紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法。本发明专利技术提供可得到同时实现透光性及耐热性的可靠性高的图案的紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法。本发明专利技术涉及紫外线照射装置，其具有：收容部，可在密闭空间内收容基板；照射部，向基板照射紫外线；加热部，被设置在收容部内，对基板进行加热；和升降部，可使基板相对于加热部升降，照射部实施第1照射动作和第2照射动作，所述第1照射动作向未经加热的状态的基板照射紫外线，所述第2照射动作在第1照射动作后、向已被加热的状态的基板照射紫外线，在第1照射动作中，升降部使基板从加热部退避至上方。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法。
技术介绍
以往，存在下述技术：通过对在涂布抗蚀剂材料并进行预烘后进行曝光及显影而得到的预图案(prepattern)进行漂白(bleaching)曝光，从而提高该预图案的透光性、耐久性(例如，参见专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012－237854号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，对于上述现有技术而言，漂白曝光后的图案得不到所期望的透光性及耐久性(耐热性)，成为降低使用该图案制得的有机EL面板或TFT面板等的可靠性的主要原因。本专利技术是鉴于上述课题而完成的，目的在于提供一种可得到同时实现了透光性及耐热性的可靠性高的图案的紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法。用于解决课题的手段根据本专利技术的第1方式，可提供一种紫外线照射装置，所述紫外线照射装置包括：收容部，所述收容部可在密闭空间内收容基板；照射部，所述照射部向上述基板照射紫外线；加热部，所述加热部被设置在上述收容部内，对上述基板进行加热；和升降部，所述升降部可使上述基板相对于上述加热部升降，上述照射部实施第1照射动作和第2照射动作，所述第1照射动作向未经加热的状态的上述基板照射紫外线，所述第2照射动作在所述第1照射动作后、向已被加热的状态的上述基板照射紫外线，在上述第1照射动作中，上述升降部使上述基板从上述加热部退避至上方。根据第1方式涉及的紫外线照射装置，在第1照射动作结束后，通过利用升降部将基板载置于加热部上，可开始第2照射动作。由此，可缩短包括第1照射动作和第2照射动作的紫外线照射动作所需要的节拍时间(takttime)。上述第1方式中，可构成为，上述升降部具有多个升降销，上述加热部具有贯通孔，上述多个升降销可插通所述贯通孔。通过上述构成，由于升降销可插通加热部，所以可在短时间内进行基板在升降销与加热部之间的转移。上述第1方式中，可构成为，还具有移动部，所述移动部使上述照射部在上述收容部的外部移动，以使得从上述收容部的外部向被收容在上述收容部内部的上述基板照射上述紫外线。通过上述构成，可在使基板在具有密闭空间的收容部的内部静止的状态下，一边在收容部的外部移动照射部一边向收容部内部的基板照射紫外线，因此，不需要考虑伴随着基板的移动而产生粒子(particle)。另外，由于在收容部的外部进行照射部的移动，因此，即使假设伴随着照射部的移动而产生粒子，通过使收容部为密闭空间，也能避免粒子侵入到收容部内。因此，可抑制在收容部内产生粒子，可保持基板清洁。上述第1方式中，可构成为，在上述收容部中设置有透射部，所述透射部可透射上述紫外线。通过上述构成，可利用使用了透射部的简单的构成向基板照射紫外线。上述第1方式中，可构成为，上述收容部包括顶板，所述顶板覆盖上述基板的上方，上述透射部被设置于上述顶板。通过上述构成，可利用在收容部的顶板上设置有透射部的简单构成向基板照射紫外线。另外，通过在收容部的一部分中设置透射部，从而与在收容部整体中设置透射部的情况相比，可提高透射部的维护性。上述第1方式中，可构成为，在上述收容部中设置有氧浓度调节部，所述氧浓度调节部可调节该收容部的内部气氛的氧浓度。通过上述构成，可将收容部的内部气氛的氧浓度调节成规定的浓度，因此，可在规定的氧浓度的条件下向基板照射紫外线。上述第1方式中，可构成为，在上述收容部中设置有露点调节部，所述露点调节部可调节该收容部的内部气氛的露点。通过上述构成，可将收容部的内部气氛的露点调节成规定的露点，因此，可在规定的露点的条件下向基板照射紫外线。根据本专利技术的第2方式，可提供一种抗蚀剂图案形成装置，所述抗蚀剂图案形成装置具有：涂布装置，所述涂布装置在基板上涂布抗蚀剂膜；显影装置，所述显影装置通过对上述抗蚀剂膜进行显影处理而形成预图案；和紫外线照射部，所述紫外线照射部向形成了上述预图案的上述基板照射紫外线，上述紫外线照射部由上述第1方式的紫外线照射装置构成。根据第2方式涉及的抗蚀剂图案形成装置，例如，通过第1照射动作，可提高预图案的透光率。另外，通过第2照射动作，在对透光率已提高的预图案进行了加热的状态下进行紫外线的照射，因此，该预图案良好地固化，可得到优异的耐热性。由此，可形成同时实现了透光性及耐热性的预图案。另外，上述预图案由于耐热性优异，所以即使在高温下进行烘烤(bake)处理的情况下，图案也不会变形，维持形状，因此，形成透光性及耐久性优异的抗蚀剂图案。根据本专利技术的第3方式，可提供一种紫外线照射方法，所述紫外线照射方法使用了下述紫外线照射装置，所述紫外线照射装置包括：收容部，所述收容部可在密闭空间内收容基板；照射部，所述照射部向上述基板照射紫外线；加热部，所述加热部可对上述基板进行加热；升降部，所述升降部可使上述基板相对于上述加热部升降，所述紫外线照射方法具有以下工序：第1照射工序，从上述照射部向被收容在上述收容部中、且为未经加热的状态的上述基板照射上述紫外线；和第2照射工序，在第1照射工序后，从上述照射部向被收容在上述收容部中、且为已被加热的状态的上述基板照射上述紫外线，在上述第1照射工序中，上述升降部使上述基板退避至上述加热部的上方。根据第3方式涉及的紫外线照射方法，在第1照射工序时，不利用加热部加热基板，在第2照射工序时，可利用加热部加热基板。另外，通过利用升降部将基板载置于加热部上，可开始第2照射工序。由此，可缩短包括第1照射工序和第2照射工序的照射工序整体所需要的节拍时间。上述第3方式中，可构成为，在上述收容部中设置有透射部，所述透射部可透射上述紫外线，在上述第1照射工序及上述第2照射工序中，使上述照射部在上述收容部的外部移动，以使得经由上述透射部，向上述收容部内部的上述基板照射上述紫外线。通过上述构成，可在使基板在具有密闭空间的收容部的内部静止的状态下，一边在收容部的外部移动照射部一边向收容部内部的基板照射紫外线，因此，不需要考虑伴随着基板的移动而产生粒子。另外，由于在收容部的外部进行照射部的移动，因此，即使假设伴随着照射部的移动而产生粒子，通过使收容部为密闭空间，也能避免粒子侵入到收容部内。因此，可抑制在收容部内产生粒子，可保持基板清洁。上述第3方式中，可构成为，上述第1照射工序及上述第2照射工序包括氧浓度调节步骤，所述氧浓度调节步骤调节上述收容部的内部气氛的氧浓度。通过上述构成，可将收容部的内部气氛的氧浓度调节成规定的浓度，因此，可在规定的氧浓度的条件下向基板照射紫外线。上述第3方式中，可构成为，上述第1照射工序及上述第2照射工序包括露点调节步骤，所述露点调节步骤调节上述收容部的内部气氛的露点。通过上述构成，可将收容部的内部气氛的露点调节成规定的露点，因此，可在规定的露点的条件下向基板照射紫外线。根据本专利技术的第4方式，可提供一种抗蚀剂图案形成方法，所述抗蚀剂图案形成方法具有以下工序：涂布工序，在基板上涂布抗蚀剂膜；显影工序，通过对上述抗蚀剂膜进行显影处理而形成预图案；和照射工序，向形成了上述预图案的上述基板照射紫外线，在上述照射工序中，使用上述第3方式的紫外线照射方法。根据第4方式涉及的抗蚀剂图案形成方法，例如，通过第1照射动作，可提高预本文档来自技高网...

