一种瓷套坯件的内孔上釉装置制造方法及图纸

技术编号:1487878 阅读:231 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及电瓷制造领域,尤其是瓷套坯件的上釉装置,更具体为一种瓷套坯件的内孔上釉装置。它包括底盘、上釉箱和下釉箱,底盘中心有一空腔,侧面设置有该空腔的入口阀和出口阀,所述入口阀与上釉箱连通,出口阀与下釉箱连通,瓷套坯件竖直放置在底盘上表面,瓷套坯件内孔与所述空腔连通,上釉箱和下釉箱的液位差大于瓷套坯件高度。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电瓷制造领域,尤其是瓷套坯件的上釉装置,更具体为 一种瓷套坯件的内孔上釉装置
技术介绍
现有瓷套坯件内孔上釉工艺为浸釉,即将瓷套坯件竖直吊起后,浸入釉 池进行上釉。该上釉工艺,瓷套坯件内外同时上釉,下部先浸入釉池,最后吊 出釉池。这种上釉方法需要一个比较大的釉池,对釉浆的需求量大;需要起 吊设备长时间工作,安全隐患大。
技术实现思路
本技术的目的在于提供有一种瓷套坯件的内孔上釉装置,它使用的 釉浆少,不需要起吊设备长时间工作,安全隐患少。为了达到上述技术目的,本技术采用以下技术方案予以实现 一种 瓷套坯件的内孔上釉装置,其特征在于,包括底盘、上釉箱和下釉箱,底盘 中心有一空腔,侧面设置有该空腔的入口阀和出口阀,所述入口阀与上釉箱 连通,出口阀与下釉箱连通,瓷套坯件竖直放置在底盘上表面,瓷套坯件内 孔与所述空腔连通,上釉箱和下釉箱的液位差大于瓷套坯件高度。 所述瓷套坯件与底盘上表面之间设置有环形密封垫。本技术根据流体力学连通器的压力原理,利用高位上釉箱与瓷套坯 件内孔之间的釉浆高度差,实现注满瓷套坯件内孔,再从下面迅速放掉内孔 中的釉浆,回收到低位下釉箱,完成瓷套坯件内孔上釉。采用该上釉装置使 用的釉浆少,不需要起吊设备长时间工作,安全隐患少,操作方便。附图说明图l本技术的示意图。具体实施方式参照图1,底盘1的底面与基础固定连接,在底面和上表面之间设置有一个空腔4,空腔4与上表面连通,瓷套坯件5竖直放置在上表面,其内孔与空 腔4连通,瓷套坯件5与底盘1上表面之间设置有环形密封垫。空腔4侧面 设置有入口和出口,分别连通到入口阀7和出口阀6。入口阀7的另一端与上 釉箱2连通,出口阀6的另一端与下釉箱3连通。上釉箱2设置在高位,下 釉箱3设置在低位,两釉箱的液面差大于瓷套坯件5高度。上釉时,先将待上釉瓷套坯件5竖直放置在底盘1的上表面,关闭出口 阀6,打开进口阀7,上釉箱2中的釉浆注入底盘1空腔和瓷套坯件5内孔, 注满后关闭进口阀7,等待一段时间后,打开出口阀6,釉桨快速流入下釉箱 2,瓷套坯件内孔上釉完毕。权利要求1、一种瓷套坯件的内孔上釉装置,其特征在于,包括底盘、上釉箱和下釉箱,底盘中心有一空腔,侧面设置有该空腔的入口阀和出口阀,所述入口阀与上釉箱连通,出口阀与下釉箱连通,瓷套坯件竖直放置在底盘上表面,瓷套坯件内孔与所述空腔连通,上釉箱和下釉箱的液位差大于瓷套坯件高度。2、根据权利要求1所述一种瓷套坯件的内孔上釉装置,其特征在所述 瓷套坯件与底盘上表面之间设置有环形密封垫。专利摘要本技术涉及电瓷制造领域,尤其是瓷套坯件的上釉装置,更具体为一种瓷套坯件的内孔上釉装置。它包括底盘、上釉箱和下釉箱,底盘中心有一空腔,侧面设置有该空腔的入口阀和出口阀,所述入口阀与上釉箱连通,出口阀与下釉箱连通,瓷套坯件竖直放置在底盘上表面,瓷套坯件内孔与所述空腔连通,上釉箱和下釉箱的液位差大于瓷套坯件高度。文档编号C04B41/86GK201254532SQ20082002953公开日2009年6月10日 申请日期2008年7月2日 优先权日2008年7月2日专利技术者孟崇雅, 朱小峰, 李再跨, 赵树平 申请人:中国西电电气股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种瓷套坯件的内孔上釉装置,其特征在于,包括底盘、上釉箱和下釉箱,底盘中心有一空腔,侧面设置有该空腔的入口阀和出口阀,所述入口阀与上釉箱连通,出口阀与下釉箱连通,瓷套坯件竖直放置在底盘上表面,瓷套坯件内孔与所述空腔连通,上釉箱和下釉箱的液位差大于瓷套坯件高度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:朱小峰李再跨赵树平孟崇雅
申请(专利权)人:中国西电电气股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:87[中国|西安]

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