一种按摩足浴盆制造技术

本实用新型专利技术提供了一种按摩足浴盆，属于保健用品技术领域。它解决了现有足浴盆使用不够舒适的问题。本按摩足浴盆，包括盆体，所述盆体的底部具有向上凸起的按摩台，其特征在于，所述按摩台包括位于按摩台顶部且制为平面的平台面、位于平台面且向下倾斜设置的前斜面和位于平台面后侧且向下倾斜设置的后斜面，所述按摩台上设置有若干个下凹的安装槽，所述安装槽内设置有按摩轮。本足浴盆的按摩台制为梯形台，其顶面制为平面，人们脚踩按摩轮时，脚底与按摩台顶部的间距更大，按摩踩踏的空间更大，使用时舒适性更好。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于保健用品
，涉及一种足浴盆，特别涉及一种按摩足浴盆。
技术介绍
脚是人体经络汇聚的地方之一，人体各器官在脚底部均有特定的反射区，每天坚持热水足浴，可以舒筋活络，和气活血，调节和平衡人体分泌，舒展紧张神经，活跃末梢神经，延缓人体衰老，更可以有效预防人体各种血管疾病。中国专利【专利号：201520321250.5】公开了一种按摩足浴盆，包括盆体，其特征在于在盆体底部设置有按摩台，按摩台由盆体底部向上凸起，按摩台的顶部呈弧形，在按摩台上设置有安装槽，在安装槽内安装有按摩轮。人们在使用该足浴盆时，按摩轮可以按摩脚底，进一步起到按摩健身的作用，但是由于按摩台制为弧形，按摩台的顶部较高，脚底摩擦按摩轮时，脚底易抵靠在按摩台上，使用舒适性不好，而且安装槽为按摩台的下凹槽，清理非常的不便。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种按摩足浴盆，它所要解决的技术问题是如何使得足浴盆使用更加舒适，清理更加方便。本技术的目的可通过下列技术方案来实现：一种按摩足浴盆，包括盆体，所述盆体的底部具有向上凸起的按摩台，其特征在于，所述按摩台包括位于按摩台顶部且制为平面的平台面、位于平台面且向下倾斜设置的前斜面和位于平台面后侧且向下倾斜设置的后斜面，所述按摩台上设置有若干个下凹的安装槽，所述安装槽内设置有按摩轮。本足浴盆的按摩台制为梯形台，其顶面制为平面，人们脚踩按摩轮时，脚底与按摩台顶部的间距更大，按摩踩踏的空间更大，使用时舒适性更好。在上述的按摩足浴盆中，所述安装槽为由前往后贯穿按摩台的通槽。脚踩在按摩轮上摩擦时，往往会掉落较多的皮屑，安装槽制为通槽后，积聚在安装槽内的皮屑等污物易于清理，使用的卫生性更好。在上述的按摩足浴盆中，所述前斜面和平台面之间平滑过渡，所述后斜面与平台面之间平滑过渡。平滑过渡能够避免使用时磕脚，提高使用的舒适性。在上述的按摩足浴盆中，所述按摩轮的轮面上设置有若干个半球状凸起的按模块。按模块能够进一步按摩人体脚底的穴位，提高使用舒适性。在上述的按摩足浴盆中，所述按摩轮由磁石制成。脚踩磁石时，还能受到磁力刺激，使用舒适性更好。在上述的按摩足浴盆中，所述盆体底部的前端还设置有药盒和沿着盆体左右方向横向贯穿药盒的流水槽，所述药盒的顶部设置有盖板。药盒内可以放入各式药包，足浴盆内的水在通槽内流动，经过药盒后，可以将药包成分带出，便于药液扩散。在上述的按摩足浴盆中，所述盖板铰接在盆体的底部。盖板可以掀起和盖下，便于放置药包，又能避免药包漂浮。在上述的按摩足浴盆中，所述盖板具有若干个通孔。通孔既便于药包成分释放，又能够减少盖板的表面积，避免盖板在浮力作用下掀开。在上述的按摩足浴盆中，所述按摩台顶部的中心位置上设置有磨脚石。磨脚石能够去除脚皮。在上述的按摩足浴盆中，所述盆体顶部的前端设置有挡板。挡板能够避免足浴时水到处飞溅。与现有技术相比，本技术具有以下的优点：1、按摩台制为梯形台，人们脚踩按摩轮时，脚底不会磕脚，使用舒适性更好；2、盆体内用于设置按摩轮的安装槽制为通槽，不易积屑，便于清理；3、盆体内设置药盒，在足疗的同时还能进行药疗，功能性更好。附图说明图1是本技术的结构示意图。图2是本技术中盆体的结构示意图。