本发明专利技术提供一种带表面保护膜的光学构件,其为在一侧的表面通过粘合剂层粘贴有剥离衬垫、在另一侧的表面粘贴有表面保护膜的光学构件,在要将剥离衬垫剥离时,光学构件不容易与该剥离衬垫一起自表面保护膜剥离,即,不容易在光学构件与表面保护膜的界面发生剥离。本发明专利技术的带表面保护膜的光学构件依次具有:光学构件与表面保护膜的层叠体、在该光学构件的与该表面保护膜相反一侧具备的粘合剂层(2)、以及在该粘合剂层(2)的与该光学构件相反一侧具备的剥离衬垫,该表面保护膜包括基材层和粘合剂层(1),该表面保护膜的该粘合剂层(1)位于光学构件侧,该光学构件自该层叠体的起始剥离力P大于该剥离衬垫自该层叠体的起始剥离力Q。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及带表面保护膜的光学构件。本专利技术的带表面保护膜的光学构件是在光学构件的表面粘贴有表面保护膜的构件。
技术介绍
在液晶显示装置等光学产品的制造工序中,在偏光板等光学构件的一侧的表面一般通过粘合剂层粘贴有剥离衬垫。并且,在将这种光学构件粘贴于其他构件(例如其他光学构件)时,在粘贴前将剥离衬垫剥离使粘合剂层露出再粘贴于其他构件(例如专利文献1)。另一方面,光学构件为了防止加工、组装、检查、运输等时表面的损伤,一般在露出面侧粘贴表面保护膜。这种表面保护膜在不再需要表面保护时自光学构件被剥离。即,在液晶显示装置等光学产品的制造工序中,光学构件一般在一侧的表面通过粘合剂层粘贴有剥离衬垫、在另一侧的表面粘贴有表面保护膜。在这种带表面保护膜的光学构件中,在要如上所述地将剥离衬垫剥离时,重要的是仅在该剥离衬垫与粘合剂层的界面发生剥离。然而,在现有的带表面保护膜的光学构件中,在要如上所述地将剥离衬垫剥离时,会发生光学构件与该剥离衬垫一起自表面保护膜剥离的问题,即,在光学构件与表面保护膜的界面发生剥离的问题。这种问题在光学构件薄的情况下特别显著。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特许第3972676号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的课题在于提供一种带表面保护膜的光学构件,其为在一侧的表面通过粘合剂层粘贴有剥离衬垫、在另一侧的表面粘贴有表面保护膜的光学构件,在要将剥离衬垫剥离时,光学构件不容易与该剥离衬垫一起自表面保护膜剥离,即,不容易在光学构件与表面保护膜的界面发生剥离。用于解决问题的方案本专利技术的带表面保护膜的光学构件依次具有:光学构件与表面保护膜的层叠体、在该光学构件的与该表面保护膜相反一侧具备的粘合剂层(2)、以及在该粘合剂层(2)的与该光学构件相反一侧具备的剥离衬垫,该表面保护膜包括基材层和粘合剂层(1),该表面保护膜的该粘合剂层(1)位于光学构件侧,该光学构件自该层叠体的起始剥离力P大于该剥离衬垫自该层叠体的起始剥离力Q。在一个实施方式中,上述光学构件的厚度为1μm~500μm。在一个实施方式中,上述表面保护膜的厚度为5μm~500μm。在一个实施方式中,上述剥离衬垫的厚度为1μm~500μm。在一个实施方式中,上述基材层为塑料薄膜。在一个实施方式中,上述粘合剂层(1)中含有的粘合剂为选自氨基甲酸酯类粘合剂、丙烯酸类粘合剂、橡胶类粘合剂、有机硅类粘合剂中的至少1种。在一个实施方式中,上述氨基甲酸酯类粘合剂包含由含有多元醇(A)和多官能异氰酸酯化合物(B)的组合物形成的聚氨酯类树脂。在一个实施方式中,上述多元醇(A)与上述多官能异氰酸酯化合物(B)中的NCO基与OH基的当量比按NCO基/OH基计为2.0以下。在一个实施方式中,上述氨基甲酸酯类粘合剂包含由含有氨基甲酸酯预聚物(C)和多官能异氰酸酯化合物(B)的组合物形成的聚氨酯类树脂。在一个实施方式中,上述氨基甲酸酯预聚物(C)与上述多官能异氰酸酯化合物(B)中的NCO基与OH基的当量比按NCO基/OH基计为2.0以下。在一个实施方式中,上述氨基甲酸酯类粘合剂含有脂肪酸酯。在一个实施方式中,上述丙烯酸类粘合剂包含由含有下述物质的组合物形成的丙烯酸类树脂:(a)烷基酯部分的烷基的碳数为4~12的(甲基)丙烯酸烷基酯,(b)选自具有OH基的(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酸中的至少1种,(c)选自多官能异氰酸酯类交联剂和环氧类交联剂中的至少1种。在一个实施方式中,上述表面保护膜相对于上述光学构件表面的润湿速度为5cm2/秒以上。专利技术的效果根据本专利技术,能够提供一种带表面保护膜的光学构件,其为在一侧的表面通过粘合剂层粘贴有剥离衬垫、在另一侧的表面粘贴有表面保护膜的光学构件,在要将剥离衬垫剥离时,光学构件不容易与该剥离衬垫一起自表面保护膜剥离,即,不容易在光学构件与表面保护膜的界面发生剥离。附图说明图1是本专利技术的一个实施方式的带表面保护膜的光学构件的截面示意图。图2是对该光学构件自光学构件与表面保护膜的层叠体的起始剥离力P进行说明的截面示意图。图3是对剥离衬垫的起始剥离力Q进行说明的截面示意图。