【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及皮肤内的胶原蛋白(collagen)变性测量的测量系统和方法。本专利技术还涉及包括该测量系统的皮肤护理系统。
技术介绍
通过减少皮肤中的皱纹来保持年轻外表的期望是人类社会中的重要问题。设计了许多技术来实现这种目的。一种技术例如是皮肤更新(rejuvenation),尤其是涉及胶原蛋白的变性,诸如胶原蛋白的热变性的方法。尽管一些治疗应用是可以的,但是主要的兴趣领域是美容或非治疗领域。这种方法在皮肤中的功效取决于多种因素,诸如组织上的热和机械负载、正在经受护理的人的年龄、皮肤内胶原蛋白的解剖分布、环境照射量、皮肤类型等。目前,基于变性的皮肤更新护理的参数通常基于试验和误差。越来越多的这种皮肤护理和皮肤护理系统旨在被消费者而不是医疗人员使用。这些护理系统是非侵入性的—它们在皮肤的表面下方创建效应而不物理地穿透表皮。然而,这种家用系统产生了新的问题,诸如与安全和护理功效相关的问题。当用于执行护理的光源是激光器时,这尤其重要,并且这种激光器的不正确操作会导致激光穿过皮肤层的位置处皮肤的结疤或灼烧。例如,对表皮的损伤是极其不期望的,因为这可能导致被护理人的并发症和健康风险以及社会服务的暂停(socialdowntime)。如果在真皮上方创建浅表创伤,则会由于毛细血管的微破裂而发生瘀点(微出血),导致降低的功效以及增加的副作用。如果胶原蛋白变性,将发生用于皮肤更新目的的新胶原蛋白的形成。用于胶原蛋白变性的热处理的功效以及随后的胶原蛋白重建仅在真皮内的温度超过65摄氏度的临界温度时较高。在大聚焦深度处,焦点的强度可能达不到变性所要求的阈值,因此护理不能产生 ...
【技术保护点】
一种测量系统(110),用于皮肤内的胶原蛋白变性的基于光的测量,所述测量系统(110)包括:光源(120),被配置和布置用于发射光束,偏振调制器(130),被配置和布置为在使用中接收由所述光源(120)发射的光束并且空间调制由所述光源发射的光束的偏振方向,从而生成在垂直于所述光束的传播方向延伸的所述光束的截面中具有空间调制偏振方向的空间调制光束,所述测量系统进一步被配置和布置为将所述空间调制光束引导至所述皮肤(160)内的目标位置,其中,所述偏振调制器(130)被配置和布置为在使用中分别在所述目标位置的至少第一区域和第二区域中的所述空间调制光束的所述截面中同时提供至少第一偏振方向和第二偏振方向,所述第一区域和所述第二区域是不同的,并且所述第一偏振方向和所述第二偏振方向相互不同,检测单元(150),被配置和布置为同时检测反射光(145)的第一强度和第二强度,所述第一强度对应于从所述目标位置(160)的所述第一区域反射的光的强度,以及所述第二强度对应于从所述目标位置(160)的所述第二区域反射的光的强度;以及处理器,耦合至所述检测单元(150)并且被配置和布置为确定所述第一强度和所述第二强 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.07.02 EP 14175398.81.一种测量系统(110),用于皮肤内的胶原蛋白变性的基于光的测量,所述测量系统(110)包括:光源(120),被配置和布置用于发射光束,偏振调制器(130),被配置和布置为在使用中接收由所述光源(120)发射的光束并且空间调制由所述光源发射的光束的偏振方向,从而生成在垂直于所述光束的传播方向延伸的所述光束的截面中具有空间调制偏振方向的空间调制光束,所述测量系统进一步被配置和布置为将所述空间调制光束引导至所述皮肤(160)内的目标位置,其中,所述偏振调制器(130)被配置和布置为在使用中分别在所述目标位置的至少第一区域和第二区域中的所述空间调制光束的所述截面中同时提供至少第一偏振方向和第二偏振方向,所述第一区域和所述第二区域是不同的,并且所述第一偏振方向和所述第二偏振方向相互不同,检测单元(150),被配置和布置为同时检测反射光(145)的第一强度和第二强度,所述第一强度对应于从所述目标位置(160)的所述第一区域反射的光的强度,以及所述第二强度对应于从所述目标位置(160)的所述第二区域反射的光的强度;以及处理器,耦合至所述检测单元(150)并且被配置和布置为确定所述第一强度和所述第二强度之间的差值。2.根据权利要求1所述的测量系统(110),其中,所述处理器进一步被配置为使用所述第一强度和所述第二强度之间的差值来确定胶原蛋白变性的程度。3.根据权利要求1或2所述的测量系统(110),其中,由所述光源发射的所述光束被线性偏振。4.根据前述权利要求中任一项所述的测量系统(110),其中,所述第一偏振方向和所述第二偏振方向均包括线性偏振,并且所述第一偏振方向和所述第二偏振方向之间的角度差近似等于45度。5.根据前述权利要求中任一项所述的测量系统(110),其中,所述测量系统(110)还包括用于将所述空间调制光束聚焦到所述皮肤(160)内的所述目标位置的光学元件(180)。6.根据前述权利要求中任一项所述的测量系统(110),其中,由所述检测单元(150)检测的所述第一强度和所述第二强度对应于分别从所述目标位置的所述第一区域和所述第二区域反射的二次谐波生成光(SHG)分量的强度。7.根据权利要求6所述的测量系...
【专利技术属性】
技术研发人员:B·瓦尔格斯,J·A·帕勒洛,M·朱纳,M·R·霍顿,R·维哈根,
申请(专利权)人:皇家飞利浦有限公司,
类型:发明
国别省市:荷兰;NL
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