光转换膜片、其制备方法及显示设备技术

本发明专利技术提供了一种光转换膜片、其制备方法及显示设备。该光转换膜片包括基材层以及设置于基材层的第一表面的像素隔离结构，像素隔离结构之间形成多个相互隔离的子像素区域，光转换膜片还包括：量子点发光层，设置于至少部分子像素区域对应的基材层上；第一胶层，第一胶层设置于量子点发光层的远离第一表面的一侧。上述方案相对于量子点和光刻胶混合的现有技术来说，减少了两者的接触面积，减少了胶组分对量子点的猝灭，提高了光转换膜片光致发光的效果；并且，本申请通过将胶层设置于量子点发光层之上，从而无需再额外添加保护层，就能够将量子点全部密封在子像素区域内，进而简化了结构且有效的阻挡了水氧的侵袭，提高了光转换膜片的可靠性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学
，具体而言，涉及一种光转换膜片、其制备方法及显示设备。
技术介绍
随着科学技术的发展，轻薄、响应速度快、色彩鲜艳的OLED(有机发光二极管)显示设备逐渐受到人们的关注，传统的LCD(液晶显示器)受到威胁，因此纷纷引入量子点(quantumdots)至传统的LCD的背光模组中以推出量子点电视，从而将显示设备的色域提升至OLED的水准。上述引入量子点的工艺通常是将红色和绿色量子点共混灌装在玻璃管中，或是做成薄膜添加至背光模组中，在蓝色背光的激发下，量子点发出色纯度高的红光和绿光，从而实现全彩显示。无论是LCD还是OLED显示，出光侧都需要添加彩色滤光片(colorfilter)，用来精准的呈现色彩。由于量子点的半峰宽极窄，所以经过彩色滤光片后，量子点电视的色域几乎不受影响，而半峰宽较宽的OLED显示的色域却大为降低。然而，量子点电视或OLED在引入了彩色滤光片后，都损失了较多的光能，现有技术中还采取光刻胶与单色量子点共混来制备量子点彩膜，光刻胶一般利用365nm波长的紫外光实现固化反应，而量子点在这个波长的紫外灯照射下有较大的吸收，导致固化速率变慢，这就需要提高紫外灯的能量或者增加引发剂的量来确保光刻胶顺利反应，而光引发剂的残留等都会极大的降低量子点的发光效率。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种光转换膜片、其制备方法及显示设备，以解决现有技术中引入彩色滤光片而导致的光能损失的问题。为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种光转换膜片，包括基材层以及设置于基材层的第一表面的像素隔离结构，像素隔离结构之间形成多个相互隔离的子像素区域，光转换膜片还包括：量子点发光层，设置于至少部分子像素区域对应的基材层上；第一胶层，第一胶层设置于量子点发光层的远离第一表面的一侧。进一步地，量子点发光层设置于部分子像素区域对应的基材层上，光转换膜片还包括第二胶层，第二胶层设置在未设置量子点发光层的子像素区域对应的基材层上。进一步地，光转换膜片还包括与量子点发光层设置于相同子像素区域中的滤光层，滤光层设置于量子点发光层的远离基材层的一侧或靠近基材层的一侧，用于反射第一波长的光，并透射第二波长的光。进一步地，滤光层设置于第一胶层的远离基材层的表面上，光转换膜片还包括平滑层，当基材层上设置有第二胶层时，平滑层设置于滤光层和第二胶层的裸露表面上，当基材层上未设置第二胶层时，量子点发光层设置于各子像素区域对应的基材层上，平滑层设置于滤光层的裸露表面上。进一步地，形成量子点发光层的材料包括量子点材料。根据本专利技术的另一方面，提供了一种上述的光转换膜片的制备方法，包括以下步骤：S1，提供具有像素隔离结构的基材层，像素隔离结构之间形成多个相互隔离的子像素区域；S2，将量子点墨水设置于至少部分子像素区域中，并将胶设置于子像素区域中，形成相互独立的量子点发光层和第一胶层，第一胶层位于量子点发光层的远离基材层的一侧。进一步地，步骤S2包括以下过程：将量子点墨水设置于至少部分子像素区域中并干燥，以形成量子点发光层；将胶设置于量子点发光层上，或将胶设置于量子点发光层上和像素隔离结构的裸露表面上，并将胶固化以形成第一胶层。进一步地，采用喷墨打印工艺将量子点墨水设置于子像素区域中；采用丝网印刷、旋转涂布、狭缝涂布或超声喷涂工艺设置胶。进一步地，步骤S2包括以下过程：将量子点墨水和胶形成混合溶液，优选胶为热固化胶；将混合溶液设置于至少部分子像素区域中并静置，以使量子点墨水和胶分层，量子点墨水形成量子点发光层，胶形成待固化胶层，且待固化胶层位于量子点发光层的上方；将待固化胶层固化，以形成第一胶层，优选固化温度≤120℃，更优选≤80℃。进一步地，采用喷墨打印或丝网印刷将混合溶液设置于子像素区域中。进一步地，步骤S2还包括以下过程：在形成量子点发光层的过程之前，在与预设置量子点发光层的子像素区域对应的基材层上设置滤光层；或在形成量子点发光层的过程之后，在量子点发光层的远离基材层的一侧设置滤光层，滤光层位于量子点发光层与第一胶层之间，或滤光层位于第一胶层的远离量子点发光层的一侧。进一步地，在步骤S2中将量子点墨水设置于部分子像素区域中，步骤S2还包括在未设置量子点发光层的子像素区域对应的基材层上设置胶并固化形成第二胶层的过程，在量子点发光层的远离基材层的一侧依次设置第一胶层和滤光层的过程之后，制备方法还包括以下步骤：S3，在滤光层和第二胶层的裸露表面上设置平滑层。进一步地，在步骤S2中将量子点墨水设置于各子像素区域中，在量子点发光层的远离基材层的一侧依次设置胶层和滤光层的过程之后，制备方法还包括以下步骤：S3，在滤光层的裸露表面上设置平滑层。根据本专利技术的另一方面，还提供了一种显示设备，包括背光源和光转换膜片，光转换膜片为上述的光转换膜片。进一步地，背光源为蓝光光源，光转换膜片中的量子点发光层包括红色量子点层和绿色量子点层；或者背光源为紫外光源，光转换膜片中的量子点发光层包括红色量子点层、绿色量子点层和蓝色量子点层。