一种联合磁化‑还原焙烧的转底炉制造技术

本发明专利技术公开一种联合磁化‑还原焙烧的转底炉，包括炉体、炉底、挡墙、溜槽、辐射管和燃烧器，炉体包括外侧壁、炉顶和内侧壁，外侧壁通过炉顶连接内侧壁，炉体的横截面积为环形；炉底为环状，位于炉体下方，炉底与炉体构成环形空间；挡墙设置在炉体内，数量为两个，挡墙连接外侧壁、炉顶和内侧壁，挡墙将环形空间分隔为磁化焙烧区和还原焙烧区；溜槽安装于炉顶上，还原焙烧区炉顶上设置还原剂入口，溜槽与还原剂入口连接，位于还原剂入口下方。本发明专利技术的转底炉可将物料的磁化焙烧和还原焙烧一体化完成，还原效果好，运行成本低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于冶金设备
，尤其涉及一种联合磁化-还原焙烧的转底炉。
技术介绍
转底炉直接还原工艺是近三十年间发展起来的炼铁和处理特殊有色金属矿石的新工艺。转底炉直接还原省去了高炉炼焦流程，是一项节能环保的技术。由于此项工艺对原料和燃料的要求不高，能够合理利用自然资源，因而受到冶金和有色行业的高度关注。转底炉油环形炉床、内外侧壁、炉顶、燃烧系统等组成。侧壁、炉顶固定不动，炉床由炉底传动机构带动循环旋转。转底炉的工艺流程是将细矿石和还原剂加入粘结剂后造球，并将球团均匀排布在转底炉的炉底，在炉底上的球团随炉底转动一圈的过程中，完成还原。由转底炉产生的金属化球团可作为高炉或熔分炉等的原料，以获得金属。转底炉的工艺特点：(1)在转底炉内还原焙烧的物料是含碳球团，碳和氧化铁之间的接触紧密，具有良好的快速还原条件。(2)转底炉还原焙烧工艺是薄料层在高温中加热，可实现快速还原，炉料在炉内还原时间短。(3)由于薄料层、炉料在转底炉中不受压，且炉料与炉衬之间无相对运动，因此对炉料的强度要求不高，不会产生料团与炉体耐材粘结现象。目前的转底炉，虽然单台的处理量较大，但功能单一，仅有还原效果，对于一些需要磁化焙烧的原料直接还原效果差，限制了转底炉的使用；转底炉的炉内气氛不可控，物料加热不均匀等问题需要改进。
技术实现思路
为了解决上述问题，本专利技术提出一种联合磁化-还原焙烧的转底炉，该转底炉可将待处理物料的磁化焙烧与还原焙烧先后进行，挡墙可以将磁化焙烧区和还原焙烧区气氛隔离，磁化焙烧区采用辐射管加热，还原焙烧区为还原气氛，还原效果好，运行成本小。本专利技术提供一种联合磁化-还原焙烧的转底炉，包括炉体、炉底、挡墙、溜槽、辐射管和燃烧器；所述炉体包括外侧壁、炉顶和内侧壁，所述外侧壁通过炉顶连接所述内侧壁，所述炉体的横截面积为环形；所述炉底为环状，位于所述炉体下方，所述炉底与所述炉体构成环形空间；所述挡墙设置在所述炉体内，数量为两个，所述挡墙连接所述外侧壁、炉顶和内侧壁，所述挡墙将所述环形空间分隔为磁化焙烧区和还原焙烧区；所述溜槽安装于所述炉顶上，所述还原焙烧区炉顶上设置还原剂入口，所述溜槽与所述还原剂入口连接，位于所述还原剂入口下方；所述辐射管和燃烧器安装于所述炉体上。转底炉的炉底可旋转，带动物料在炉体内运动。挡墙竖直设置在炉体内，将转底炉内的环形空间分隔为不同的区域，不同的区域可以设置不同的气氛，不同区域的气氛不会互相干扰，实现了转底炉的多功能利用。