附图标记说明10剥离衬垫20粘合剂层(2)30光学构件40粘合剂层(1)50基材层100表面保护膜1000带表面保护膜的光学构件具体实施方式《《带表面保护膜的光学构件》》本专利技术的带表面保护膜的光学构件依次具有:光学构件与表面保护膜的层叠体、在该光学构件的与该表面保护膜相反一侧具备的粘合剂层(2)、以及在该粘合剂层(2)的与该光学构件相反一侧具备的剥离衬垫,该表面保护膜包括基材层和粘合剂层(1),该表面保护膜的该粘合剂层(1)位于光学构件侧。本专利技术的带表面保护膜的光学构件只要具有光学构件与表面保护膜的层叠体、在该光学构件的与该表面保护膜相反一侧具备的粘合剂层(2)、以及在该粘合剂层(2)的与该光学构件相反一侧具备的剥离衬垫,就可以在不损害本专利技术的效果的范围内具有任意适当的其他层。图1是本专利技术的一个实施方式的带表面保护膜的光学构件的截面示意图。在图1中,本专利技术的带表面保护膜的光学构件1000依次具有:剥离衬垫10、粘合剂层(2)20、光学构件30、粘合剂层(1)40和基材层50,粘合剂层(1)40与基材层50构成表面保护膜100。光学构件的厚度优选为1μm~500μm,更优选为3μm~450μm,进一步优选为5μm~400μm,特别优选为10μm~300μm。本专利技术的带表面保护膜的光学构件即使在光学构件的厚度如此之薄的情况下,也能够表现出如下效果:在要将剥离衬垫剥离时,光学构件不容易与该剥离衬垫一起自表面保护膜剥离,即,不容易在光学构件与表面保护膜的界面发生剥离。表面保护膜的厚度优选为5μm~500μm,更优选为10μm~450μm,进一步优选为15μm~400μm,特别优选为20μm~300μm。通过将表面保护膜的厚度调节至上述范围内,本专利技术的带表面保护膜的光学构件能够进一步表现出如下效果:在要将剥离衬垫剥离时,光学构件不容易与该剥离衬垫一起自表面保护膜剥离,即,不容易在光学构件与表面保护膜的界面发生剥离。剥离衬垫的厚度优选为1μm~500μm,更优选为3μm~450μm,进一步优选为5μm~400μm,特别优选为10μm~300μm。通过将剥离衬垫的厚度调节至上述范围内,本专利技术的带表面保护膜的光学构件能够进一步表现出如下效果:在要将剥离衬垫剥离时,光学构件不容易与该剥离衬垫一起自表面保护膜剥离,即,不容易在光学构件与表面保护膜的界面发生剥离。本专利技术的带表面保护膜的光学构件中,该光学构件自光学构件与表面保护膜的层叠体的起始剥离力P大于剥离衬垫自该层叠体的起始剥离力Q。通过使起始剥离力P大于起始剥离力Q,本专利技术的带表面保护膜的光学构件在要将剥离衬垫剥离时,光学构件不容易与该剥离衬垫一起自表面保护膜剥离,即,不容易在光学构件与表面保护膜的界面发生剥离。起始剥离力P/起始剥离力Q为1以上。剥离衬垫的厚度为38μm、剥离速度为300mm/分钟的情况下,起始剥离力P/起始剥离力Q优选为5以上,更优选为5~20,进一步优选为6~15,特别优选为6~13。如果上述起始剥离力P/起始剥离力Q在上述范围内,则本专利技术的带表面保护膜的光学构件在要将剥离衬垫剥离时,光本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种带表面保护膜的光学构件,所述带表面保护膜的光学构件依次具有:光学构件与表面保护膜的层叠体、在该光学构件的与该表面保护膜相反一侧具备的粘合剂层(2)、以及在该粘合剂层(2)的与该光学构件相反一侧具备的剥离衬垫,该表面保护膜包括基材层和粘合剂层(1),该表面保护膜的该粘合剂层(1)位于光学构件侧,该光学构件自该层叠体的起始剥离力P大于该剥离衬垫自该层叠体的起始剥离力Q。
【技术特征摘要】
2015.08.24 JP 2015-164602;2016.02.23 JP 2016-031621.一种带表面保护膜的光学构件,所述带表面保护膜的光学构件依次具有:光学构件与表面保护膜的层叠体、在该光学构件的与该表面保护膜相反一侧具备的粘合剂层(2)、以及在该粘合剂层(2)的与该光学构件相反一侧具备的剥离衬垫,该表面保护膜包括基材层和粘合剂层(1),该表面保护膜的该粘合剂层(1)位于光学构件侧,该光学构件自该层叠体的起始剥离力P大于该剥离衬垫自该层叠体的起始剥离力Q。2.根据权利要求1所述的带表面保护膜的光学构件,其中,所述光学构件的厚度为1μm~500μm。3.根据权利要求1或2所述的带表面保护膜的光学构件,其中,所述表面保护膜的厚度为5μm~500μm。4.根据权利要求1~3中的任一项所述的带表面保护膜的光学构件,其中,所述剥离衬垫的厚度为1μm~500μm。5.根据权利要求1~4中的任一项所述的带表面保护膜的光学构件,其中,所述基材层为塑料薄膜。6.根据权利要求1~5中的任一项所述的带表面保护膜的光学构件,其中,所述粘合剂层(1)中含有的粘合剂为选自氨基甲酸酯类粘合剂、丙烯酸类粘合剂、橡胶类粘合剂、有机硅类粘合剂中的至少1种。7.根据权利要求6所述的带表面保护...
【专利技术属性】
技术研发人员:佐佐木翔悟,设乐浩司,
申请(专利权)人:日东电工株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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