层叠膜及层叠体、以及波长转换片材、背光单元及电致发光单元制造技术

本发明专利技术提供一种层叠膜(20)，其具备阻隔膜(11)和形成于该阻隔膜(11)上的易粘接层(10)。层叠膜(20)中，易粘接层(10)含有：含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物；以及聚异氰酸酯，易粘接层(10)的厚度为0.01μm以上且1μm以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及层叠膜及层叠体、以及波长转换片材、背光单元及电致发光单元。
技术介绍
液晶显示器的背光单元及电致发光单元等发光单元中，随着发光体或荧光体与氧或水蒸汽接触、经过长时间，作为发光体或荧光体的性能有时会降低。因而，这些发光单元中，经常使用在高分子膜上形成阻气层、进而涂布粘接剂等而得到的层叠膜作为发光体或荧光体等的包装材料或保护材料。然而，上述层叠膜中，由于未获得所构成的层间的密合性，因此有时无法获得充分的阻气性。因此，例如专利文献1中，为了构成阻隔性层叠体以提高含环氧系粘接剂的粘接层与有机层的密合性，作为有机层的材料使用末端含羟基的(甲基)丙烯酸酯。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2011-56908号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题但是，根据本专利技术人的探讨，即便是使用专利文献1所记载的阻隔性层叠体，目前还不能说获得了充分的密合性。本专利技术的目的在于提供可提高密合性、可获得优异的不透湿性的层叠膜及层叠体、以及由它们获得的波长转换片材、背光单元及电致发光单元。用于解决课题的方法本专利技术提供一种层叠膜，其具备阻隔膜和形成于该阻隔膜上的易粘接层，上述易粘接层含有：含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物；以及聚异氰酸酯，上述易粘接层的厚度为0.01μm以上且1μm以下。本专利技术的层叠膜中，通过易粘接层具备上述构成，可以提高层叠膜的密合性、可以获得优异的不透湿性。上述层叠膜中，从通用性及反应性的观点出发，优选上述具有反应性碳碳双键的基团为丙烯酰基。上述层叠膜中，优选：上述阻隔膜含有第一高分子膜和形成在该第一高分子膜上的不透湿层，上述易粘接层形成在上述阻隔膜的上述不透湿层一侧。阻隔膜通过具备上述构成，易于获得充分的不透湿性。上述层叠膜中，上述不透湿层优选含有具有选自铝、钛、铜、铟及硅中的至少1种原子的氧化物、氮化物或氮化氧化物的层。不透湿层通过具备上述构成，易于兼顾透明性和不透湿性。上述层叠膜中，优选：上述阻隔膜进一步具备配置于上述不透湿层上的第二高分子膜，上述易粘接层优选形成于上述第二高分子膜上。通过阻隔膜具备上述构成，可以进一步抑制加工及流通等中的破损。上述层叠膜的总光线透过率优选为80％以上。通过总光线透过率为80％以上，可以优选地使用层叠膜作为发光单元。进而，上述层叠膜优选是用于保护荧光体的层叠膜。本专利技术还提供一种层叠体，其具备使上述层叠膜的上述易粘接层固化而获得的固化层叠膜；和形成在该固化层叠膜的经固化的上述易粘接层一侧表面上的树脂膜。本专利技术还提供一种波长转换片材，其具备波长转换层和形成于上述波长转换层的两面上的一对保护膜，上述保护膜中的至少一者是将上述层叠膜的上述易粘接层固化而获得的固化层叠膜。根据本专利技术的波长转换片材，可以提高与波长转换层的密合性，即使在高温下的长期保存后也可维持优异的外观和发光效率。本专利技术还提供一种背光单元，其具备发光二极管光源和上述波长转换片材。根据使用了上述层叠膜的背光单元，可以抑制外部的氧或水蒸汽接触于波长转换层，可以在没有荧光体劣化的情况下长时间地使用背光。本专利技术还提供一种电致发光单元，其具备电致发光层和使上述层叠膜的上述易粘接层固化获得的固化层叠膜。根据使用了上述层叠膜的电致发光单元，可以抑制外部的氧或水蒸汽接触于电致发光层、可以在没有电致发光层的劣化的情况下长时间地使用电致发光单元。专利技术效果根据本专利技术，可以提供能够提高密合性、可获得优异的不透湿性的层叠膜及层叠体，以及由它们获得的波长转换片材、背光单元及电致发光单元。附图说明图1是本专利技术一个实施方式的层叠膜的概略截面图。图2是本专利技术一个实施方式的层叠体的概略截面图。图3是本专利技术第一实施方式的波长转换片材的概略截面图。图4是本专利技术第二实施方式的波长转换片材的概略截面图。图5是本专利技术一个实施方式的液晶显示器用的背光单元的概略截面图。图6是本专利技术一个实施方式的电致发光单元的概略截面图。具体实施方式以下，对本专利技术的实施方式详细地说明。另外，本专利技术并非限定于以下的实施方式。[层叠膜20]图1是本专利技术一个实施方式的层叠膜的概略截面图。