应用本专利技术的技术方案，提供了一种包括基材层以及设置于基材层的第一表面的像素隔离结构的光转换膜片，且像素隔离结构形成多个相互隔离的子像素区域，由于光转换膜片还包括量子点发光层和胶层，量子点发光层设置于至少部分子像素区域对应的基材层上，胶层设置于量子点发光层的远离基材层的一侧，从而相对于量子点和光刻胶混合的现有技术来说，减少了两者的接触面积，进而有效地减少了胶组分对量子点的猝灭，提高了光转换膜片光致发光的效果；并且，由于现有技术中在将量子点和胶混合并固化成型后还需要再涂布一层保护层，而本申请通过将胶层设置于量子点发光层之上，从而无需再额外添加保护层，就能够将量子点全部密封在子像素区域内，进而简化了结构且有效的阻挡了水氧的侵袭，提高了光转换膜片的可靠性。除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本专利技术还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本专利技术作进一步详细的说明。附图说明构成本专利技术的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1示出了本专利技术所提供的一种光转换膜片的结构示意图；图2示出了本专利技术所提供的另一种光转换膜片的结构示意图；图3示出了本专利技术所提供的一种平滑层设置于第二胶层和滤光层的裸露表面上的光转换膜片的结构示意图；图4示出了本专利技术所提供的一种滑层设置于滤光层的裸露表面上的光转换膜片的结构示意图；图5示出了本专利技术所提供的一种第一胶层设置于量子点发光层的裸露表面上的光转换膜片的结构示意图；以及图6示出了本专利技术实施方式所提供的光转换膜片的制备方法的流程示意图。其中，上述附图包括以下附图标记：10、基材层；20、像素隔离结构；30、量子点发光层；40、第一胶层；41、第二胶层；50、滤光层；60、平滑层。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，本专利技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光转换膜片，包括基材层(10)以及设置于所述基材层(10)的第一表面的像素隔离结构(20)，所述像素隔离结构(20)之间形成多个相互隔离的子像素区域，其特征在于，所述光转换膜片还包括：量子点发光层(30)，设置于至少部分所述子像素区域对应的所述基材层(10)上；第一胶层(40)，所述第一胶层(40)设置于所述量子点发光层(30)的远离所述第一表面的一侧。

【技术特征摘要】
1.一种光转换膜片，包括基材层(10)以及设置于所述基材层(10)的第一表面的像素隔离结构(20)，所述像素隔离结构(20)之间形成多个相互隔离的子像素区域，其特征在于，所述光转换膜片还包括：量子点发光层(30)，设置于至少部分所述子像素区域对应的所述基材层(10)上；第一胶层(40)，所述第一胶层(40)设置于所述量子点发光层(30)的远离所述第一表面的一侧。2.根据权利要求1所述的光转换膜片，其特征在于，所述量子点发光层(30)设置于部分所述子像素区域对应的所述基材层(10)上，所述光转换膜片还包括第二胶层(41)，所述第二胶层(41)设置在未设置所述量子点发光层(30)的所述子像素区域对应的所述基材层(10)上。3.根据权利要求1或2所述的光转换膜片，其特征在于，所述光转换膜片还包括与所述量子点发光层(30)设置于相同所述子像素区域中的滤光层(50)，所述滤光层(50)设置于所述量子点发光层(30)的远离所述基材层(10)的一侧或靠近所述基材层(10)的一侧，用于反射第一波长的光，并透射第二波长的光。4.根据权利要求3所述的光转换膜片，其特征在于，所述滤光层(50)设置于所述第一胶层(40)的远离所述基材层(10)的表面上，所述光转换膜片还包括平滑层(60)，当所述基材层(10)上设置有所述第二胶层(41)时，所述平滑层(60)设置于所述滤光层(50)和所述第二胶层(41)的裸露表面上，当所述基材层(10)上未设置所述第二胶层(41)时，所述量子点发光层(30)设置于各所述子像素区域对应的所述基材层(10)上，所述平滑层(60)设置于所述滤光层(50)的裸露表面上。5.根据权利要求1所述的光转换膜片，其特征在于，形成所述量子点发光层(30)的材料包括量子点材料。6.一种权利要求1至5中任一项所述的光转换膜片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，提供具有像素隔离结构(20)的基材层(10)，所述像素隔离结构(20)之间形成多个相互隔离的子像素区域；S2，将量子点墨水和胶设置于至少部分所述子像素区域中，形成相互独立的所述量子点发光层(30)和第一胶层(40)，所述第一胶层(40)位于所述量子点发光层(30)的远离所述基材层(10)的一侧。7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S2包括以下过程：将所述量子点墨水设置于至少部分所述子像素区域中并干燥，以形成所述量子点发光层(30)；将所述胶设置于所述量子点发光层(30)上，或将所述胶设置于所述量子点发光层(30)上和所述像素隔离结构(20)的裸露表面上，并将所述胶固化以形成所述第一胶层(40)。8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，采用喷墨打...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾辛艳，
申请(专利权)人：纳晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33