本实用新型专利技术提供一种线栅偏振片及液晶显示面板,属于线栅偏振片技术领域,其可解决现有的线栅偏振片容易将环境光反射回去,影响显示效果的问题。本实用新型专利技术的线栅偏振片包括多个相互平行且间隔排布的反射条,以及设于所述反射条一侧的吸光层。
【技术实现步骤摘要】
本技术属于线栅偏振片
,具体涉及一种线栅偏振片及液晶显示面板。
技术介绍
如图1、图2所示,线栅偏振片(WGP,WireGridPolarizer)是偏振片的一种类型。线栅偏振片包括设于基底9上的多个相互平行且间隔排列的反射条1(如金属线),其可将偏振方向与反射条平行的光反射回去,而允许偏振方向与反射条垂直的光透过。线栅偏振片的作用原理可能与反射条1中的电子与不同偏振光之间的作用有关,在此不再详细描述。对于不能透过的光,线栅偏振片是将其反射回去而不是吸收。故若将线栅偏振片用于液晶显示面板中,则其会将偏振方向不正确的光反射回背光源中,这些光线在背光源中经反射后再次射出时可能转变为偏振方向正确的偏振光,可透过线栅偏振片,从而提高了对光能的利用率。但是,以上线栅偏振片也会将部分由外界射入液晶显示面板的环境光反射回去,故当环境光较强时,反射的环境光会对显示效果造成影响。
技术实现思路
本技术针对现有的线栅偏振片容易将环境光反射回去,影响显示效果的问题,提供一种可避免反射环境光的线栅偏振片及液晶显示面板。解决本技术技术问题所采用的技术方案是一种线栅偏振片,其包括多个相互平行且间隔排布的反射条,以及设于所述反射条一侧的吸光层。优选的是,所述吸光层由非晶硅材料构成。优选的是,所述吸光层的厚度在100nm至1000nm。优选的是,所述线栅偏振片还包括设于所述吸光层远离反射条一侧的高折射率层,所述高折射率层的材料的折射率大于或等于1.5。进一步优选的是,所述高折射率层由氮化硅或氧化硅构成。进一步优选的是,所述高折射率层的厚度在50nm至1000nm。优选的是,所述反射条由金属材料构成。优选的是,每条所述反射条的宽度在50nm至200nm,相邻反射条的间的距离在50nm至200nm。优选的是,所述线栅偏振片还包括透明的基底,所述吸光层设于所述反射条远离基底的一侧。解决本技术技术问题所采用的技术方案是一种液晶显示面板,其包括:上述的线栅偏振片,其中线栅偏振片的反射条具有吸光层的一侧朝向液晶显示面板的出光面。在本技术的线栅偏振片中,在反射条一侧设有吸光层,故从该侧照射到反射条上的光大部分会被吸光层吸收,反射回去的很少,而射到反射条另一侧光仍可被反射回去或透过;由此当把该线栅偏振片用于液晶显示面板时,其可将来自背光源的光反射回去以提高光能利用率,而同时又可降低对环境光的反射,从而改善显示效果。附图说明图1为现有的线栅偏振片的俯视结构示意图;图2为现有的线栅偏振片的剖面结构示意图;图3为本技术的实施例的另一种线栅偏振片的俯视结构示意图;图4为图3的线栅偏振片的剖面结构示意图;图5为本技术的实施例的另一种线栅偏振片制备过程中涂布压印胶后的剖面结构示意图;图6为本技术的实施例的另一种线栅偏振片制备过程中进行纳米压印时剖面结构示意图;图7为本技术的实施例的另一种线栅偏振片制备过程中纳米压印完成后的剖面结构示意图;图8为本技术的实施例的另一种线栅偏振片制备过程中对铝金属层刻蚀完成后的剖面结构示意图;图9为本技术的实施例的另一种线栅偏振片的剖面结构示意图;图10为本技术的实施例的又一种线栅偏振片的剖面结构示意图;图11为本技术的实施例的不同线栅偏振片对不同波长的光的反射率曲线图;图12为本技术的实施例的具有高折射率层的不同线栅偏振片对不同波长的光的反射率曲线图;其中,附图标记为:1、反射条;11、铝金属层;2、吸光层;21、非晶硅层;3、高折射率层;31、氮化硅层;5、保护层;8、压印胶;89、纳米压印模板;9、基底。