具有交叉敏感度的传感器制造技术

一种装置包括：包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料的第一传感器，其中对第一参数的敏感度改变对第二参数的敏感度。第一传感器对第一和第二参数中的一个参数的敏感度可以通过将第一和第二参数中的另一参数保持为常量而被控制。该装置可以包括对第一参数和第二参数中的至少一个参数敏感的第二传感器。第一参数可以是形变并且第二参数可以是气态分析物的浓度，例如湿度。第二传感器可以包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的实施例涉及一种装置和方法。具体而言，这些实施例涉及使用该装置和方法进行感测。
技术介绍
为了处理表示真实世界参数的数据，需要感测该参数并将所感测的值转换为数据。因此需要改进的传感器。
技术实现思路
根据本专利技术的各种但不一定是所有的实施例，提供了一种装置，包括：包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料的第一传感器，其中对第一参数的敏感度改变对第二参数的敏感度；以及对第一参数和第二参数中的至少一个参数敏感的第二传感器。根据本专利技术的各种但不一定是所有的实施例，提供了一种方法，包括：处理来自包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料的第一传感器的输出，其中对第一参数的敏感度改变对第二参数的敏感度；并且处理来自对第一参数和第二参数中的至少一个参数敏感的第二传感器的输出。根据本专利技术的各种但不一定是所有的实施例，提供了一种装置，包括：包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料的第一传感器，其中对第一参数的敏感度改变对第二参数的敏感度，其中第一参数是形变并且第二参数是气态分析物的浓度；以及对第一参数和第二参数中的至少一个参数敏感的第二传感器。根据本专利技术的各种但不一定是所有的实施例，提供了一种方法，包括：处理来自包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料的第一传感器的输出，其中对第一参数的敏感度改变对第二参数的敏感度，其中第一参数是形变并且第二参数是气态分析物的浓度；并且处理来自对第一参数和第二参数中的至少一个参数敏感的第二传感器的输出。根据本专利技术的各种但不一定是所有的实施例，提供了一种装置，包括：至少一个处理器；以及包括计算机程序代码的至少一个存储器，该至少一个存储器和计算机程序代码被配置为与至少一个处理器一起使得该＝装置至少执行：处理来自包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料的第一传感器的输出，其中对第一参数的敏感度改变对第二参数的敏感度，其中第一参数是形变并且第二参数是气态分析物的浓度；并且处理来自对第一参数和第二参数中的至少一个参数敏感的第二传感器的输出。根据本专利技术的各种但不一定是所有的实施例，提供了一种装置，包括：包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料的第一传感器，其中对第一参数的敏感度改变对第二参数的敏感度；并且其中第一传感器对第一和第二参数中的一个参数的敏感度通过将第一和第二参数中的另一参数保持为常量而被控制。根据本专利技术的各种但不一定是所有的实施例，提供了一种方法，包括：处理来自包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料的第一传感器的输出，其中对第一参数的敏感度改变对第二参数的敏感度；其中第一传感器对第一和第二参数中的一个参数的敏感度通过将第一和第二参数中的另一参数保持为常量而被控制。附图说明为了更好地理解对于理解简要描述有用的各个示例，现在将只是通过示例的方式来参考附图，在附图中：图1示出了被配置为检测第一参数p1和/或第二参数p2的装置的示例；图2A至2D示出了从装置到处理电路的不同输出的示例；图3示出了包括一个或多个传感器的装置的示例；图4示出了装置中的传感材料的示例的截面。图5A和5B示出了其中第一传感器对第一和第二参数中的一个参数的敏感度通过将第一和第二参数中的另一参数第一参数是形变为常量而被控制；图6描绘了来自装置的输出随形变和气态分析物的浓度的变化；图7示出了包括处理器和存储器的处理电路的示例；以及图8示出了包括温度补偿电路的装置。具体实施方式图1示出了装置10的示例。装置10被配置为检测第一参数p1和/或第二参数p2，并且可以被称为传感器装置10(未被使用时)和感测装置10(正在使用时)。装置10可以是包括处理电路2的更大型装置的一部分。装置10包括第一传感器20和第二传感器30。第一传感器20包括对第一参数p1和第二参数(p2)敏感的传感材料(sensingmaterial)22。传感材料22对第一参数p1的敏感度改变传感材料22对第二参数的敏感度。第二传感器30对第一参数p1和第二参数p2中的至少一个敏感。第一传感器20对第一参数p1的敏感度与第二传感器30对第一参数p1的敏感度不同，并且/或者第一传感器20对第二参数p2的敏感度与第二传感器30对第二参数p2的敏感度不同。在一些示例但不一定是所有示例中，第一参数p1可以是装置10的形变(D)并且第二参数p2可以是装置10处的气态分析物(gaseousanalyte)的浓度。气态分析物可以是水。第二参数p2则可以是相对湿度(relativehumidity，RH)。装置10可以结合其它气态分析物被使用，例如NH3、NO2、Cl2以及包括甲醇和乙醇的有机溶剂。形变(D)可以例如是拉伸(stretching)形变(deformation)和/或弯曲(bending)形变和/或扭曲(twisting)形变。在一些示例但不一定是所有示例中，第二传感器30可以包括对第一参数p1和第二参数p2敏感的传感材料22。图6示出了传感材料22的敏感度可以怎样随形变和/或气态分析物的浓度(在该示例中是相对湿度)变化的示例。y轴表示传感器输出值并且x轴表示气态分析物的浓度(相对湿度)。第一组散点图是当传感材料22为扁平状态时在映射所测量的输出与变化的相对湿度的关系的图中被做出的。第二组散点图是当传感材料22变形(弯曲)时在映射所测量的输出与变化的相对湿度的关系的图中被做出的。很明显传感材料22的输出响应取决于传感材料22处的相对湿度和传感材料22的形变两者。当传感材料22变形时，输出相对于湿度的变化(对湿度的敏感度)发生改变。当传感材料22被暴露于不同的相对湿度下时，输出相对于形变的变化(对形变的敏感度)发生改变。类似的散点图可以针对其它气态分析物被得到，例如之前所描述的那些气态分析物。图1还示出了处理电路2。处理电路2被配置为处理来自第一传感器20的输出21并且处理来自第二传感器30的输出31并确定针对第一参数p1的值和/或针对第二参数p2的值。处理电路2可以使用来自第一传感器20的输出21和来自第二传感器30的输出31来从数据库查找针对第一参数p1和第二参数p2的值。图7示出了包括处理器4和存储器6的处理电路2的一个示例。处理器4被配置为从存储器6读取以及向存储器6写入。处理器4还可以包括输出接口和输入接口，数据和\本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种装置，包括：第一传感器，所述第一传感器包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料，其中对所述第一参数的敏感度改变对所述第二参数的敏感度；以及第二传感器，所述第二传感器对所述第一参数和所述第二参数中的至少一个参数敏感。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.08.28 GB 1315249.11.一种装置，包括：
第一传感器，所述第一传感器包括对第一参数和第二参数敏感的
传感材料，其中对所述第一参数的敏感度改变对所述第二参数的敏感
度；以及
第二传感器，所述第二传感器对所述第一参数和所述第二参数中
的至少一个参数敏感。
2.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一参数是形变并且所
述第二参数是气态分析物的浓度。
3.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述第二参数是湿度。
4.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第二传感器包
括对所述第一参数和所述第二参数敏感的所述传感材料。
5.根据权利要求4所述的装置，其中所述第一传感器对所述第一
参数的敏感度与所述第二传感器对所述第一参数的敏感度不同。
6.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器和
所述第二传感器中的所述传感材料包括石墨烯氧化物，但是所述第一
传感器和所述第二传感器中的一个传感器的材料包括所述第一传感
器和所述第二传感器中的另一传感器的材料所没有的一个或多个官
能团。
7.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述传感材料包括
从包括以下各项的组选择的材料：石墨烯氧化物、石墨烯、官能化的
石墨烯、氮化硼、过渡金属硫族化物。
8.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述传感材料包括
相同材料的二维层的堆叠。
9.根据权利要求8所述的装置，其中每个二维层具有小于
1000nm的厚度。
10.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中针对所述第二参
数的一个范围的值，所述第一传感器对所述第一参数的敏感度与所述

