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石墨化炉制造技术

技术编号:14707766 阅读:195 留言:0更新日期:2017-02-25 20:46
该石墨化炉(1A)具备:第1电极(8);第2电极(9),与第1电极对置地配置;第1通电加热发热体(11),被设置在与第2电极对置的第1电极的表面上;第2通电加热发热体(12),被设置在与第1电极对置的第2电极的表面上。第1以及第2通电加热发热体,构成为在它们之间能够配置被处理物(W1)。此外,该石墨化炉以如下的方式构成:通过对第1电极和第2电极之间通电,加热被配置在第1以及第2通电加热发热体之间的被处理物而使其石墨化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及石墨化炉。本申请基于2014年5月12日在日本申请的特愿2014-99065号、以及2014年5月12日在日本申请的特愿2014-99066号主张优先权,在此引用其内容。
技术介绍
石墨(graphite)具有润滑性、导电性、耐热性、耐化学品性等在工业上的优良性质,被用于半导体领域、核领域、航空/机械领域等广泛的领域。石墨是例如将碳粉末在石墨化炉中加热到高温(例如2000℃~3000℃)制造的。作为这样的石墨化炉,提出有将碳粉末容纳在坩埚内,在该碳粉末中插入分离电极的下端部并对该分离电极通电加热,将容纳在坩埚内的碳粉末石墨化的技术(例如,参照专利文献1)。此外,近年来,使用各种性状的碳粉末作为石墨化处理的原料。因此,存在使用与以往的碳粉末中的0.6~0.7左右的体积比重(填充密度)相比,体积比重特别低的碳粉末的情况。此外,在专利文献2中,公开了碳质成形体的石墨化方法;在专利文献3中,公开了烧制由陶瓷、金属、碳等的粉末构成的成形体的烧制装置;在专利文献4中,公开了石墨碳粉末的制造方法以及制造装置。现有技术文献专利文献专利文献1:日本国特开2012-246200号公报专利文献2:日本国特开平9-227232号公报专利文献3:日本国特开2000-239709号公报专利文献4:日本国特开2006-306724号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题在所述专利文献1的石墨化炉中,通过在坩埚内的碳粉末中插入分离电极的下端部,被该分离电极挤压的碳粉末的体积比重(填充密度)变得比其他位置的碳粉末的体积比重高,在坩埚内存在产生碳粉末的体积比重不均匀的情况。尤其是在处理体积比重低的原料的情况下,因为被分离电极挤压的碳粉末的体积比重与挤压前的体积比重相比变得非常地高,所以存在体积比重的不均匀变得更大的可能性。像这样地,若被容纳在坩埚内的碳粉末的体积比重产生大的不均匀,则电流变得容易偏向体积比重(填充密度)高的部位流通。于是,因为电流流通多的部位被侧重加热,所以难以使坩埚内的碳粉末均匀地石墨化,获得的产品(石墨)的品质容易产生不均匀。因此,在过去,虽然为了使产品(石墨)的品质不产生不均匀而有必要控制通电加热,但有时这样的控制是非常困难的。本专利技术鉴于所述问题而提出,目的在于提供一种石墨化炉,使加热时的通电控制容易,此外,能够降低通过通电加热获得的产品(石墨)的品质的不均匀。用于解决上述技术问题的方案本专利技术的第1方案的石墨化炉,具备:第1电极;第2电极,与第1电极对置地配置;第1通电加热发热体,设置在与第2电极对置的第1电极的表面上;第2通电加热发热体,设置在与第1电极对置的第2电极的表面上。第1通电加热发热体和第2通电加热发热体构成为在它们之间能够配置被处理物。此外,该石墨化炉由以下方式构成:对第1电极和第2电极之间通电,由此加热被配置在第1通电加热发热体和第2通电加热发热体之间的被处理物而使其石墨化。此外,在本专利技术的第2方案中,在所述第1方案的石墨化炉中,第1通电加热发热体和第2通电加热发热体构成为在它们之间能够挟持容纳有被处理物的导电性坩埚。此外,在本专利技术的第3方案中,在所述第2方案的石墨化炉中,第1通电加热发热体和第2通电加热发热体构成为在它们之间能够串联地配设多个坩埚。此外,在本专利技术的第4方案中,在所述第2方案的石墨化炉中,第1通电加热发热体以及第2通电加热发热体的电阻率均比坩埚的电阻率大。此外,在本专利技术的第5方案中,在所述第3方案的石墨化炉中,第1通电加热发热体以及第2通电加热发热体的电阻率均比所述多个坩埚的电阻率大。此外,在本专利技术的第6方案中,在所述第2~第5方案中的任一方案的石墨化炉中,与坩埚抵接的第1通电加热发热体的表面为与第1通电加热发热体抵接的坩埚的端面以上的大小,并且与坩埚抵接的第2通电加热发热体的表面为与第2通电加热发热体抵接的坩埚的端面以上的大小。此外,在本专利技术的第7方案中,在所述第1方案的石墨化炉中,第1通电加热发热体和第2通电加热发热体构成为在它们之间能够挟持成形后的导电性成形被处理物。此外,在本专利技术的第8方案中,在所述第7方案的石墨化炉中,第1通电加热发热体以及第2通电加热发热体的电阻率均比成形被处理物的电阻率大。此外,在本专利技术的第9方案中,在所述第7或第8方案的石墨化炉中,与成形被处理物抵接的第1通电加热发热体的表面为与第1通电加热发热体抵接的成形被处理物的端面以上的大小,并且与成形被处理物抵接的第2通电加热发热体的表面为与第2通电加热发热体抵接的成形被处理物的端面以上的大小。专利技术效果根据本专利技术的石墨化炉,因为在第1电极以及第2电极相互对置的表面上分别设置了第1以及第2通电加热发热体,所以通过对这些第1以及第2通电加热发热体间通电,能够对配置在它们之间的被处理物均匀地通电加热。因此,能够使加热时的通电控制容易,此外,抑制通过通电加热获得的产品(石墨)的品质的不均匀而能够使品质稳定化。附图说明图1是示出本专利技术的石墨化炉的第1实施方式的侧剖视图。图2是示出在第1实施方式中使用的坩埚的侧剖视图。图3是示出本专利技术的石墨化炉的第2实施方式的侧剖视图。具体实施方式以下,参照附图对本专利技术的石墨化炉的实施方式详细地进行说明。另外,在以下的附图中,为了使各部件成为可识别的大小,对各部件的比例尺进行了适当变更。(第1实施方式)图1是示出本专利技术的石墨化炉的第1实施方式的侧剖视图,图1中,附图标记1A示出石墨化炉。石墨化炉1A是加热后述的被处理物W1而使其石墨化的装置。该石墨化炉1A是批量处理式的装置,具有:筒状的侧壁部2,由隔热材料形成;环状的底部3,同样地由隔热材料形成;中间部4;以及上部5。筒状的侧壁部2被配设为其中心轴线沿垂直方向(图1的纸面上下方向)延伸。底部3被配设为覆盖侧壁部2的下侧开口,上部5被配设为覆盖侧壁部2的上侧开口。此外,中间部4被配设为覆盖侧壁部2的高度方向上的中间部的内部开口,作为覆盖后述的通电加热处理部6的上部一侧的分隔壁起作用。即,中间部4被插入在侧壁部2的长度方向(垂直方向)上的中间部位。在侧壁部2上,形成有用于使坩埚20通过设置在其内部的通电加热处理部6而进出的进出口(未图示),在该进出口上,设置有以能够开闭的方式覆盖该进出口的、由隔热材料构成的门(未图示)。通电加热处理部6是由侧壁部2、底部3、以及中间部4围成的区域(空间)。在加热时,在通电加热处理部6内填充有惰性气体,坩埚20被配置在通电加热处理部6内。作为形成这些侧壁部2、底部3、中间部4、上部5以及门的隔热材料,因为通电加热处理部6升温到2000℃~3000℃左右,因此使用具有能够耐受这样的高温的耐热性以及隔热性的材料。此外,在这些侧壁部2、底部3、中间部4、以及上部5的周围设置有包围这些部分的腔7。该腔7整体具有水冷式的冷却部(未图示),抑制坩埚20或通电加热处理部6的热量经由侧壁部2等通过辐射等被散热至外部。此外,石墨化炉1A具备上电极8(第1电极)和与上电极8对置地配置的下电极9(第2电极)。上电极8是从腔7的上方悬挂的圆柱状的电极,通过在该腔7的顶棚部形成的贯通孔(未图示)插通于上部5的贯通孔5a,进而上电极8的前端部(下端部)通过中间部4的贯通孔4a而位于该中间部4的下侧。该上电极8由具本文档来自技高网...
石墨化炉

