一种节釉喷头及使用其的喷釉柜和喷釉系统技术方案

本实用新型专利技术公开一种节釉喷头及使用其的喷釉柜和喷釉系统，包括釉料供料部和喷射部，所述喷射部包括喷嘴和喷射部本体，所述釉料供料部的一端连通所述喷射部本体的开口端，所述喷嘴包括矩形平衡部和圆弧端部，所述矩形平衡部为矩形的镂空，两个所述圆弧端部分别设置于所述矩形平衡部的两端。本实用新型专利技术的节釉喷头不仅结构简单，而且喷射均匀，喷射角度适中，较少飘粉的产生；本实用新型专利技术的喷釉柜，通过对柜体长度的调节，使得在喷涂的过程中，产生的漂粉较少溢出喷釉柜本体，不会对周边环境造成影响，而且也节省釉料；本实用新型专利技术的喷釉系统，通过对不同区段的输送带的运输速度进行调节，使得喷涂施釉更加高效，釉料损耗进一步减少。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于建筑陶瓷机械的
，特别涉及一种节釉喷头及使用其的喷釉柜和喷釉系统。
技术介绍
刀式喷釉柜在建筑陶瓷砖的生产中的一种喷釉设备，该喷釉设备通过高压泵，将釉浆抽入喷嘴，釉浆通过喷嘴喷出扇形釉幕，然后通过皮带将干燥好的砖坯连续输送通过釉幕，从而达到施釉的目的。目前釉料喷头的结构如图3、4所示，喷嘴形状为两端尖、中间宽的对称的“眼睛”状，即上下两端为弧线型，喷嘴两端压强大于中间，一方面会使得喷出的釉幕不均匀，造成需要增加釉幕宽度与砖坯宽度的比(约2:1)，如此一来，有大概一半的釉料落在了砖坯之外，造成了釉料的损耗；另一方面，这部分落下的釉料在不断下落分散的过程中，产生飘粉，不仅增加了釉料的损耗，而且还对周边的环境带来了污染。
技术实现思路
本技术的目的在于解决上述技术问题，提出一种节釉喷头及使用其的喷釉柜及喷釉系统。一种节釉喷头，包括釉料供料部和喷射部，所述喷射部包括喷嘴和喷射部本体，所述釉料供料部的一端连通所述喷射部本体的开口端，所述喷嘴包括矩形平衡部和圆弧端部，所述矩形平衡部为矩形的镂空，两个所述圆弧端部分别设置于所述矩形平衡部的两端。优选的，所述釉料供料部包括釉料连接部和釉料缓冲部，所述釉料缓冲部设置于所述釉料连接部的一端，所述釉料连接部通过釉料缓冲部连通所述喷射部；所述釉料缓冲部的横截面积大于所述釉料连接部和所述喷射部。优选的，所述喷嘴的喷出角度为70-50°。一种使用权利要求1-3任意一项所述的节釉喷头的喷釉柜，其特征在于：包括喷釉柜本体和节釉喷头，若干所述节釉喷头纵向排列形成喷头组，所述喷头组设置于所述喷釉柜本体的顶壁的中部，所述喷釉柜本体的纵向长度为所述喷头组的纵向长度的3-4倍。一种使用本技术的喷釉柜的喷釉系统，包括输送线、储坯器和所述喷釉柜；所述储坯器通过输送线连接所述喷釉柜，所述储坯器设置于所述喷釉柜的上游。优选的，所述输送线从上游到下游依次包括取坯段、喷釉段和成品段；所述取坯段的上方设置有所述储坯器；所述喷釉段的上方设置有所述喷釉柜；所述成品段的入料端与所述喷釉段的出料端连接；所述喷釉段的输送速度比取坯段或成品段的输送速度慢。优选的，所述取坯段的输送速度为12-4米/秒；所述喷釉段的输送速度为6-1米/秒；所述成品段的输送速度为12-4米/秒。优选的，所述节釉喷头的喷嘴距离所述输送线的垂直距离为80-55CM。本技术的节釉喷头不仅结构简单，而且喷射均匀，喷射角度适中，较少飘粉的产生；本技术的喷釉柜，通过对柜体长度的调节，使得在喷涂的过程中，产生的漂粉较少溢出喷釉柜本体，不会对周边环境造成影响，而且也节省釉料；本技术的喷釉系统，通过对不同区段的输送带的运输速度进行调节，使得喷涂施釉更加高效，釉料损耗进一步减少；而且喷枪与输送带的距离适中，使得喷涂施釉的效率进一步提高。附图说明附图对本技术做进一步说明，但附图中的内容不构成对本技术的任何限制。图1是本技术其中一个实施例的喷釉系统的示意图；图2是本技术其中一个实施例的喷头的示意图；图3是本技术其中一个实施例的喷头的俯视图；图4是现有技术的喷头的示意图；图5是现有技术的喷头的俯视图。其中：釉料供料部1；釉料连接部11；釉料缓冲部12；喷射部2；喷嘴21；喷射部本体22；矩形平衡部211；圆弧端部212；喷釉柜本体3；取坯段41、喷釉段42；成品段43；储坯器5。具体实施方式下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。本实施例的节釉喷头(如图2、3所示)，包括釉料供料部1和喷射部2，所述喷射部2包括喷嘴21和喷射部本体22，所述釉料供料部1的一端连通所述喷射部本体22的开口端，所述喷嘴21包括矩形平衡部211和圆弧端部212，所述矩形平衡部211为矩形的镂空，两个所述圆弧端部212分别设置于所述矩形平衡部211的两端。釉料从经过增压泵，从节釉喷头的釉料供料部1流向喷射部2，并在喷嘴21中喷射出来形成扇形的釉幕，由于喷嘴21中设置的矩形平衡部211，使得釉料喷出的压力均衡，形成的釉幕也是厚度均匀，这样便可以在与砖坯较近的距离进行施喷釉料，避免釉料的损耗。优选的，所述釉料供料部1包括釉料连接部11和釉料缓冲部12，所述釉料缓冲部12设置于所述釉料连接部11的一端，所述釉料连接部11通过釉料缓冲部12连通所述喷射部2；所述釉料缓冲部12的横截面积大于所述釉料连接部11和所述喷射部2。由于釉料从增压泵流向节釉喷头，不仅会有紊流，而且存在压力不稳、气泡含量较高的问题，设置釉料缓冲部12可以使得釉料在釉料缓冲部12停缓一会，再进行喷出，这样便可以进一步提高釉幕的质量了。更具体的，所述喷嘴21的釉料喷出的角度为70-50°，更优选的，喷出角度为65-55°(60°也可以)；配合所述节釉喷头安装在喷釉系统上时，喷嘴21距离所述输送线4的垂直距离为80-55CM，更优选的，喷出距离为70-60CM。釉料喷出的角度(可以理解为扇形釉幕的角度)，不易过大，如果过大的话，便会造成很大一部分釉料喷不到砖坯上，并形成飘粉，造成浪费。一种使用本实施例所述的节釉喷头的喷釉柜，包括喷釉柜本体3和节釉喷头，若干所述节釉喷头纵向排列形成喷头组，所述喷头组设置于所述喷釉柜本体3的顶壁的中部，所述喷釉柜本体3的纵向长度为所述喷头组的纵向长度的3-4倍。节釉喷头纵向一直排列于所述喷釉柜本体3，这样便会使得喷釉过程更加均匀，而增加喷釉柜本体3的长度，使其达到喷头组的纵向长度的3-4倍，这样可以进一步避免喷釉时产生的飘粉从喷釉柜本体3的两端溢出，造成釉料的浪费和周边环境的污染。一种使用本实施例所述的喷釉柜的喷釉系统，包括输送线4、储坯器5和所述喷釉柜；所述储坯器5通过输送线4连接所述喷釉柜，所述储坯器5设置于所述喷釉柜的上游。更具体的，所述输送线4从上游到下游依次包括取坯段41、喷釉段42和成品段43；所述取坯段41的上方设置有所述储坯器5；所述喷釉段42的上方设置有所述喷釉柜；所述成品段43的入料端与所述喷釉段42的出料端连接；所述喷釉段42的输送速度比取坯段41或成品段43的输送速度慢。如此设置，可以使得当砖坯从取坯段41到喷釉段42时，减少砖坯与砖坯之间的间距，从而提高釉料施喷的效率；而从喷釉段42到成品段43时，输送速度稍微增加，把砖坯与砖坯的距离重新拉开，方便后续进入窑炉烧制成型。优选的，所述取坯段的输送速度为12-4米/秒(优选10-5米/秒)；所述喷釉段的输送速度为6-1米/秒(优选5-2米/秒)；所述成品段的输送速度为12-4米/秒(优选10-5米/秒)。以上结合具体实施例描述了本技术的技术原理。这些描述只是为了解释本技术的原理，而不能以任何方式解释为对本技术保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本技术的其它具体实施方式，这些方式都将落入本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种节釉喷头，包括釉料供料部和喷射部，所述喷射部包括喷嘴和喷射部本体，所述釉料供料部的一端连通所述喷射部本体的开口端，其特征在于：所述喷嘴包括矩形平衡部和圆弧端部，所述矩形平衡部为矩形的镂空，两个所述圆弧端部分别设置于所述矩形平衡部的两端。

【技术特征摘要】
1.一种节釉喷头，包括釉料供料部和喷射部，所述喷射部包括喷嘴和喷射部本体，所述釉料供料部的一端连通所述喷射部本体的开口端，其特征在于：所述喷嘴包括矩形平衡部和圆弧端部，所述矩形平衡部为矩形的镂空，两个所述圆弧端部分别设置于所述矩形平衡部的两端。2.根据权利要求1所述的节釉喷头，其特征在于：所述釉料供料部包括釉料连接部和釉料缓冲部，所述釉料缓冲部设置于所述釉料连接部的一端，所述釉料连接部通过釉料缓冲部连通所述喷射部；所述釉料缓冲部的横截面积大于所述釉料连接部和所述喷射部。3.根据权利要求1所述的节釉喷头，其特征在于：所述喷嘴的喷出角度为70-50°。4.一种使用权利要求1-3任意一项所述的节釉喷头的喷釉柜，其特征在于：包括喷釉柜本体和节釉喷头，若干所述节釉喷头纵向排列形成喷头组，所述喷头组设置于所述喷釉柜本体的顶壁的中部，所述喷釉柜本体的纵向长度为所述喷头组的纵向长度的3-4倍。5.一种使用权利要求4所述的喷釉柜...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗宏，周燕，
申请(专利权)人：佛山市东鹏陶瓷有限公司，佛山华盛昌陶瓷有限公司，广东东鹏陶瓷股份有限公司，广东东鹏控股股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44