【技术实现步骤摘要】
本技术属于真空镀膜
，涉及一种快速沉积的掺钨类金刚石碳膜的沉积设备。
技术介绍
类金刚石碳膜(DLC)硬度高、表面光滑、摩擦系数低、耐磨性好,具有优异的化学惰性、生物相容性、电学性能、光学性能,且在低温容易实现大面积沉积,可以显著改善零件的耐磨抗蚀性能、使用寿命和减少摩擦能耗,在航空航天、精密机械、微型机电系统、工模具、光学、声学、生物医学等领域具有广阔的应用前景。但DLC膜存在内应力高,脆性大,膜/基结合强度低及热稳定性差等不足,这些缺陷在很大程度上成为DLC膜研究和产业化应用的“瓶颈”。如何避免DLC膜的上述缺陷是DLC膜研究的主要方向。降低DLC膜内应力和改善膜基结合强度的方法包括基体表面改性、过渡层制备、DLC膜的合金化、复合化和多层化等。在DLC膜中掺杂金属元素可在降低DLC膜内应力和改善膜/基结合强度的同时还改善DLC膜的硬度、韧性、热稳定性和耐磨性是DLC膜的研究热点。之前，我公司已经成功开发了DLC膜层，申请了专利CN204714891U（一种离子束快速沉积类金刚石薄膜设备），并成功应用于智能电子产品上，取得了良好的效果。为扩大我司制备的DLC膜层应用范围，我司正在对DLC镀层进行改进，以适应不同的应用领域。在DLC膜中掺杂钨可以形成碳化钨和非晶碳组成的复相结构，明显提高DLC膜的硬度、膜/基结合力、韧性，缓解DLC膜的内应力，从而大大降低DLC膜的磨损率，这使得掺钨DLC膜具有广泛的应用前景。
技术实现思路
为克服现有技术的缺点，本技术提供一种掺钨类金刚石碳膜的沉积设备，它能够提高硬度和膜基结合力。本技术解决其技术问题所采用的技术方案...
【技术保护点】
一种掺钨类金刚石碳膜的沉积设备，包括一个密封的真空腔体，其特征是：该真空腔体采用左右对称的结构，在真空腔体30°及150°位置处设置有小凸腔，小凸腔内放置有两个对称的高能离子源，在真空腔体0°及180°位置处设置有凸腔，凸腔内放置有一对铬靶及一对纯钨靶，在该真空腔体内设置有呈圆环形的工件转架，在该工件转架上则均设有若干个等距排列的工件，在由工件围成的内圆内设置有上下两排呈弧形对称的加热管。
【技术特征摘要】
1.一种掺钨类金刚石碳膜的沉积设备，包括一个密封的真空腔体，其特征是：该真空腔体采用左右对称的结构，在真空腔体30°及150°位置处设置有小凸腔，小凸腔内放置有两个对称的高能离子源，在真空腔体0°及180°位置处设置有凸腔，凸腔内放置有一对铬靶及一对纯钨靶，在该真空腔体内设置有呈圆环形的工件转架，在该工件转架上则均设有若干个等距排列的工件，在由工件围成的内圆内设置有上下两排呈弧形对称的加热管。2....
【专利技术属性】
技术研发人员：杜旭颖，阮志明，曾德强，廖生，王大洪，陈明胜，黄李平，潘旋，聂海天，胡静云，
申请(专利权)人：深圳市正和忠信股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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