本发明专利技术涉及一种高精度OLED器件的制备装置及制备方法。包括蒸发源阵列、基板、传动装置以及配合蒸发源阵列的掩膜板;所述蒸发源阵列由若干个蒸发源排列而成,蒸发源中的材料垂直向上蒸发至基板上,通过传动装置带动基板或蒸发源阵列的移动,完成基板的蒸镀,进而形成OLED器件。本发明专利技术加大了基板与掩膜板的距离,减小掩膜板对蒸镀的影响;减小蒸发源与基板的距离,使得蒸发材料更少地扩散在蒸发环境里,节约了蒸发材料;另外,还减小蒸发源间距,减小掩膜板孔隙间距,实现点对点的蒸发,增加单位面积内子像素的个数,实现了高精度OLED器件的制备。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于OLED领域,具体涉及一种高精度OLED器件的制备装置及制备方法。
技术介绍
有机电致发光器件(Organiclight-emittingdevice,OLED)被公认为下一代显示领域的先锋,OLED器件具有主动发光,面板发光,视角广,响应时间短,发光效率高,色域宽,工作电压低,器件厚度薄,可制成弯曲面板,制作工艺相对简单,成本低等特性。OLED作为一种面光源,由于OLED发光接近自然光、绿色环保、可用蒸镀、旋涂、离子束溅射等简单工艺制备并能够沉积在柔性衬底上,被认为在固态照明方面将有重大的价值。白光由红到紫的连续光谱组成,在显示器件中我们采用红绿蓝也就是RGB三种颜色的视觉等亮度混合来调和出白色光。显示屏由许许多多的像素构成,为了让每一个单独的像素可以显示出各种颜色,就需要把它分解为红绿蓝三个比像素更低一级的子像素。也就是说,三个子像素构成一个整体,即彩色像素。当需要显示不同颜色的时候,三个子像素分别以不同的亮度发光,由于子像素的尺寸非常小,在视觉上就会混合成所需要的颜色。单位面积内子像素的个数越多,OLED显示器件的精度就会越高。现有的蒸镀方法如点蒸发源、小平面蒸发源、环状蒸发源等蒸发源蒸镀小分子材料时,由于蒸发源到基板平面各个位置的距离有差别,随着蒸镀时间的延长,基板上的不同位置,得到厚度不均匀的膜层。OLED显示器根据使用材料的不同.生产制造方法也大不相同。若使用低分子材料,则主要通过真空蒸镀方法形成有机显示薄膜.为了不使影像产生失焦问题.目前采用荫罩技术或掩膜板技术。该技术中基板几乎是紧靠着掩膜板,对掩膜板的材料及制作要求很高,难以制备高精度的OLED器件,而蒸发源和基板较远的距离造成了材料的浪费。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种高精度OLED器件的制备装置及制备方法,该装置增加了基板与掩膜板的距离,减小掩膜板对蒸镀的影响;减小蒸发源与基板的距离,使得蒸发材料更少地扩散在蒸发环境里,节约了蒸发材料;另外,还减小蒸发源间距,减小掩膜板孔隙间距,可以实现点对点的蒸发,增加单位面积内子像素的个数,实现了高精度OLED器件的制备。为实现上述目的,本专利技术的技术方案是:一种高精度OLED器件的制备装置,包括蒸发源阵列、基板、传动装置,蒸发源阵列由若干个蒸发源排列而成,蒸发源中的材料受热形成分子流垂直向上蒸发至基板,通过传动装置带动基板或蒸发源阵列的移动,完成基板的蒸镀,进而形成OLED器件。在本专利技术一实施例中,所述蒸发源阵列中每个蒸发源中只装一种子像素蒸发材料,三个蒸发源为一个基础单位,且三个蒸发源分别放置红绿蓝三种颜色的子像素蒸发材料,一个基础单位中放置红绿蓝三种颜色发子像素材料的蒸发源位置是可调的。在本专利技术一实施例中,所述蒸发源阵列中的各蒸发源相互之间单独进行控制。在本专利技术一实施例中,所述蒸发源的蒸发头直径为1μm~200μm,蒸发头间距为5μm~400μm。在本专利技术一实施例中,所述蒸发源内放置的子像素蒸发材料垂直向上蒸发;所述掩膜板置于基板前方,掩膜版与基板的距离为0~500μm,蒸发头到基板的距离为10μm~10cm。在本专利技术一实施例中,所述蒸发源阵列中每个蒸发源均只放置一种蒸发材料;所述蒸发材料包括阴极材料、阳极材料、电子注入层材料、电子传输层材料、空穴注入层材料、空穴传输层材料、发光层材料。在本专利技术一实施例中,所述蒸发源的蒸发头直径为1μm~200μm,蒸发头间距为5μm~400μm。在本专利技术一实施例中,所述蒸发源内放置的蒸发材料垂直向上蒸发;所述掩膜板置于基板前方,掩膜版与基板的距离为0~500μm,蒸发头到基板的距离为10μm~10cm。本专利技术还提供一种基于上述装置的高精度OLED器件制备方法,包括如下步骤,S1、处理基板:将基板清洗后,烘干或吹干;S2、蒸镀各功能层:将步骤S1处理后的基板置于真空腔内,通过加热使得蒸发源中的材料受热形成分子流垂直向上蒸发,并通过传动装置带动基板或蒸发源阵列的移动,依次完成各功能层的蒸镀,从而形成OLED器件。相较于现有技术,本专利技术具有以下有益效果:(1)减小蒸发头间距,减小掩膜板孔隙间距,可以实现点对点的蒸发,增加了单位面积内子像素的个数,可以制备高精度OLED器件。