\t第二传感器对所述第一参数的敏感度不同。
11.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中针对所述第一参
数的一个范围的值，所述第一传感器对所述第二参数的敏感度与所述
第二传感器对所述第二参数的敏感度不同。
12.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器
被配置为对所述第一参数和所述第二参数中的一个参数而不是所述
第一参数和所述第二参数中的另一参数敏感。
13.根据权利要求12所述的装置，其中所述第二传感器被配置为
对所述第一参数和所述第二参数中的所述另一参数而不是所述第一
参数和第二参数中的所述一个参数敏感。
14.根据权利要求1至11中任一项所述的装置，其中所述第一传
感器被配置为对所述第一参数和所述第二参数两者敏感并且所述第
二传感器被配置为对所述第一参数和所述第二参数中的仅一个参数
敏感。
15.根据权利要求1至11中任一项所述的装置，其中所述第一传
感器被配置为对所述第一参数和所述第二参数两者敏感并且所述第
二传感器被配置为按与所述第一传感器不同的方式对所述第一参数
和所述第二参数两者敏感。
16.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器
对所述第一参数的敏感度被选择性地控制。
17.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第二传感器
对所述第二参数的敏感度被选择性地控制。
18.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中传感器的敏感度
通过向所述传感器提供附加结构而被选择性地控制。
19.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中传感器的敏感度
通过提供结构以阻断所述第一参数或所述第二参数中的一个参数而
被选择性地控制。
20.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器
和/或所述第二传感器的敏感度通过使用能够渗透的物理附着的涂层

\t选择性地抑制对形变的敏感度而不抑制对气态分析物进入的敏感度
来被选择性地控制。
21.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器
和/或所述第二传感器的敏感度通过使用未附着的不可渗透涂层选择
性地抑制对气态分析物进入的敏感度而不抑制对形变的敏感度来被
选择性地控制。
22.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器
和/或所述第二传感器的敏感度通过使用密封来保持恒定的气态分析
物浓度而被选择性地控制。
23.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器
和/或所述第二传感器的敏感度通过保持恒定的形变而被选择性地控
制。
24.根据任一项前述权利要求所述的装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·哈奎，S·M·伯里尼，R·怀特，
申请(专利权)人：诺基亚技术有限公司，
类型：发明
国别省市：芬兰;FI