述第一凹槽的底部设置有构图区域限定口，所述第一凹槽的底部还设置有通孔。

【技术特征摘要】
1.一种开口掩膜板，其特征在于，所述开口掩膜板上设置有第一凹槽，所述第一凹槽的底部设置有构图区域限定口，所述第一凹槽的底部还设置有通孔。2.根据权利要求1所述的开口掩膜板，其特征在于，所述开口掩膜板的边缘区域还设置有第二凹槽，所述第二凹槽与所述第一凹槽位于所述开口掩膜板的同一侧，所述第二凹槽的底部设置有通孔。3.根据权利要求1所述的开口掩膜板，其特征在于，所述开口掩膜板包括多个第一凹槽，每个所述第一凹槽的底部设置有一个所述构图区域限定口。4.根据权利要求1所述的开口掩膜板，其特征在于，所述第一凹槽的形状为圆形或矩形。5.根据权利要求1-4任一项所述的开口掩膜板，其特征在于，所述第一凹槽的底部设置有多个所述通孔。6.根据权利要求5所述的开口掩膜板，其特征在于，所述通孔为圆形，且所述通孔的直径为600～800μm。7.根据权利要求2所述的开口掩膜板，其特征在于，所述第二凹槽的底部设置有多个所述通孔。8.根据权利要求7所述的开口掩膜板，其特征在于，所述通孔为圆形，且所述通孔的直径为600～800μm。9.一种掩膜板，其特征在于，包括：框架，固定设置在所述框架上、且相互贴合的开口掩膜板和精细掩膜板，所述开口掩膜板为权利要求1-8任一项所述开口掩膜板；第一凹槽的槽口朝向所述精细掩膜板，所述框架不遮挡所述开口掩膜板上的通孔。10.根据权利要求9所述的掩膜板，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐富强，赵艳艳，林治明，金龙，张健，黄俊杰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：新型
国别省市：北京;11