一种基板及其制作方法技术

本发明专利技术提供一种基板及其制作方法，所述方法包括：在衬底基板上涂布色阻材料；使用半色调掩膜板对所述色阻材料进行曝光；对所述曝光后的色阻材料进行显影，以形成多个彩膜色阻；其中所述彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。本发明专利技术的基板及其制作方法，通过将彩膜色阻与相邻彩膜色阻交叠的部分的厚度制作的较薄些，从而降低了彩膜色阻交叠部分的高度，进一步使得基板的表面更加平整。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示器
，特别是涉及一种基板及其制作方法。
技术介绍
现有技术中，由于相邻像素之间存在非驱动区域，在非驱动区域的液晶排列不受控制，导致面板出现漏光。因此通常在数据线和扫描线旁设置相应的黑色矩阵，以对非驱动区域进行遮光。随后，通过将非驱动区域中的色阻RGB进行重叠，以使重叠的色阻层进行遮光，便省去黑色矩阵的制程。如图1所示，由于彩膜色阻101-103(可分别代表红色彩膜、绿色彩膜、蓝色彩膜)的交叠，出现角段差L0，而色阻交叠的区域为两种色阻的厚度，相对于像素中央的显示区域会形成凸起的围墙结构，从而不利于液晶和配向膜材料的流动，会产生气泡以及导致配向膜材料不均匀等问题，最终影响显示效果。现有的解决办法是增加一层平坦部，但是这种方式会增加生产成本。因此，有必要提供一种基板及其制作方法，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基板及其制作方法，以解决现有技术色阻层的表面不平整，降低显示效果或者增加生产成本的技术问题。为解决上述技术问题，本专利技术构造了一种基板的制作方法，所述方法包括：在衬底基板上涂布色阻材料；使用半色调掩膜板对所述色阻材料进行曝光；对所述曝光后的色阻材料进行显影，以形成多个彩膜色阻；其中所述彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。在本专利技术的基板的制作方法中，所述平坦部位于所述彩膜色阻的两侧，所述凸起部位于所述彩膜色阻的中间。在本专利技术的基板的制作方法中，所述遮光区对应的平坦部的厚度总和与所述彩膜色阻的凸起部的厚度之间的差值位于预设范围内。在本专利技术的基板的制作方法中，所述方法还包括：在所述彩膜色阻上形成透明导电层，所述透明导电层包括公共电极。在本专利技术的基板的制作方法中，所述在衬底基板上涂布色阻材料的步骤包括：在所述衬底基板上形成开关阵列层，所述开关阵列层包括多个开关元件；在所述开关阵列层上涂布色阻材料。在本专利技术的基板的制作方法中，在所述开关阵列层上涂布色阻材料的步骤包括：在所述开关阵列层上形成绝缘层；在所述绝缘层上涂布色阻材料。本专利技术还提供一种基板，其包括衬底基板；色阻层，位于所述衬底基板上，所述色阻层包括多个彩膜色阻，所述彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。在本专利技术的基板中，所述平坦部位于所述彩膜色阻的两侧，所述凸起部位于所述彩膜色阻的中间。在本专利技术的基板中，所述遮光区对应的平坦部的厚度总和与所述彩膜色阻的凸起部的厚度之间的差值位于预设范围内。在本专利技术的基板中，所述基板还包括透明导电层，所述透明导电层位于所述色阻层上；所述透明导电层包括公共电极。本专利技术的基板及其制作方法，通过将单个彩膜色阻中与相邻彩膜色阻交叠的部分的厚度制作的较薄些，从而降低了彩膜色阻交叠部分的高度，避免了色阻层出现角段差，进一步使得基板的表面更加平整。【附图说明】图1为现有技术中的色阻层的结构示意图。图2为本专利技术实施例一基板的结构示意图。图3为图2中单个彩膜色阻的放大示意图。图4为本专利技术实施例一基板的优选结构示意图。图5为本专利技术实施例二基板的结构示意图。【具体实施方式】以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。请参照图2，图2为本专利技术实施例一基板的结构示意图。本实施例的基板可以为彩膜基板。如图2所示，该基板包括衬底基板21、色阻层22以及透明导电层23，其中所述衬底基板21可为玻璃基板。该色阻层22位于所述衬底基板21上。所述透明导电层23位于所述色阻层22上；所述透明导电层23包括公共电极。所述色阻层21包括多个彩膜色阻，比如红色彩膜201、绿色彩膜202、蓝色彩膜203。每个彩膜色阻包括平坦部和凸起部，该平坦部与遮光区的位置相对应。其中所述基板具有遮光区，也即该遮光区与数据线或者扫描线的位置对应，该凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度。比如以绿色彩膜为例，如图3所示，该绿色彩膜202包括凸起部24和平坦部25。