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本技术的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细描述。实施例1:如图3至图12所示,本实施例提供一种线栅偏振片,其包括多个相互平行且间隔排布的反射条1,以及设于反射条1一侧的吸光层2。也就是说,本实施例的线栅偏振片中包括常规的反射条1,多个反射条1沿同一方向排列,且之间有间隔,从而构成“线栅”结构,其能将偏振方向与反射条1平行的光回去,而允许偏振方向与反射条1垂直的光透射,即能起到“偏振片”的作用。而在反射条1一侧,还设有能对光线起到较强吸收作用的吸光层2,可将射到其上的光线大部分吸收掉。在本实施例的线栅偏振片中,在反射条1一侧还设有吸光层2,故从该侧照射到反射条1上的光大部分会被吸光层2吸收,而反射回去的很少,同时射到反射条1另一侧的光仍可被反射回去或透过;由此当把该线栅偏振片用于液晶显示面板时,其既可将来自背光源的光反射回去以提高光能利用率,而同时又可降低对环境光的反射,从而改善显示效果。优选的,各反射条1由金属材料构成。也就是说,可用金属材料(例如率、铜等)制造反射条1,使其成为“金属线”的形式,这是因为金属材料一般本身即具有较高的反射率,且成本低、制备工艺成熟,是最合适反射条1的材料。优选的,每条反射条1的宽度在50nm至200nm,相邻反射条1的间的距离在50nm至200nm。线栅偏振片的反射性能与其中反射条1的尺寸参数密切相关,通常而言,用于处理可见光的反射条1的宽度和间距应处于以上范围。优选的,线栅偏振片还包括透明的基底9,吸光层2设于反射条1远离基底9的一侧。也就是说,如图4所示,以上反射条1可以是设在透明的基底9上的,而在此情况下,吸光层2优选比反射条1离基底9更远,或者说反射条1设在基底9上,而吸光层2设在反射条1上。其中,该基底9可由玻璃构成,也可由柔性的透明聚合物材料构成。当然,在线栅偏振片中还可包括其他已知的结构,例如,可如图10所示,设有透明的保护层5,将反射条1、吸光层2等都封闭在其中以进行保护。优选的,吸光层2由非晶硅材料构成。也就是说,可用非晶硅材料(a-Si)来形成以上的吸光层2,之所以如此,是因为如前所述,反射条1的尺寸是很细小的,故其上吸光层2的尺寸也很细小,而常规的能吸收光线的有机材料(比如黑矩阵)多数难以达到这么高的成型精度,经研究发现,非晶硅材料既可准确形成以上吸光层2,也可起到较高的吸光效果。优选的,吸光本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种线栅偏振片,包括多个相互平行且间隔排布的反射条,其特征在于,所述线栅偏振片还包括:设于所述反射条一侧的吸光层。
【技术特征摘要】
1.一种线栅偏振片,包括多个相互平行且间隔排布的反射
条,其特征在于,所述线栅偏振片还包括:
设于所述反射条一侧的吸光层。
2.根据权利要求1所述的线栅偏振片,其特征在于,
所述吸光层由非晶硅材料构成。
3.根据权利要求1所述的线栅偏振片,其特征在于,
所述吸光层的厚度在100nm至1000nm。
4.根据权利要求1所述的线栅偏振片,其特征在于,还包括:
设于所述吸光层远离反射条一侧的高折射率层,所述高折射
率层的材料的折射率大于或等于1.5。
5.根据权利要求4所述的线栅偏振片,其特征在于,
所述高折射率层由氮化硅或氧化硅构成。
6.根据权利要求4所述的线栅偏振片,其特征在于,
...
【专利技术属性】
技术研发人员:何晓龙,王维,姚继开,黄华,周婷婷,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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