一种适用于大面积镀膜的线性镀膜源及其真空镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:14933889 阅读:58 留言:0更新日期:2017-03-31 15:49
本实用新型专利技术一种适用于大面积镀膜的线性镀膜源及其真空镀膜装置,包括填料容器、开关及蒸发容器,该填料容器与所述蒸发容器连接,所述开关设置在填料容器与蒸发容器之间用于控制填料容器中的物料进入蒸发容器,该蒸发容器内设置有加热元件,该加热元件用于将进入蒸发容器内的物料加热蒸发为蒸汽流,该蒸汽流用于基板上的镀膜。本实用新型专利技术线性镀膜源通过在基板布置至少两个以上的镀膜源,能够在更大面积的基板上沉积均匀的薄膜和不同种类的薄膜,填料容器设置在真空腔室外,可以不间断的填充物料、或者更换物料种类,通过开关控制镀膜源的流量大小,通断,决定基板各个区域镀膜的厚度和种类。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空镀膜
,尤其是一种适用于大面积镀膜的线性镀膜源及其真空镀膜装置。
技术介绍
随着工业的发展,镀膜技术在各个行业的应用日益广泛,对镀膜产品的要求也越来越严格:(1)面积越来越大;(2)膜厚的均匀性要求越来越高;(3)膜厚速度越来越快等。因此,如何控制精密镀膜以及高效镀膜成为镀膜技术的关键。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本技术目的是提供一种适用于大面积镀膜的线性镀膜源及其真空镀膜装置。本技术采用的技术方案是:一种适用于大面积镀膜的线性镀膜源,包括填料容器、开关及蒸发容器,该填料容器与所述蒸发容器连接,所述开关设置在填料容器与蒸发容器之间用于控制填料容器中的物料进入蒸发容器,该蒸发容器内设置有加热元件,该加热元件用于将进入蒸发容器内的物料加热蒸发为蒸汽流,该蒸汽流用于基板上的镀膜。一种适用于大面积镀膜的真空镀膜装置,包括真空腔室、以及两个以上线性分布在真空腔室内待镀膜基板上方的线性镀膜源,该包括填料容器、开关及蒸发容器,该填料容器设置在真空腔室外且与所述蒸发容器连接,蒸发容器位于真空腔室内,所述开关设置在填料容器与蒸发容器之间用于控制填料容器中的物料进入蒸发容器,该蒸发容器内设置有加热元件,该加热元件用于将进入蒸发容器内的物料加热蒸发为蒸汽流,该蒸汽流用于基板上的镀膜。本技术的有益效果:本技术线性镀膜源通过在基板布置至少两个以上的镀膜源,能够在更大面积的基板上沉积均匀的薄膜和不同种类的薄膜,填料容器设置在真空腔室外,可以不间断的填充物料、或者更换物料种类,通过开关控制镀膜源的流量大小,通断,决定基板各个区域镀膜的厚度和种类。附图说明下面结合附图对本技术的具体实施方式做进一步的说明。图1为本技术线性镀膜源的结构示意图;图2为本技术真空镀膜装置的结构示意图。具体实施方式如图1所示,为本技术的一种适用于大面积镀膜的线性镀膜源,包括填料容器1、开关2及蒸发容器3,该填料容器1与所述蒸发容器3连接,所述开关2设置在填料容器1与蒸发容器3之间用于控制填料容器1中的物料进入蒸发容器3,该蒸发容器3内设置有加热元件,该加热元件用于将进入蒸发容器3内的物料加热蒸发为蒸汽流4,该蒸汽流4用于基板5上的镀膜。如图2所示,为本技术的另一技术方案:一种适用于大面积镀膜的真空镀膜装置,包括真空腔室6、以及两个以上线性分布在真空腔室6内待镀膜基板5上方的线性镀膜源,该包括填料容器1、开关2及蒸发容器3,该填料容器1设置在真空腔室6外,可以不间断的填充物料、或者更换物料种类,且与所述蒸发容器3连接,蒸发容器3位于真空腔室6内,所述开关2设置在填料容器1与蒸发容器3之间用于控制填料容器1中的物料进入蒸发容器3,该蒸发容器3内设置有加热元件,该加热元件用于将进入蒸发容器3内的物料加热蒸发为蒸汽流4,该蒸汽流4用于基板5上的镀膜,通过开关2控制镀膜源的流量大小,通断,决定基板5各个区域镀膜的厚度和种类。如上所述,可以看出本技术线性镀膜源通过在基板5布置至少两个以上的镀膜源,能够在更大面积的基板5上沉积均匀的薄膜和不同种类的薄膜,填料容器1设置在真空腔室6外,可以不间断的填充物料、或者更换物料种类,通过开关2控制镀膜源的流量大小,通断,决定基板5各个区域镀膜的厚度和种类。以上所述仅为本技术的优先实施方式,本技术并不限定于上述实施方式,只要以基本相同手段实现本技术目的的技术方案都属于本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种适用于大面积镀膜的线性镀膜源,其特征在于:包括填料容器、开关及蒸发容器,该填料容器与所述蒸发容器连接,所述开关设置在填料容器与蒸发容器之间用于控制填料容器中的物料进入蒸发容器,该蒸发容器内设置有加热元件,该加热元件用于将进入蒸发容器内的物料加热蒸发为蒸汽流,该蒸汽流用于基板上的镀膜。

【技术特征摘要】
1.一种适用于大面积镀膜的线性镀膜源,其特征在于:包括填料容器、开关及蒸发容器,该填料容器与所述蒸发容器连接,所述开关设置在填料容器与蒸发容器之间用于控制填料容器中的物料进入蒸发容器,该蒸发容器内设置有加热元件,该加热元件用于将进入蒸发容器内的物料加热蒸发为蒸汽流,该蒸汽流用于基板上的镀膜。2.一种适用于大面积镀膜的真空镀膜装置,其特征在于:包括真空...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈金良蓝仕虎何光俊齐鹏飞
申请(专利权)人:中山瑞科新能源有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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