由于将两个彩膜色阻交叠区域(也即遮光区)的单个彩膜色阻的厚度设置的比较薄，从而降低了相邻两个彩膜色阻交叠处的整体厚度，也即防止了色阻层出现角段差，使得色阻层的表面平整。此外由于不需要制作平坦层，降低了生产成本。优选地，结合图2和图3，所述平坦部25位于所述彩膜色阻的两侧，所述凸起部位24于所述彩膜色阻的中间。优选地，所述遮光区对应的平坦部的厚度总和与所述彩膜色阻的凸起部的厚度之间的差值位于预设范围内。该预设范围比如为接近0的范围，也即交叠区域的色阻层的厚度总和与非交叠区的色阻层的厚度近似相等，从而使得基板的表面更加平整。因此不必再制作一层平坦部，降低了生产成本。优选地，所述遮光区对应的平坦部的厚度总和小于对应的彩膜色阻的凸起部的厚度。如图4所示，比如红色彩膜201的平坦部和绿色彩膜202的平坦部的厚度总和小于所述红色彩膜201凸起部的厚度，或者小于所述绿色彩膜202凸起部的厚度。进一步，为了提高遮光效果，可以在两个平坦部重叠(交叠)的位置上设置黑色矩阵26。具体可以对黑色矩阵进行图案化处理，以使交叠区域以外的黑色矩阵被显影掉，从而使得基板的表面平整。也即黑色矩阵26的上表面可以与彩膜色阻的上表面齐平。具体地，上述基板的制作过程如下：S101、在衬底基板上涂布色阻材料；所述衬底基板可为玻璃基板，所述色阻材料可以为负性光阻材料。S102、使用半色调掩膜板对所述色阻材料进行曝光；使用半色调掩膜板对色阻材料进行曝光；曝光的过程具体是采用紫外线对光阻材料进行照射。所述半色调掩膜板包括多个预设图案，所述预设图案包括全透光区域和部分可透光区域，所述部分可透光区域位于所述预设图案的两侧，所述全透光区域位于所述预设图案的中间。当色阻材料为负性光阻材料时，未照到紫外光的光阻材料将被显影液去除；而照射到光的光阻材料不被去除。因此，可以将每个彩膜色阻中间部分对应的掩膜版的图案设置为全透光的，而将每个彩膜色阻两侧部分对应的掩膜版的图案设置为部分透光的。S103、对所述曝光后的色阻材料进行显影，以形成多个彩膜色阻；经过上述步骤后，得到两侧比较矮中间比较高的彩膜色阻，也即每个彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；其中所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。当所述遮光区对应平坦部的厚度总和小于对应的彩膜色阻的凸起部的厚度时，上述方法还可包括：S104、在所述彩膜色阻上涂布黑色矩阵材料，对所述黑色矩阵材料进行图案化处理，以在所述遮光区的平坦部上形成黑色矩阵。具体地，可以通过曝光、显影的方式将平坦部以外的黑色矩阵去除，仅保留遮光区(或者平坦区)上方的黑色矩阵材料，且通过蚀刻等工艺使得黑色矩阵的上表面与彩膜色阻的上表面齐平。所述黑色矩阵材料可以为不透光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上涂布色阻材料；使用半色调掩膜板对所述色阻材料进行曝光；对所述曝光后的色阻材料进行显影，以形成多个彩膜色阻；其中所述彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。

【技术特征摘要】
1.一种基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上涂布色阻材料；使用半色调掩膜板对所述色阻材料进行曝光；对所述曝光后的色阻材料进行显影，以形成多个彩膜色阻；其中所述彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。2.根据权利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，所述平坦部位于所述彩膜色阻的两侧，所述凸起部位于所述彩膜色阻的中间。3.根据权利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，所述遮光区对应的平坦部的厚度总和与所述彩膜色阻的凸起部的厚度之间的差值位于预设范围内。4.根据权利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，所述方法还包括：在所述彩膜色阻上形成透明导电层，所述透明导电层包括公共电极。5.根据权利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上涂布色阻材料的步骤包括：在所述衬底基板上形成开关阵列层，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓竹明，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44