一种掩膜版及其制备方法技术

本发明专利技术涉及显示技术领域，公开一种掩膜版及其制备方法，掩膜版包括前板，前板包括衬底以及形成于衬底上的掩模图形，还包括与前板相对设置的后板，后板与前板之间通过密封胶密封且固定连接，后板包括玻璃基板以及形成在玻璃基板上的间隙物，间隙物设置在后板上与前板相对的表面，且沿后板上与掩模图形周边相对的位置均匀设置，用于支撑前板；间隙物设置在掩模图形的周边以支撑前板能够减少外物对掩模图形的污染，保护掩模图形，延长掩膜版的使用时间，同时，方便清洗，在清洗过程中减少对掩模图形的损伤，减少了重复性不良，提高产品品质以及掩膜版维修所带来的损失，故能够保护掩模图形，方便清洗，减少重复性不良，提高产品良率，降低成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种掩膜版及其制备方法。
技术介绍
光刻技术目前广泛应用于半导体显示领域，在光刻技术的曝光工序中需要用掩膜版，光线透过掩膜版对光敏材料进行曝光，而掩膜版是光刻工艺制程中所使用的图形母版，由不透光的遮光薄膜在透明玻璃基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。目前，掩膜版的制作工艺是在玻璃基板上镀铬，然后通过涂胶、曝光、显影、烘烤、刻蚀、剥离等工序形成图形后最后贴上保护薄膜来保护掩膜图形；这种掩膜版有以下缺点：1.保护薄膜表面易沾上灰尘颗粒，产生Repeat(重复)性不良；2.保护薄膜表面若沾上灰尘颗粒不易清洗(不能水洗，不能擦)，目前条件下，只能利用气枪或者IPA(异丙醇)浸泡清洗掩膜版的背面，掩膜版贴有保护薄膜的一面是无法浸泡的，若用气枪吹扫清洗灰尘颗粒易划伤或在气枪吹扫清洗的时候易吹破；出现以上问题只有返厂重贴，成本较高，而且影响生产。因此，提供一种方便清洗的掩膜版显得尤为必要。
技术实现思路
本专利技术提供一种掩膜版及其制备方法，该掩膜版采用玻璃保护掩模图形，方便清洗，减少重复性不良，提高产品良率，降低成本。为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案：一种掩膜版，包括前板，所述前板包括衬底以及形成于所述衬底上的掩模图形，还包括与所述前板相对设置的后板，所述后板与前板之间通过密封胶密封且固定连接，所述后板包括玻璃基板以及形成在所述玻璃基板上的间隙物，所述间隙物设置在所述后板上与所述前板相对的表面，且沿所述后板上与所述掩模图形周边相对的位置均匀设置，用于支撑所述前板。在上述掩膜版中，掩模图形位于衬底和玻璃基板之间，且衬底和玻璃基板之间通过密封胶密封，间隙物设置在掩模图形的周边以支撑前板能够减少外物对掩模图形的污染，保护掩模图形，延长掩膜版的使用时间，同时，采用玻璃基板代替现有技术中的薄膜，方便清洗，在清洗过程中减少对掩模图形的损伤，减少了重复性不良，提高产品品质以及掩膜版维修所带来的损失。因此，上述掩膜版采用玻璃保护掩模图形，方便清洗，减少重复性不良，提高产品良率，降低成本。优选地，所述间隙物的材料为光阻材料。优选地，所述密封材料为封框胶，所述封框胶涂覆在所述玻璃基板的周边。优选地，所述掩模图形的材料为铬。优选地，所述后板和前板之间通过密封胶固化后固定连接。一种如上述技术方案任一项所述的掩膜版的制备方法，包括：在衬底上形成掩模图形以构成前板；在玻璃基板上形成间隙物以构成后板；在所述后板的周边涂覆密封胶；将所述前板和后板对合并使密封胶固化以粘合所述前板和后板。优选地，当所述掩模图形的材料为金属材料时，所述在衬底基板上形成掩膜图形以构成前板包括：在衬底的表面溅射一层金属膜；在所述金属膜上涂覆光刻胶，并通过构图工艺形成掩膜图形。优选地，所述在玻璃基板上形成间隙物以构成后板包括：在玻璃基板上涂覆光刻胶，并通过光刻工艺形成间隙物。优选地，所述将所述前板和后板对合并使密封胶固化以粘合所述前板和后板包括：对合所述前板和后板；高温烘烤所述密封胶；密封胶固化以粘合所述前板和后板。附图说明图1为本专利技术提供的一种掩膜版的结构示意图；图2为本专利技术提供的一种掩膜版的前板的结构示意图；图3为本专利技术提供的一种掩膜版的后板的结构示意图；图4为本专利技术提供的一种掩膜版的制备方法的流程图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。如图1、图2以及图3所示，一种掩膜版，包括前板，前板包括衬底5以及形成于衬底5上的掩模图形1，还包括与前板相对设置的后板，后板与前板之间通过密封胶密封且固定连接，后板包括玻璃基板4以及形成在玻璃基板4上的间隙物3，间隙物3设置在后板上与前板相对的表面，且沿后板上与掩模图形1周边相对的位置均匀设置，用于支撑前板。