【技术实现步骤摘要】
本技术涉及化学滴定
，确切地说涉及一种用于化学滴定的新型装置。
技术介绍
滴定速度控制系统、磁力搅拌系统在化学滴定分析中极为常见又占有重要的位置。目前有关滴定装置的专利有很多，大多数用于定量分析如申请号为201420770659.0、授权公告号为CN204320331U的技术专利“一种可以同时进行多个滴定操作的新型滴定装置”，申请号为201320077294.9、授权公告号为CN201125262Y的技术专利“一种用于精密滴定的滴定装置”，申请号为201520182324.1、授权号为CN204495785U的技术专利“一种微量滴定装置”，有关磁搅拌装置的专利也有一些，主要是对搅拌原理进行改善如申请号为ZL94243206.1、授权公告号为CN2223137Y的技术专利“一种磁力搅拌器”，申请号为ZL201420473445.7、授权公告号为CN203990465U的技术专利“一种电磁搅拌装置”，申请号为ZL200720029573.2、授权公告号为CN201125262Y的技术专利，这些都有一个共同的缺点：由于在某些化学反应中不仅需要进行滴定同时还需要进行搅拌，上述专利只是单独地进行滴定或搅拌，没有将滴定与搅拌进行组合。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对上述现有技术现状，而提供一种用于磁力搅拌系统与滴定速度控制系统可以同时进行并可以控制温度的装置。本技术是通过采用下述技术方案实现的：一种用于化学滴定的新型装置，其特征在于：包括滴定速度控制系统、化学反应容器（5）、温度控制系统、磁力搅拌系...
【技术保护点】
一种用于化学滴定的新型装置，包括化学反应容器（5）、磁力搅拌系统（7）、温度控制系统、滴定速度控制系统、底座（9）和密封盖（12），其特征在于：所述磁力搅拌系统（7）位于所述化学反应容器（5）的下方和所述底座（9）的上方，所述温度控制系统呈环形设计并位于所述化学反应容器（5）的外侧，所述温度控制系统包括高温控制系统（10）、低温控制系统（11）、传热层（6）和隔热层（8），所述高温控制系统（10）、低温控制系统（11）均螺旋分布在传热层（6）的外侧，所述隔热层（8）位于所述高温控制系统（10）、低温控制系统（11）的外侧，所述滴定速度控制系统位于所述化学反应容器（5）的上方，所述滴定速度控制系统包括盛反应物A的容器（1）、滴定速度控制装置（2）、转动装置（3）和支架（4）。
【技术特征摘要】
1.一种用于化学滴定的新型装置，包括化学反应容器（5）、磁力搅拌系统（7）、温度控制系统、滴定速度控制系统、底座（9）和密封盖（12），其特征在于：所述磁力搅拌系统（7）位于所述化学反应容器（5）的下方和所述底座（9）的上方，所述温度控制系统呈环形设计并位于所述化学反应容器（5）的外侧，所述温度控制系统包括高温控制系统（10）、低温控制系统（11）...
【专利技术属性】
技术研发人员：吕珍珍，邬应龙，罗松明，严秋萍，
申请(专利权)人：四川农业大学，
类型：新型
国别省市：四川;51
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。