(2)减小蒸发源与基板的距离,垂直蒸发,使得蒸发材料更少地扩散在蒸发环境里,节约了蒸发材料;(3)增加基板与掩膜板的距离,降低掩膜板对蒸镀的影响,并且可对掩膜板进行加热处理;(4)可以实现精确控制成膜厚度、结构与成分。附图说明图1为本专利技术装置示意图。图2为本专利技术装置蒸发效果图。图3为本专利技术基板bank的3D观测图。图中:101为基板;102为掩膜板上的空隙;103为掩膜板;104为蒸发头;105为蒸发源;201为红色子像素点;202为绿色子像素点;203为蓝色子像素点。具体实施方式下面结合附图1-3,对本专利技术的技术方案进行具体说明。本专利技术的一种高精度OLED器件的制备装置:包括蒸发源阵列、基板、传动装置,蒸发源阵列由若干个蒸发源排列而成,蒸发源中的材料受热形成分子流垂直向上蒸发至基板,通过传动装置带动基板或蒸发源阵列的移动,完成基板的蒸镀,进而形成OLED器件。所述蒸发源阵列中每个蒸发源中只装一种子像素蒸发材料,三个蒸发源为一个基础单位,且三个蒸发源分别放置红绿蓝三种颜色的子像素蒸发材料,一个基础单位中放置红绿蓝三种颜色发子像素材料的蒸发源位置是可调的。所述蒸发源阵列中的各蒸发源相互之间单独进行控制。所述蒸发源的蒸发头直径为1μm~200μm,蒸发头间距为5μm~400μm。所述蒸发源内放置的子像素材料垂直向上蒸发;所述掩膜板置于基片前方,掩膜版与基板的距离为0~500μm,蒸发头到基板的距离为10μm~10cm。所述蒸发源阵列中每个蒸发源均只放置一种子像素蒸发材料;所述蒸发材料包括阴极材料、阳极材料、电子注入层材料、电子传输层材料、空穴注入层材料、空穴传输层材料、发光层材料。本专利技术还提供了一种基于上述装置的高精度OLED器件制备方法,包括如下步骤,S1、处理基板:将基板清洗后,烘干或吹干;S2、蒸镀各功能层:将步骤S1处理后的基板置于真空腔内,通过加热使得蒸发源中的材料受热形成分子流垂直向上蒸发,并通过传动装置带动基板或蒸发源阵列的移动,依次完成各功能层的蒸镀,从而形成OLED器件。以下为本专利技术的具体实现过程。本专利技术提供一种高精度OLED器件的制备装置,如图1-2所示:101为基板,102为掩膜板上的空隙,103为掩膜板,104为蒸发头,105为蒸发源;201为红色子像素点,202为绿色子像素点,203为蓝色子像素点。当采用的蒸镀装置只有三个蒸发源时,在三个蒸发源中分别放入所要蒸发的子像素蒸发材料,基板可以具有“槽”(bank)结构,蒸发源中的材料透过掩膜板上的空隙垂直地蒸镀到相对应的bank里,再采用移动基板或蒸发源的方式镀好整个基板。当采用的外延装置具有多个蒸发源时,在每个蒸发源中分别放入对应的子像素蒸发材料,甚至可以是蒸镀OLED器件不同功能层的蒸发材料。装置的关键是每个蒸发源的蒸发材料和蒸发速率都必须进行独立的控制和指示,或者对每排或每列的蒸发源可进行独立的控制和指示,或者对蒸发源有选择地进行独立的控制和指示。实施例1本实施例中有机电致发光器件(OL本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种高精度OLED器件的制备装置,其特征在于:包括蒸发源阵列、基板、传动装置,蒸发源阵列由若干个蒸发源排列而成,蒸发源中的材料受热形成分子流垂直向上蒸发至基板,通过传动装置带动基板或蒸发源阵列的移动,完成基板的蒸镀,进而形成OLED器件。
【技术特征摘要】
1.一种高精度OLED器件的制备装置,其特征在于:包括蒸发源阵列、基板、传动装置,蒸发源阵列由若干个蒸发源排列而成,蒸发源中的材料受热形成分子流垂直向上蒸发至基板,通过传动装置带动基板或蒸发源阵列的移动,完成基板的蒸镀,进而形成OLED器件。2.根据权利要求1所述的一种高精度OLED器件的制备装置,其特征在于:所述蒸发源阵列中每个蒸发源中只装一种子像素蒸发材料,三个蒸发源为一个基础单位,且三个蒸发源分别放置红绿蓝三种颜色的子像素蒸发材料,一个基础单位中放置红绿蓝三种颜色发子像素材料的蒸发源位置是可调的。3.根据权利要求1所述的一种高精度OLED器件的制备装置,其特征在于:所述蒸发源阵列中的各蒸发源相互之间单独进行控制。4.根据权利要求1至3任一所述的一种高精度OLED器件的制备装置,其特征在于:所述蒸发源的蒸发头直径为1μm~200μm,蒸发头间距为5μm~400μm。5.根据权利要求4所述的一种高精度OLED器件的制备装置,其特征在于:所述蒸发源内放置的子像素蒸发材料垂直向上蒸发;所述掩膜板置于基板前方,掩膜版与基板的距离为0~500μm,蒸发...
【专利技术属性】
技术研发人员:叶芸,郭太良,严群,张永爱,吕珊红,徐中炜,
申请(专利权)人:福州大学,
类型:发明
国别省市:福建;35
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