【技术保护点】
紫外线照射装置，其具有：收容部，所述收容部可在密闭空间内收容基板；照射部，所述照射部向所述基板照射紫外线；加热部，所述加热部被设置在所述收容部内，对所述基板进行加热；和升降部，所述升降部可使所述基板相对于所述加热部升降，所述照射部实施第1照射动作和第2照射动作，所述第1照射动作向未经加热的状态的所述基板照射紫外线，所述第2照射动作在所述第1照射动作后、向已被加热的状态的所述基板照射紫外线，在所述第1照射动作中，所述升降部使所述基板从所述加热部退避至上方。

【技术特征摘要】
2015.08.10 JP 2015-1580211.紫外线照射装置，其具有：收容部，所述收容部可在密闭空间内收容基板；照射部，所述照射部向所述基板照射紫外线；加热部，所述加热部被设置在所述收容部内，对所述基板进行加热；和升降部，所述升降部可使所述基板相对于所述加热部升降，所述照射部实施第1照射动作和第2照射动作，所述第1照射动作向未经加热的状态的所述基板照射紫外线，所述第2照射动作在所述第1照射动作后、向已被加热的状态的所述基板照射紫外线，在所述第1照射动作中，所述升降部使所述基板从所述加热部退避至上方。2.如权利要求1所述的紫外线照射装置，其中，所述升降部具有多个升降销，所述加热部具有贯通孔，所述多个升降销可插通所述贯通孔。3.如权利要求1或2所述的紫外线照射装置，其中，还具有移动部，所述移动部使所述照射部在所述收容部的外部移动，以使得从所述收容部的外部向被收容在所述收容部内部的所述基板照射所述紫外线。4.如权利要求1～3中任一项所述的紫外线照射装置，其中，在所述收容部中设置有透射部，所述透射部可透射所述紫外线。5.如权利要求4所述的紫外线照射装置，其中，所述收容部包括顶板，所述顶板覆盖所述基板的上方，所述透射部被设置于所述顶板。6.如权利要求1～5中任一项所述的紫外线照射装置，其中，在所述收容部中设置有氧浓度调节部，所述氧浓度调节部可调节该收容部的内部气氛的氧浓度。7.如权利要求1～6中任一项所述的紫外线照射装置，其中，在所述收容部中设置有露点调节部，所述露点调节部可调节该收容部的内部气氛的露点。8.抗蚀剂图案形成装置，其具有：涂布装置，所述涂布装置在基板上涂布抗蚀剂膜，显影装置，所述显影装置通过对所述抗蚀剂膜进行显影处理而形成预图案...

【专利技术属性】
技术研发人员：稻尾吉浩，小西清孝，佐藤晶彦，细田浩，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP