一种喷氨结构体制造技术

技术编号:14758411 阅读:239 留言:0更新日期:2017-03-03 04:42
本发明专利技术涉及一种喷氨结构体,包括氨气缓冲室、法兰连接管和喷氨支管,其中:氨气缓冲室用于氨气的暂时缓冲,并实现正压、负压喷氨;法兰连接管用于连接氨气缓冲室及喷氨支管,同时也是喷氨结构体安装时的支撑部件;喷氨支管为多个均匀并列布置,其上设有喷氨孔或氨气喷嘴,用于喷射氨气。本发明专利技术用于氨法脱除氮氧化物时喷射氨气,其既能正压喷氨也能负压抽吸氨气,同时保证喷入的氨气与烟气均匀混合,最大程度减少因喷氨带来的系统压力及温度波动,保证系统稳定、有效运行。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及中低温烟气脱硫脱硝
,尤其涉及一种喷氨结构体
技术介绍
用还原法去除烟气中氮氧化物时多采用氨还原法,按温度高低、有无催化剂划分为SNCR法和SCR法;SNCR法运行温度多在1000摄氏度左右;烟气NH3-SCR法脱硝技术按其所处理的烟气温度大致可分为三种类型:第一种是高温烟气脱硝,处理烟气温度为300~400℃;第二种是中温脱硝工艺,处理烟气温度为200~300℃;第三种是低温脱硝工艺,处理烟气温度为120~220℃。第一种高温烟气脱硝技术已在世界范围内广泛应用于电厂脱硝工艺,第二种、第三种脱硝技术目前正在采暖燃煤锅炉烟气脱硝、玻璃窑烟气脱硝工艺中试运行。与第一种高温烟气脱硝技术相比,第二种及第三种中低温脱硝技术的局限性在于烟气中的二氧化硫含量及含水量会对脱硝效率产生极大的影响。申请号为201410478420.0的中国专利公开了一种“中低温烟气脱硫除尘脱硝及脱硝催化剂热解析一体化装置”,“包括由下至上集成在一个塔体内的脱硫集尘净化段、解析喷氨混合段和脱硝反应段,其中喷氨结构体设在热解析气体输送喷射结构体上方,由多条平行设置的喷氨管道组成,每条喷氨管道上均设有喷氨调节阀,喷氨管道上均布氨喷射口;”。上述专利中喷氨时采用的是正压喷氨,其虽然采用多个喷头同时喷氨,但仍存在氨气与烟气混合不均的问题,并且喷氨处烟气的压力、温度变化很大,对系统保持气流均匀稳定存在不利影响。
技术实现思路
本专利技术提供了一种喷氨结构体,用于氨法脱除氮氧化物时喷射氨气,其既能正压喷氨也能负压抽吸氨气,同时保证喷入的氨气与烟气均匀混合,最大程度减少因喷氨带来的系统压力及温度波动,保证系统稳定、有效运行。为了达到上述目的,本专利技术采用以下技术方案实现:一种喷氨结构体,包括氨气缓冲室、法兰连接管和喷氨支管,其中:氨气缓冲室用于氨气的暂时缓冲,并实现正压、负压喷氨;法兰连接管用于连接氨气缓冲室及喷氨支管,同时也是喷氨结构体安装时的支撑部件;喷氨支管为多个均匀并列布置,其上设有喷氨孔或氨气喷嘴,用于喷射氨气。所述氨气缓冲室沿喷氨支管排列方向设置,并通过法兰连接管与各个喷氨支管垂直连通;氨气缓冲室为1~2个,氨气缓冲室为2个时,分别布置在喷氨支管的两侧。所述喷氨支管的布置间距为100~400mm。所述喷氨孔或氨气喷嘴沿喷氨支管纵向及周向均匀分布,纵向分布间距为20~50mm;在同一横断面上分布的喷氨孔或氨气喷嘴数量为3~7个。所述氨气缓冲室为圆柱体或长方体结构。所述喷氨孔为圆形孔,直径为1~10mm。与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:1)采用多管、多孔结构喷氨,喷氨范围以面代点,喷氨效果更好;2)可保证反应器中喷氨无死角,氨气与烟气混合更均匀、接触更充分,有利于脱硝反应的进行;3)由众多喷氨点形成喷氨层,而每个喷氨点的气量很小,速度相对较低,对烟气系统压力变化的影响大大减小;4)结构形式独特,采用氨气缓冲室后,既可实现正压喷氨,也可实现负压喷氨;5)采用多个喷氨支管,每个喷氨支管上设有多个喷氨孔或氨气喷嘴,个别喷氨支管或氨气喷嘴检修时,不影响整体喷氨效果。附图说明图1是本专利技术所述喷氨结构体的结构示意图一。(设置1个氨气缓冲室时)图2是本专利技术所述喷氨结构体的结构示意图二。(设置2个氨气缓冲室时)图3是图1中的A-A视图。图4是图3中的B-B视图。图中:1.氨气缓冲室2.法兰连接管3.喷氨支管4.喷氨孔/氨气喷嘴具体实施方式下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作进一步说明:如图1所示,本专利技术所述一种喷氨结构体,包括氨气缓冲室1、法兰连接管2和喷氨支管3,其中:氨气缓冲室1用于氨气的暂时缓冲,并实现正压、负压喷氨;法兰连接管2用于连接氨气缓冲室1及喷氨支管3,同时也是喷氨结构体安装时的支撑部件;喷氨支管3为多个均匀并列布置,其上设有喷氨孔或氨气喷嘴4,用于喷射氨气。(如图3所示)所述氨气缓冲室1沿喷氨支管3排列方向设置,并通过法兰连接管2与各个喷氨支管3垂直连通;氨气缓冲室1为1~2个,如图2所示,氨气缓冲室1为2个时,分别布置在喷氨支管3的两侧。所述喷氨支管3的布置间距为100~400mm。如图3、图4所示,所述喷氨孔或氨气喷嘴4沿喷氨支管3纵向及周向均匀分布,纵向分布间距为20~50mm;在同一横断面上分布的喷氨孔或氨气喷嘴4数量为3~7个。所述氨气缓冲室1为圆柱体或长方体结构。所述喷氨孔为圆形孔,直径为1~10mm。本专利技术中,氨气缓冲室1另外连接氨气气源端,用于氨气的暂时缓冲,其尺寸与外形对于氨气流量与压力至关重要,是实现正压、负压均匀喷氨的关键部件。当系统为正压时,氨气气源端压力较氨气缓冲室1压力大,氨气主动经过氨气缓冲室1,通过法兰连接管2进入喷氨支管3,通过喷氨孔或氨气喷嘴4喷射出;当系统为负压时,氨气缓冲室1的压力较氨气气源端压力大,引射动力由喷氨孔或氨气喷嘴4处产生,吸引拖拽氨气依次流经氨气缓冲室1、法兰连接管2进入喷氨支管3。负压运行和正压运行时压力氨气在系统内的流线不同。相邻喷氨支管3之间的间距不宜过大,具体视系统正压值/负压值、喷氨量以及开孔角度而定。以上所述,仅为本专利技术较佳的具体实施方式,但本专利技术的保护范围并不局限于此,任何熟悉本
的技术人员在本专利技术揭露的技术范围内,根据本专利技术的技术方案及其专利技术构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网
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一种喷氨结构体

