【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种小焦斑大剂量辐射输出的自磁聚焦X射线二极管,具体涉及一种阳极箔产生等离子体加强箍缩聚焦的小焦斑X射线二极管。
技术介绍
小焦斑脉冲X射线可用于透视极端条件下高速运动物体结构、状态及演化过程的流体力学实验中,在国防,民用领域都有很多重要应用。小焦斑X射线源是该诊断系统中的关键参数,焦斑尺寸、辐射剂量等参数与成像质量密切相关。由于用于产生小焦斑X射线源的二极管器件通常工作在数百万伏高电压脉冲下,电磁场环境复杂,工作状态变化极快(工作过程持续时间仅数十ns),其设计和工程实现是闪光照相系统研制的难点和关键问题之一。目前获得应用的一种比较典型的小焦斑X射线源是阳极杆箍缩二极管,其焦斑尺寸可达到亚mm量级,典型辐射剂量为数十mGy。这种二极管所产生的X射线焦斑尺寸较小,但是由于阳极杆采用直径~1mm的钨针,电子韧致辐射效率较低,辐射剂量难以获得大幅提升。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种阳极箔产生等离子体加强箍缩聚焦的小焦斑X射线二极管,解决了现有的小焦斑X射线源辐射剂量低的技术问题。本专利技术的技术解决方案是:所提供的阳极箔产生等离子体加强箍缩聚焦的小焦斑X射线二极管,包括阴极和阳极,所述阴极的发射端和阳极的接收端真空密封于阳极外筒中,其特殊之处在于:所述小焦斑X射线二极管还包括与阳极等电位的阳极箔,所述阳极箔位于阴极的发射端和阳极的接收端之间。上述阳极箔为导电薄膜。 ...
【技术保护点】
一种阳极箔产生等离子体加强箍缩聚焦的小焦斑X射线二极管,包括阴极和阳极,所述阴极的发射端和阳极的接收端真空密封于阳极外筒中,其特征在于:所述小焦斑X射线二极管还包括与阳极等电位的阳极箔,所述阳极箔位于阴极的发射端和阳极的接收端之间。
【技术特征摘要】
1.一种阳极箔产生等离子体加强箍缩聚焦的小焦斑X射线二极管,包括
阴极和阳极,所述阴极的发射端和阳极的接收端真空密封于阳极外筒中,其特
征在于:所述小焦斑X射线二极管还包括与阳极等电位的阳极箔,所述阳极箔
位于阴极的发射端和阳极的接收端之间。
2.根据权利要求1所述的阳极箔产生等离子体加强箍缩聚焦的小焦斑X
射线二极管,其特征在于:所述阳极箔为导电薄膜。
3.根据权利要求2所述的阳极箔产生等离子体加强箍缩聚焦的小焦斑X
射线二极管,其特征在于:所述阳极箔是表面涂覆金属导电层的Mylar膜。
4.根据权利要求1-3中任一所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:张鹏飞,邱爱慈,孙江,胡杨,来定国,孙剑锋,郭建明,丛培天,杨海亮,
申请(专利权)人:西北核技术研究所,
类型:发明
国别省市:陕西;61
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