版图布局的设计方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种版图布局的设计方法及装置，其中，该方法包括：根据已完成的电子线路的原理图确定关键器件的版图布局参数；按照关键器件的版图布局参数对电子线路进行仿真；以及根据仿真结果对电子线路的原理图进行调整。本发明专利技术解决了LDE的工艺设计流程中工作量大且开发周期长的技术问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子线路领域，具体而言，涉及一种版图布局的设计方法及装置。
技术介绍
随着工艺尺寸的不断缩小，标准互补金属氧化物半导体存储器(ComplementaryMetal-Oxide-Semiconductor，简称为CMOS)工艺中的布局依赖效应(Layout-DependentEffects，简称为LDE)影响越来越突出，在40nm/45nm及以下工艺中，LDE已经不能忽略，所以，现在先进工艺的模型已经在传统模型的基础上引入了与LDE有关的参数。但是，这些参数中的很大一部分只能在版图完成之后才能有效，进而在版图仿真(Post-LayoutSimulation)时应用。如果采用传统的设计流程，即首先完成原理图设计，进而进行版图布局、连线，再进行仿真，势必造成大量的返工，使得设计者的工作量大大增加。这是因为原理图仿真(Pre-LayoutSimulation)和版图仿真的在LDE参数方面差距较大，造成原理图仿真结果和版图仿真结果有较大的差距，使得即使原理图仿真结果满足要求，而版图仿真结果不能满足要求，所以，就要原理图和版图多次修改，造成设计者工作量增加。目前，在先进工艺设计流程方面，有两种情况：1)传统设计流程：原理图完成之后进行版图布局、提取，进而仿真，版图仿真中模型中的LDE参数有效。图1所示S102至S116是根据相关技术的LDE显著的传统设计流程图，对LDE显著的先进工艺采用此流程，如图1所示，由于步骤S106和S116的仿真结果会有较大差距，会造成设计周期增加，从而设计者的工作量增加；2)包括LDE的新设计流程：在完成原理图后，将没有LDE效应的模型和LDE效应分别处理，然后在仿真中将二者的结果结合，得到包括LDE的后仿结果。图2是根据相关技术的包括LDE的新设计流程图，如图2所示，这种方法可以降低仿真时间，但是，仍然没有减少原理图和版图的交互，因而，设计者工作量还是较大。可见，以上两种流程均不能降低先进工艺设计者的工作量，也就是说，无论是在传统流程中对模型(Model)引入LDE，还是利用Model和LDE分离的方法，都不能增加原理图仿真结果和版图仿真结果的一致性。这是因为设计者对原理图的设计裕量较难把握，所以，会造成原理图和版图之间交互工作量大大增加，延长了开发周期。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种版图布局的设计方法及装置，以至少解决上述相关LDE的工艺设计流程中工作量大且开发周期长的问题。根据本专利技术实施例的一个方面，提供了一种版图布局的设计方法，包括：根据已完成的电子线路的原理图确定关键器件的版图布局参数；按照上述关键器件的版图布局参数对上述电子线路进行仿真；以及根据仿真结果对上述电子线路的原理图进行调整。可选地，根据仿真结果对上述电子线路的原理图进行调整包括：根据仿真结果所对应的性能参数和预设的上述电子线路的性能参数，对上述电子线路的原理图进行调整。可选地，按照上述关键器件的版图布局参数对上述电子线路进行仿真包括：按照上述关键器件的版图布局参数以及除上述关键器件之外的其他元件的原理图，对上述电子线路进行仿真。可选地，在上述电子线路为模拟电路的情况下，根据上述关键器件的版图布局参数的仿真结果对上述电子线路的原理图进行调整，再根据上述关键器件的版图布局参数以及除上述关键器件之外的其他元件的原理图的仿真结果对上述电子线路的原理图进行调整；和/或，在上述电子线路为数字电路的情况下，根据上述关键器件的版图布局参数以及除上述关键器件之外的其他元件的原理图的仿真结果对上述电子线路的原理图进行调整。可选地，上述关键器件的版图布局参数为上述关键器件对应的全部或部分LDE参数。可选地，按照上述关键器件的版图布局参数对上述电子线路进行仿真包括：按照上述关键器件的版图布局参数所对应的有效的LDE模型对上述电子线路进行仿真。可选地，根据仿真结果对上述电子线路的原理图进行调整之后，还包括：使用设计工具，将上述关键器件作为一个整体与除上述关键器件之外的其他元件一起进行版图的自动布局；对自动布局结果进行手动调整，并对调整后的版图布局进行仿真。