【技术保护点】
一种喷氨结构体,其特征在于,包括氨气缓冲室、法兰连接管和喷氨支管,其中:氨气缓冲室用于氨气的暂时缓冲,并实现正压、负压喷氨;法兰连接管用于连接氨气缓冲室及喷氨支管,也是喷氨结构体安装时的支撑部件;喷氨支管为多个均匀并列布置,其上设有喷氨孔或氨气喷嘴,用于喷射氨气。

【技术特征摘要】
1.一种喷氨结构体,其特征在于,包括氨气缓冲室、法兰连接管和喷氨支管,其中:氨气缓冲室用于氨气的暂时缓冲,并实现正压、负压喷氨;法兰连接管用于连接氨气缓冲室及喷氨支管,也是喷氨结构体安装时的支撑部件;喷氨支管为多个均匀并列布置,其上设有喷氨孔或氨气喷嘴,用于喷射氨气。2.根据权利要求1所述的一种喷氨结构体,其特征在于,所述氨气缓冲室沿喷氨支管排列方向设置,并通过法兰连接管与各个喷氨支管垂直连通;氨气缓冲室为1~2个,氨气缓冲室为2个时,分别布置在喷氨支管的两侧...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙广明尹华霍延中
申请(专利权)人:中冶焦耐大连工程技术有限公司
类型:发明
国别省市:辽宁;21

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