进一步的，所述炉体上设置入料口和出料口，所述入料口设置在所述磁化焙烧区外侧壁上，所述出料口设置在所述还原焙烧区外侧壁上，所述入料口和出料口位于同一挡墙的两侧，即在入料口和出料口之间的扇形区域中设置有一个挡墙，所述入料口与出料口之间扇形区域的弧度为10°～20°。入料口和出料口的设置可尽量延长球团在转底炉中的时间，提高还原效果。作为优选的实施方案，所述还原剂入料口位于所述还原焙烧区远离出料口一端。还原剂入口设置在还原焙烧区远离出料口端的炉顶，以便在球团(物料)由磁化焙烧区进入还原焙烧区时，可在球团上均匀覆盖一层还原剂，提高球团的金属化率。进一步的，所述溜槽底部与所述炉底垂直距离为8～15cm，所述溜槽底部与所述挡墙水平距离为10～20cm；所述溜槽与所述炉底倾斜角度为30°～60°。溜槽安装在炉顶，用于将还原剂入口进入的还原剂引导到球团上，使得球团上均匀覆盖一层还原剂。作为本专利技术优选的方案，所述磁化焙烧区弧度为90°～120°。磁化焙烧区的气氛控制为中性，可将矿石加热到一定温度分解，生成磁铁矿，磁铁矿更容易被还原。作为本专利技术优选的方案，所述还原焙烧区弧度为220°～260°。还原焙烧区为还原气氛，球团在还原焙烧区与还原剂接触发生还原反应，获得金属化球团。本专利技术的转底炉处理的球团，还原效果好，金属化率高，更利于后续金属化球团的利用。进一步的，所述还原焙烧区分为还原区和冷却区，所述冷却区弧度为50°～90°，所述冷却区一端与出料口连接，所述冷却区炉顶和两侧壁安装有水冷壁。将还原焙烧区分为还原区和冷却区有利于球团的后续处理。水冷壁安装在冷却区炉顶和两侧壁，控制水冷壁水流使冷却区温度控制至出料要求温度。进一步的，所述挡墙底部与所述炉底上表面的垂直距离为10～20cm。挡墙底部到转底炉的炉底上表面的距离既要保证物料的顺利通过，又要保证磁化焙烧区气氛和还原焙烧区气氛不互相干扰。具体的，所述辐射管位于所述磁化焙烧区。辐射管为蓄热式燃气燃烧辐射管，在磁化焙烧区使用辐射管加热，可使磁化焙烧区保持中性气氛。具体的，所述燃烧器位于所述还原焙烧区。燃烧器为蓄热式燃气燃烧器，相对于电加热，燃气加热能耗较小。本专利技术提供的联合磁化-还原焙烧的转底炉，通过挡墙可以实现炉体内两种气氛互不干扰；物料在转底炉内磁化焙烧与还原焙烧一体完成；物料经磁化焙烧后，还原效果好；还原焙烧区充分利用磁化焙烧区物料的显热，能耗小、成本低。附图说明图1是本专利技术一种联合磁化-还原焙烧的转底炉俯视示意图；图2是本专利技术溜槽的局部视图。图中：1-炉体；101-还原剂入口；102-入料口；103-出料口；2-炉底；3-挡墙；4-溜槽；5-辐射管；6-燃烧器；7-磁化焙烧区；8-还原焙烧区；801-还原区；802-冷却区。具体实施方式以下结合附图和实施例，对本专利技术的具体实施方式进行更加详细的说明，以便能够更好地理解本专利技术的方案及其各个方面的优点。然而，以下描述的具体实施方式和实施例仅是说明的目的，而不是对本专利技术的限制。如图1和图2所示，本专利技术实施例提供一种联合磁化-还原焙烧的转底炉，包括炉体1、炉底2、挡墙3、溜槽4、辐射管5和燃烧器6。炉体1包括外侧壁、炉顶和内侧壁，外侧壁通过炉顶连接内侧壁，炉体的横截面积为环形。炉底2为环状，位于炉体1下方，炉底2与炉体1构成环形空间。炉底2可绕转底炉的中心轴旋转，进入转底炉的物料落在炉底2上，炉底2的旋转带动物料在转底炉内旋转。挡墙3设置在炉体1内，数量为两个。