在上述掩膜版中，掩模图形1位于衬底5和玻璃基板4之间，且衬底5和玻璃基板4之间通过密封胶密封，间隙物3设置在掩模图形1的周边以支撑前板能够减少外物对掩模图形1的污染，保护掩模图形1，延长掩膜版的使用时间，同时，采用玻璃基板4代替现有技术中的薄膜，方便清洗，在清洗过程中减少对掩模图形1的损伤，减少了重复性不良，提高产品品质以及掩膜版维修所带来的损失。因此，上述掩膜版采用玻璃保护掩模图形1，方便清洗，减少重复性不良，提高产品良率，降低成本。一种优选实施方式中，间隙物3的材料可以为光阻材料。根据掩膜版的具体实际情况选择合适的间隔物材料，常见的间隔物可以选择光阻材料，在后板上涂覆一层光阻材料，然后通过光刻工艺形成间隔物以支撑前板。一种优选实施方式中，密封材料可以为封框胶2，封框胶2涂覆在玻璃基板4的周边。根据掩膜版的具体实际情况选择合适的密封材料，常见的密封材料可以选择封框胶2，以将前板和后板密封，在玻璃基板4的周边涂覆一层封框胶2，然后将前板和后板对合，通过高温烘烤将封框胶2固化以使得前后板粘合在一起，进而能够减少外物对掩模图形1的污染，保护掩模图形1，延长掩膜版的使用时间，同时，采用玻璃基板4代替现有技术中的薄膜，方便清洗，在清洗过程中减少对掩模图形1的损伤，减少了重复性不良，提高产品品质以及掩膜版维修所带来的损失。一种优选实施方式中，掩模图形1的材料可以为铬，掩模图形1的材料为金属材料，根据掩膜版的具体实际情况，掩模图形1的材料可以为铬，也可以为其他金属材料。一种优选实施方式中，后板和前板之间通过密封胶固化后固定连接，在将前板和后板对合以后，通过高温烘烤将密封胶内的环氧树脂在催化剂的作用下固化，从而将前后板粘合在一起。如图4所示，一种如上述技术方案任一项的掩膜版的制备方法，包括：步骤S201，在衬底5上形成掩模图形1以构成前板；步骤S202，在玻璃基板4上形成间隙物3以构成后板；步骤S203，在后板的周边涂覆密封胶；步骤S204，将前板和后板对合并使密封胶固化以粘合前板和后板。在上述掩膜版的制备方法中，通过步骤S201形成前板，前板上形成有掩模图形1；通过步骤S202形成后板，后板上形成有间隙物3；通过步骤S203以及步骤S204将前板和后板密封固定，以使掩模图形1位于衬底5和玻璃基板4形成的密封空间内，以减少外物对掩模图形1的污染，保护掩模图形1，延长掩膜版的使用时间，同时，采用玻璃基板4代替现有技术中的薄膜，方便清洗，在清洗过程中减少对掩模图形1的损伤，减少了重复性不良，提高产品品质以及掩膜版维修所带来的损失。一种优选实施方式中，当掩模图形1的材料为金属材料时，在衬底5基板上形成掩膜图形以构成前板包括：在衬底5的表面溅射一层金属膜；在金属膜上涂覆光刻胶，并通过构图工艺形成掩膜图形。将衬底5的表面溅射一层金属膜，上述金属膜可以为铬膜，也可以为其他金属膜，然后通过光刻、烘烤、刻蚀、剥离等构图工艺将需要的掩模图形1制作在基板表面。一种优选实施方式中，在玻璃基板4上形成间隙物3以构成后板包括：在玻璃基板4上涂覆光刻胶，并通过光刻工艺形成间隙物3。在玻璃基板4上涂覆光刻胶，然后通过光刻工艺制作成间隙物3以保证在前后板对合时支撑前板。一种优选实本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜版，其特征在于，包括前板，所述前板包括衬底以及形成于所述衬底上的掩模图形，还包括与所述前板相对设置的后板，所述后板与前板之间通过密封胶密封且固定连接，所述后板包括玻璃基板以及形成在所述玻璃基板上的间隙物，所述间隙物设置在所述后板上与所述前板相对的表面，且沿所述后板上与所述掩模图形周边相对的位置均匀设置，用于支撑所述前板。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，包括前板，所述前板包括衬底以及形成于所述衬底上的掩模图形，还包括与所述前板相对设置的后板，所述后板与前板之间通过密封胶密封且固定连接，所述后板包括玻璃基板以及形成在所述玻璃基板上的间隙物，所述间隙物设置在所述后板上与所述前板相对的表面，且沿所述后板上与所述掩模图形周边相对的位置均匀设置，用于支撑所述前板。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述间隙物的材料为光阻材料。3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述密封材料为封框胶，所述封框胶涂覆在所述玻璃基板的周边。4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩模图形的材料为铬。5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述后板和前板之间通过密封胶固化后固定连接。6.一种如权利要求1-5任一项所述的掩膜版...

【专利技术属性】
技术研发人员：聂彬，王军帽，张玉虎，岳浩，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11