图3是本技术中盆体的俯视结构示意图。图4是本技术中盆体的截面示意图。图5是图4中A处放大图。图中，1、盆体；2、按摩台；21、平台面；22、前斜面；23、后斜面；24、安装槽；3、按摩轮；31、按模块；4、药盒；5、流水槽；6、盖板；61、通孔；7、磨脚石；8、挡板。具体实施方式以下是本技术的具体实施例并结合附图，对本技术的技术方案作进一步的描述，但本技术并不限于这些实施例。参照图1、图2和图3，本实施例为一种按摩足浴盆，包括盆体1，盆体1的底部具有向上凸起的按摩台2，按摩台2上设置有若干个下凹的安装槽24，安装槽24为由前往后贯穿按摩台2的通槽，安装槽24内设置有按摩轮3。按摩轮3的轮面上设置有若干个半球状凸起的按模块31，按模块31能够进一步按摩人体脚底的穴位，提高足浴的舒适性。本实施例中的按摩轮3由磁石制成，使得人们在足浴过程中还能享受磁疗。盆体1底部的前端还设置有药盒4和沿着盆体1左右方向横向贯穿药盒4的流水槽5，药盒4的顶部设置有盖板6，药盒4用于放置药包，左右贯穿药盒5的流水槽5有利于药盒4内外的水发生相互流动，便于药液扩散。盖板6铰接在盆体1上，且盖板6具有若干个通孔61通孔61既便于药包成分释放，又能够减少盖板6的表面积，避免盖板6在浮力作用下掀开。按摩台2顶部的中心位置上设置有磨脚石7，磨脚石7能够去除脚皮。盆体1顶部的前端设置有挡板8，挡板8能够避免足浴时水到处飞溅.结合图4和图5，按摩台2包括位于按摩台2顶部且制为平面的平台面21、位于平台面21且向下倾斜设置的前斜面22和位于平台面21后侧且向下倾斜设置的后斜面23，前斜面22和平台面21之间平滑过渡，后斜面23与平台面21之间平滑过渡。按摩台2制为梯形台，其顶面制为平面，人们脚踩按摩轮3时，脚底与按摩台1顶部的间距更大，按摩踩踏的空间更大，使用时舒适性更好。本文中所描述的具体实施例仅仅是对本技术精神作举例说明。本技术所属
的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本技术的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种按摩足浴盆，包括盆体(1)，所述盆体(1)的底部具有向上凸起的按摩台(2)，其特征在于，所述按摩台(2)包括位于按摩台(2)顶部且制为平面的平台面(21)、位于平台面(21)且向下倾斜设置的前斜面(22)和位于平台面(21)后侧且向下倾斜设置的后斜面(23)，所述按摩台(2)上设置有若干个下凹的安装槽(24)，所述安装槽(24)内设置有按摩轮(3)。

【技术特征摘要】
1.一种按摩足浴盆，包括盆体(1)，所述盆体(1)的底部具有向上凸起的按摩台(2)，其特征在于，所述按摩台(2)包括位于按摩台(2)顶部且制为平面的平台面(21)、位于平台面(21)且向下倾斜设置的前斜面(22)和位于平台面(21)后侧且向下倾斜设置的后斜面(23)，所述按摩台(2)上设置有若干个下凹的安装槽(24)，所述安装槽(24)内设置有按摩轮(3)。2.根据权利要求1所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述安装槽(24)为由前往后贯穿按摩台(2)的通槽。3.根据权利要求1所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述前斜面(22)和平台面(21)之间平滑过渡，所述后斜面(23)与平台面(21)之间平滑过渡。4.根据权利要求1或2或3所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述按摩轮(3)的轮面上...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶瞻瞩，
申请(专利权)人：叶瞻瞩，
类型：新型
国别省市：浙江;33