【技术实现步骤摘要】
本技术涉及首饰，特别涉及首饰表面加工的花纹。
技术介绍
现有技术中首饰表面刻画的花纹一般都是以图案本身的效果来装饰，这种花纹的效果比较单一，在光线不好的情况下，效果不明显，也有一种在首饰表面刻画沟槽的首饰，这种首饰利用沟槽的光衍射原理，产生炫彩的效果，取得不错的效果，但目前这种炫彩首饰沟槽之间为紧密连接的结构，由于光学衍射过程中，相邻沟槽的衍射形成相互影响，使得炫彩的效果比较乱，分不清层次，并未达到理想的效果。
技术实现思路
本技术提供一种光衍射首饰，采用在相邻两个沟槽之间设置一定间距的方式，使得各沟槽炫彩效果更加明显，解决现有技术中炫彩效果不完美的技术问题。本技术为解决上述问题而设计的这种光衍射首饰包括首饰本体，该首饰还包括在首饰本体上刻画的第一刻划线组，所述第一刻划线组中的相邻两条第一刻划线之间间隔有第一隔离带，第一刻划线组中的相邻两条第一刻划线相互平行。本技术的进一步改进在于：所述第一刻划线为刀具刻划出的沟槽，所述沟槽的截面为三角形或弧形。本技术的更进一步改进在于：该首饰还包括在首饰本体上刻画的第二刻划线组，所述第二刻划线组的形状和构成与所述第一刻划线组相同，所述第二刻划线组中的第二刻划线与所述第一刻划线的形状及结构均相同。本技术的再进一步改进在于：所述第一刻划线组和第二刻划线组均呈带状，所述第一刻划线组轴线和第二刻划线组的轴线相交。所述首饰本体为金属材质或表面涂镀有金属层的戒指、镶宝石戒指、项链或吊坠。本技术采用上述的技术方案，可以使得各沟槽衍射出来的炫彩效果更加富有层次，提高观赏性。附图说明图1为本技术光衍射首饰的立体示意图。图2为本技术沟槽部位的...
【技术保护点】
一种光衍射首饰，包括首饰本体（10），其特征在于：该首饰还包括在首饰本体（10）上刻画的第一刻划线组（20），所述第一刻划线组（20）中的相邻两条第一刻划线（21）之间间隔有第一隔离带（22），第一刻划线组（20）中的相邻两条第一刻划线（21）相互平行，所述第一隔离带（22）的宽度为5～35ｕｍ。
【技术特征摘要】
1.一种光衍射首饰，包括首饰本体（10），其特征在于：该首饰还包括在首饰本体（10）上刻画的第一刻划线组（20），所述第一刻划线组（20）中的相邻两条第一刻划线（21）之间间隔有第一隔离带（22），第一刻划线组（20）中的相邻两条第一刻划线（21）相互平行，所述第一隔离带（22）的宽度为5～35ｕｍ。2.根据权利要求1所述光衍射首饰，其特征在于：所述第一隔离带（22）的宽度为8～12ｕｍ。3.根据权利要求1所述光衍射首饰，其特征在于：所述第一隔离带（22）的宽度为10ｕｍ。4.根据权利要求1所述光衍射首饰，其特征在于：所述第一刻划线（21）为刀具刻划出的沟槽。5.根据权利要求4所述光衍射首饰，其特征在于：所述沟槽的截面为三角形或弧形。6.根据权利要求1至5...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡建生，
申请(专利权)人：深圳市瑞福达珠宝有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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