制造光伏电池的方法技术

技术编号:14866020 阅读:100 留言:0更新日期:2017-03-20 12:54
本发明专利技术涉及生产光伏电池的方法,包括如下连续的步骤:i)提供包括p/n光伏结的基板(1),该基板被导电透明氧化物层(6)、由电绝缘材料制成的第一层以及由第二金属层(3)顺次的覆盖;ii)在使得该电绝缘材料和该金属材料能够局部反应的条件下,执行局部激光辐射热处理,以形成金属填充玻璃态化合物制成的籽晶层(4),所述籽晶层(4)通过该透明导电氧化物层(6)电连接至该p/n结;iii)收集由金属材料制成的该第二层(3);以及iv)通过电化学沉积在籽晶层(4)上形成电接触(5)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及制造光伏电池的方法以及按照该方法获得的光伏电池。
技术介绍
光伏电池可以由通常包括半导体材料且能够将接收的光子直接转换为电信号的多层堆叠形成。这样的光伏电池可以例如是同质结光伏电池或异质结光伏电池。这些电池通常由硅制成。涉及光伏电池的制造的一个步骤是金属化(metallization)步骤。该金属化接近光伏电池制造方法的末端发生,并且包括在电池的至少一个表面上沉积通常为梳状(comb)或网格(gate)形式的金属接触。这些金属接触被设计用来收集电流以及将电池彼此互联。为制作金属接触,通常通过丝网印刷(screenprinting)来沉积金属线。金属线例如由银基(silverbase)制成。该技术使得可以快速的获得金属接触。然而,具有一定数量的限制,例如电接触的较高的电阻率以及线的大宽度。线的宽度通常为大约70μm至120μm,这导致电池的表面上的随之而来的阴影效应,由此降低了电池的效率。此外,在光伏电池上沉积银浆(silverpaste)之后,退火是必需的,以使得浆的接触连接(contactconnection)和致密化(densification)成为可能。对于同质结电池,在大约800℃的高温下执行退火。接触连接发生在当银穿过电池的抗反射层并与所述电池的发射区域接触时。对于异质结电池,在大约200℃的较低温度下执行退火,这是由于存在于异质结电池中的非晶层具有差的温度承受。它们在高于200℃的温度下部分再结晶(recrystallize),由此失去其钝化性能。在异质结电池的情况下,接触连接直接制作在透明导电氧化物层上。然而,在高温下退火的银浆的电阻率几乎是体银(volumesilver)的电阻率的两倍,而在低温被致密化的银浆的电阻率是体银的电阻率的4到5倍。因此使用这种技术获得电接触的电阻率显著高于体金属的电阻率。增加退火温度能够降低金属接触的电阻率,但是该增加将导致存在于异质结电池中的非晶层的部分结晶。因此,制造电接触的方法在于寻找电接触的质量(且尤其是其电阻率性能)和非晶层的质量之间的折中,实现一方的质量通常会损害另一方。另一种用于形成电接触的技术是与电解生长相关的光刻法(photolithography)。源于微电子领域中所使用的技术的光刻法,使得大约10μm或20μm的非常窄的图案能够通过光致抗蚀剂的沉积在环境温度下生成在光伏电池上。阴影由此被限制,且光伏电池的效率被提高。然而,这种技术实施起来很冗长并且呈现非常高的成本,这与光伏电池的生产不相容。此外,电再充电(galvanicrecharge)的主要缺点在于基板上的沉积物的粘附。在同质结电池的情况下,使用镍子层来形成硅化镍,由此能够使得电解沉积的更好的粘附。然而,硅化镍的形成通常导致微短路(micro-short-circuits)的发生。在异质结电池的情况下,在透明导电氧化物层上的电沉积的粘附通常是不充分的。因此工业难题是获得相对窄的、呈现低电阻率的、在支撑上的良好粘附性的、并具有相对的高生产率的用于光伏电池的金属接触,并且在异质结电池的情况下,不会使非晶层结晶。
技术实现思路
本专利技术的目的在于弥补现有技术的缺点,且更具体的提出一种制造光伏电池的方法,使得电接触可以被制作为呈现低电阻率,同时保存由半导体材料制成的下层。该目的倾向于由随附的权利要求来实现。附图说明通过本专利技术的特定实施例的下述描述,其他优点和特征将变得更清晰易懂,特定的实施例仅为非限定性示例目的并且表示在附图中,在附图中:图1-4以示意的方式和截面图表示了根据第一实施例的光伏电池的制造的不同步骤,图5和图6以示意的方式和截面图表示了根据第二实施例和第三实施例的光伏电池。具体实施方式制造光伏电池的方法包括如下连续步骤:i)提供包括p/n光伏结的基板1,基板1被由电绝缘材料2制成的第一层和由金属材料制成的第二层3顺次覆盖,ii)在使得该电绝缘材料和该金属材料能够局部反应的条件下,通过执行利用激光辐射的局部热处理,以形成由金属填充玻璃态化合物(metal-chargedglassycompound)制成的籽晶层4,所述籽晶层4电连接至该p/n结,iii)执行金属材料的第二层3的移除,iv)通过电化学沉积在籽晶层4上执行电接触5的形成。