【技术保护点】
一种石墨化炉,加热被处理物而使其石墨化,具备:第1电极;第2电极,与所述第1电极对置地配置;第1通电加热发热体,设置在与所述第2电极对置的所述第1电极的表面上;第2通电加热发热体,设置在与所述第1电极对置的所述第2电极的表面上,所述第1通电加热发热体和所述第2通电加热发热体构成为在它们之间能够配置被处理物,通过对所述第1电极和所述第2电极之间通电,加热被配置在所述第1通电加热发热体和所述第2通电加热发热体之间的所述被处理物而使其石墨化。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.05.12 JP 2014-099065;2014.05.12 JP 2014-099061.一种石墨化炉,加热被处理物而使其石墨化,具备:第1电极;第2电极,与所述第1电极对置地配置;第1通电加热发热体,设置在与所述第2电极对置的所述第1电极的表面上;第2通电加热发热体,设置在与所述第1电极对置的所述第2电极的表面上,所述第1通电加热发热体和所述第2通电加热发热体构成为在它们之间能够配置被处理物,通过对所述第1电极和所述第2电极之间通电,加热被配置在所述第1通电加热发热体和所述第2通电加热发热体之间的所述被处理物而使其石墨化。2.如权利要求1所述的石墨化炉,其特征在于,所述第1通电加热发热体和所述第2通电加热发热体构成为在它们之间能够挟持容纳有所述被处理物的导电性坩埚。3.如权利要求2所述的石墨化炉,其特征在于,所述第1通电加热发热体和所述第2通电加热发热体构成为在它们之间能够串联地配设多个所述坩埚。4.如权利要求2所述的石墨化炉,其特征在于,所述第1通电加热发热体以及所述第2...

【专利技术属性】
技术研发人员:松田至康隐善厚生
申请(专利权)人:株式会社IHIIHI机械系统股份有限公司
类型:发明
国别省市:日本;JP

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