挡墙2连接炉体的外侧壁、炉顶和内侧壁，挡墙3将转底炉的环形空间分隔为磁化焙烧区7和还原焙烧区8。挡墙3竖直设置在炉体1内，将转底炉内的环形空间分隔为不同的区域，不同的区域可以设置不同的气氛，不同区域的气氛不会互相干扰，实现了转底炉的多功能利用。进一步的，挡墙3底部与炉底2上表面的垂直距离为10～20cm。挡墙底部到转底炉的炉底上表面的距离既要保证物料的顺利通过，又要保证磁化焙烧区气氛和还原焙烧区气氛不互相干扰。还原焙烧区8炉顶上设置还原剂入口101，还原剂入料口101位于还原焙烧区8远离出料口一端。还原剂入口101设置在还原焙烧区远离出料口端的炉顶，以便在球团(物料)由磁化焙烧区7进入还原焙烧区8时，可在球团上均匀覆盖一层还原剂，提高球团的金属化率。溜槽4安装于炉顶上，溜槽4与还原剂入口101连接，位于还原剂入口101下方。溜槽4底部与炉底2上表面的垂直距离为8～15cm，溜槽4底部与挡墙3水平距离为10～20cm；溜槽4与炉底3倾斜角度为30°～60°。溜槽4安装在炉顶，用于将还原剂入口101进入的还原剂引导到球团上，使得球团上均匀覆盖一层还原剂。辐射管5安装在炉体1上，位于磁化焙烧区7。辐射管5为蓄热式燃气燃烧辐射管，在磁化焙烧区7使用辐射管加本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种联合磁化‑还原焙烧的转底炉，包括炉体、炉底、挡墙、溜槽、辐射管和燃烧器，其中，所述炉体包括外侧壁、炉顶和内侧壁，所述外侧壁通过炉顶连接所述内侧壁，所述炉体的横截面积为环形；所述炉底为环状，位于所述炉体下方，所述炉底与所述炉体构成环形空间；所述挡墙设置在所述炉体内，数量为两个，所述挡墙连接所述外侧壁、炉顶和内侧壁，所述挡墙将所述环形空间分隔为磁化焙烧区和还原焙烧区；所述溜槽安装于所述炉顶上，所述还原焙烧区炉顶上设置还原剂入口，所述溜槽与所述还原剂入口连接，位于所述还原剂入口下方；所述辐射管和燃烧器安装于所述炉体上。

【技术特征摘要】
1.一种联合磁化-还原焙烧的转底炉，包括炉体、炉底、挡墙、溜槽、辐射管和燃烧器，其中，所述炉体包括外侧壁、炉顶和内侧壁，所述外侧壁通过炉顶连接所述内侧壁，所述炉体的横截面积为环形；所述炉底为环状，位于所述炉体下方，所述炉底与所述炉体构成环形空间；所述挡墙设置在所述炉体内，数量为两个，所述挡墙连接所述外侧壁、炉顶和内侧壁，所述挡墙将所述环形空间分隔为磁化焙烧区和还原焙烧区；所述溜槽安装于所述炉顶上，所述还原焙烧区炉顶上设置还原剂入口，所述溜槽与所述还原剂入口连接，位于所述还原剂入口下方；所述辐射管和燃烧器安装于所述炉体上。2.根据权利要求1所述转底炉，其特征在于，所述炉体上设置入料口和出料口，所述入料口设置在所述磁化焙烧区外侧壁上，所述出料口设置在所述还原焙烧区外侧壁上，所述入料口和出料口位于同一挡墙的两侧，所述入料口与出料口之间扇形区域的弧度为10°～20°。3.根据权利要求2所述转底炉，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐刚，任中山，闫方兴，曹志成，薛逊，吴道洪，
申请(专利权)人：江苏省冶金设计院有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32