根据本专利技术实施例的另一个方面，还提供了一种版图布局的设计装置，包括：确定模块，用于根据已完成的电子线路的原理图确定关键器件的版图布局参数；仿真模块，用于按照上述关键器件的版图布局参数对上述电子线路进行仿真；以及校准模块，用于根据仿真结果对上述电子线路的原理图进行调整。可选地，上述校准模块还用于根据仿真结果所对应的性能参数和预设的上述电子线路的性能参数，对上述电子线路的原理图进行调整。可选地，上述仿真模块还用于按照上述关键器件的版图布局参数所对应的有效的LDE模型对上述电子线路进行仿真。通过本专利技术，采用“根据已完成的电子线路的原理图确定关键器件的版图布局参数，按照确定的关键器件的版图布局参数对电子线路进行仿真，并根据仿真结果对电子线路的原理图进行调整”的方式，避免了由于原理图和版图的直接交互而造成的原理图和版图的反复修改，解决了相关LDE的工艺设计流程中工作量大且开发周期长的问题，从而实现提高系统工作效率的效果。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1是根据相关技术的LDE显著的传统设计流程图；图2是根据相关技术的包括LDE的新设计流程图；图3是根据本专利技术实施例的一种可选的设计方法的流程图；图4是根据本专利技术实施例的一种可选的设计装置的结构框图；图5是根据本专利技术实施例的一种可选的设计方法的流程图。具体实施方式下文中将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。根据本专利技术实施例，提供了一种版图布局的设计方法。图3是根据本专利技术实施例的一种版图布局的设计方法的流程图，如图3所示，该方法包括如下步骤：步骤S302，根据已完成的电子线路的原理图确定关键器件的版图布局参数；步骤S304，按照确定的关键器件的版图布局参数对电子线路进行仿真；以及步骤S306，根据仿真结果对电子线路的原理图进行调整。通过上述步骤，采用“根据已完成的电子线路的原理图确定关键器件的版图布局参数，按照确定的关键器件的版图布局参数对电子线路进行仿真，并根据仿真结果对电子线路的原理图进行调整”的方式，避免了由于原理图和版图的直接交互而造成的原理图和版图的反复修改，解决了相本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种版图布局的设计方法，其特征在于，包括：根据已完成的电子线路的原理图确定关键器件的版图布局参数；按照所述关键器件的版图布局参数对所述电子线路进行仿真；以及根据仿真结果对所述电子线路的原理图进行调整。

【技术特征摘要】
1.一种版图布局的设计方法，其特征在于，包括：
根据已完成的电子线路的原理图确定关键器件的版图布局参数；
按照所述关键器件的版图布局参数对所述电子线路进行仿真；以及
根据仿真结果对所述电子线路的原理图进行调整。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据仿真结果对所述电子线路的原理图进行
调整包括：
根据仿真结果所对应的性能参数和预设的所述电子线路的性能参数，对所述电子线
路的原理图进行调整。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，按照所述关键器件的版图布局参数对所述电
子线路进行仿真包括：
按照所述关键器件的版图布局参数以及除所述关键器件之外的其他元件的原理图，
对所述电子线路进行仿真。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
在所述电子线路为模拟电路的情况下，根据所述关键器件的版图布局参数的仿真结
果对所述电子线路的原理图进行调整，再根据所述关键器件的版图布局参数以及除所述
关键器件之外的其他元件的原理图的仿真结果对所述电子线路的原理图进行调整；和/或，
在所述电子线路为数字电路的情况下，根据所述关键器件的版图布局参数以及除所
述关键器件之外的其他元件的原理图的仿真结果对所述电子线路的原理图进行调整。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述关...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱光，陈先敏，冯光涛，杨家奇，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31