根据优选实施例,基板包括设置在p/n光伏结和第一电绝缘材料层2之间的透明导电氧化物层6。这特别是在异质结电池的情况下。在步骤ii)中(即当通过激光辐射执行局部热处理时)形成的籽晶层4,随后通过透明导电氧化物层6被电连接至p/n结。该透明导电氧化物层6使得能够具有良好的横向导电率,且当形成籽晶层4时热保护形成基板的半导体材料层。热输入因此生成直到该透明导电氧化物层6。在步骤ii)中,通过位于光伏电池上方的源(未在图1中示出)来施加激光束。激光束被选择性的施加至将要形成籽晶层4的位置(图1中的箭头F)。激光束的使用有利的使得能够获得尤其在空间和时间上均匀但可控的热输入。在一定条件下(积分通量(fluence)、脉冲持续时间)执行激光辐射,以使得在由金属材料制成的第二层3(也称为金属层3)处通过激光束的局部施加而产生的热输入足够高,以使所述金属层3局部熔化并导致第一电绝缘材料层2的至少软化,或甚至熔化,以及有可能的透明导电氧化物层6的一部分的至少软化,或甚至熔化。该步骤使得能够形成导电籽晶层4。根据优选的实施例,执行激光辐射,以导致电绝缘层2的软化而不是熔化,由此限制与透明导电氧化物层6的反应。热处理温度,即在激光束的施加期间施加至金属层3的温度,有利的高于或等于金属层3发生熔化的温度,且优选的高于900℃。当执行激光辐射时,形成籽晶层4的材料被产生。籽晶层4有利的由第一层2的电绝缘材料和第二层3的金属材料形成。籽晶层4的材料是玻璃态化合物的形式,特别是软化的玻璃(glass),填充有例如银的金属。其例如是当执行在丝网印刷中使用的称为“高温”浆的银浆烘焙时形成的玻璃的类型。这些浆由银粉和分散在有机粘合剂中的玻璃粉(glassfrit)组成。粉的意思是粉碎的玻璃粉末,当被烘焙以形成玻璃态化合物时其软化或熔化,其中一部分银被溶解以形成银掺杂的SiO2玻璃。在激光辐射后且在冷却期间,具有数十纳米的厚度的填充玻璃(chargedglass)的薄层形成电绝缘材料2的第一层和金属材料的第本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种制造光伏电池的方法,包括如下连续的步骤:i)提供包括p/n光伏结的基板(1),该基板被透明导电氧化物层(6)、由电绝缘材料制成的第一层(2)以及由金属材料制成的第二层(3)顺次覆盖,ii)在使得该电绝缘材料和该金属材料能够局部反应的条件下,通过激光辐射执行局部热处理,以形成由金属填充玻璃态化合物制成的籽晶层(4),所述籽晶层(4)通过该透明导电氧化物层(6)电连接至该p/n结,iii)移除金属材料的该第二层(3),iv)通过电化学沉积在该籽晶层(4)上形成电接触(5)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.10.15 FR 13023901.一种制造光伏电池的方法,包括如下连续的步骤:
i)提供包括p/n光伏结的基板(1),该基板被透明导电氧化物层(6)、
由电绝缘材料制成的第一层(2)以及由金属材料制成的第二层(3)顺次覆
盖,
ii)在使得该电绝缘材料和该金属材料能够局部反应的条件下,通过激
光辐射执行局部热处理,以形成由金属填充玻璃态化合物制成的籽晶层(4),
所述籽晶层(4)通过该透明导电氧化物层(6)电连接至该p/n结,
iii)移除金属材料的该第二层(3),
iv)通过电化学沉积在该籽晶层(4)上形成电接触(5)。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于:通过无电沉积和/或电解沉积
来执行步骤iv)。
3.如权利要求1和2之一所述的方法,其特征在于:该电接触(5)的宽
度小于50μm,且优选小于35μm。
4.如权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于:该电接触(5)由
铜制成。
5.如权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于:通过有利的选自
铜、银和锡的几种金属的顺次沉积来执行步骤iv)。
6.如权利要求1-5中任一项所述的方法,其特征在于:该透明导电氧化

【专利技术属性】
技术研发人员:A贝蒂内利
申请(专利权)人:原子能和代替能源委员会
类型:发明
国别省市:法国;FR

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1