本实施方式的层叠膜20具备第一高分子膜2、形成于第一高分子膜2上的不透湿层4、形成于不透湿层4上的第二高分子膜8、以及形成于第二高分子膜8上的易粘接层10。图1中，将第二高分子膜8介由粘合层或粘接层6配置在不透湿层4上。图1中，可以将除易粘接层10以外的层一并称作阻隔膜11。阻隔膜11是具有阻气性的膜，阻隔膜11的构成并非限定于图1所示的构成。例如，层叠膜20中，阻隔膜11也可以含有第一高分子膜2和形成于该第一高分子膜2上的不透湿层4。此时，易粘接层10可以形成在阻隔膜11的不透湿层4一侧。阻隔膜11通过具备第一高分子膜2和不透湿层4，易于获得充分的强度和不透湿性。另外，层叠膜20中，阻隔膜11还可以进一步含有配置在不透湿层4上的第二高分子膜8。此时，易粘接层10可以形成在第二高分子膜8上。阻隔膜11通过具备第二高分子膜8，可以进一步抑制加工及流通等中的破损。本实施方式的层叠膜20中，不透湿层4也可介由锚涂层(未图示)形成在第一高分子膜2上。另外，第二高分子膜8也可不介由粘合层或粘接层6地配置在不透湿层4上。另外，易粘接层10还可介由锚涂层(未图示)形成在第二高分子膜8上。本实施方式的层叠膜20可优选作为发光体或荧光体用的保护膜使用。从优选作为发光体或荧光体用的保护膜使用的观点出发，层叠膜20的总光线透过率优选为80％以上、更优选为85％以上。(第一高分子膜2)第一高分子膜2是用于抑制加工及流通等中的破损的层。作为第一高分子膜2的材质，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；尼龙等聚酰胺；聚丙烯及环烯烃等聚烯烃；聚碳酸酯；以及三乙酰基纤维素等，但并非限定于这些。第一高分子膜2优选是聚酯膜、聚酰胺膜或聚烯烃膜，更优选为聚酯膜或聚酰胺膜，进一步优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。另外，第一高分子膜2优选经双轴拉伸。第一高分子膜2还可根据需要含有防静电剂、紫外线吸收剂、增塑剂及润滑剂等添加剂。另外，第一高分子膜2的表面还可经过电晕处理、火焰处理或等离子体处理。第一高分子膜2的厚度并无特别限定，优选为3μm以上且100μm以下、更优选为5μm以上且50μm以下。(不透湿层4)不透湿层4是用于抑制水蒸汽浸入到发光单元中的层。不透湿层4可以是单层、也可以是多层。不透湿层4优选是透明的。另外，从透明性的观点出发，不透湿层4优选利用真空成膜形成。不透湿层4根据需要介由锚涂层形成在第一高分子膜2上。作为锚涂层，可举出聚酯树脂等，锚涂层的厚度为0.01～10μm左右。不透湿层4的形成方法并无特别限定，从进一步提高不透湿性的方面出发，优选为真空成膜。作为真空成膜，可举出物理气相沉积法及化学气相沉积法等。作为物理气相沉积法，可举出真空蒸镀法、溅射法及离子镀法等，但并非限于这些。作为化学气相沉积(CVD)法，可举出热CVD法、等离子体CVD法及光CVD法等，但并非限定于这些。不透湿层4的形成方法优选为真空蒸镀法、溅射法或等离子体CVD法，更优选为电阻加热式真空蒸镀法、电子束(ElectronBeam)加热式真空蒸镀法、感应加热式真空蒸镀法、反应性溅射法、双靶磁本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种层叠膜，其具备阻隔膜和形成于该阻隔膜上的易粘接层，所述易粘接层含有：含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物；以及聚异氰酸酯，所述易粘接层的厚度为0.01μm以上且1μm以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.07.24 JP 2014-150811;2015.03.25 JP 2015-062251.一种层叠膜，其具备阻隔膜和形成于该阻隔膜上的易粘接层，所述易粘接层含有：含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物；以及聚异氰酸酯，所述易粘接层的厚度为0.01μm以上且1μm以下。2.根据权利要求1所述的层叠膜，其中，所述具有反应性碳碳双键的基团为丙烯酰基。3.根据权利要求1或2所述的层叠膜，其中，所述阻隔膜具备第一高分子膜和形成于该第一高分子膜上的不透湿层，所述易粘接层形成在所述阻隔膜的所述不透湿层一侧。4.根据权利要求3所述的层叠膜，其中，所述不透湿层含有具有选自铝、钛、铜、铟及硅中的至少1种原子的氧化物、氮化物或氮化氧化物的层。5.根据权利要求3或4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：西川健，正田亮，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP