镀膜玻璃生产抽真空的方法技术

技术编号:1467278 阅读:334 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术属于镀膜玻璃生产技术。本发明专利技术提出的方法为:在真空泵将镀膜室真空度抽到0.12Pa时,通入氩气使镀膜室压力为0.26Pa并保持,将钛靶送电使之溅射,保持电流为30A,每次2-4分钟,每半小时一次,至镀膜室真空度达到要求(1.2×10↑[-3]Pa)。采用本发明专利技术方法,镀膜室真空度在短时通大气后抽真空到满足生产要求,可节约时间10小时左右,在更换镀膜室护板和辊子后抽真空到满足生产要求,可节约时间30小时左右。增加了相应的生产时间,减少了相应的抽真空能耗。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

Method for producing vacuum of coated glass

The invention belongs to the production technique of coated glass. The method is: in the vacuum pump vacuum coating will be pumped to the 0.12Pa, so that the coating by argon gas chamber pressure is 0.26Pa and keep, will make the transmission of the titanium sputtering target, maintain the current of 30A, every 2 - 4 minutes, every half hour, to reach the vacuum coating chamber ask (1.2 x 10 = 3, Pa). By using the method of the invention, the vacuum coating chamber in a short period of time through the atmosphere and vacuum to meet production requirements, can save the time of about 10 hours, after replacing the guard plate and roller coating chamber vacuum to meet production requirements, can save time 30 hours. The corresponding production time is increased, and the corresponding pumping energy consumption is reduced.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于镀膜玻璃生产
,主要提出一种。镀膜玻璃生产工艺要求镀膜室的真空度达到1.2×10-3Pa左右开始生产,才能保证生产的产品质量。现在是采用真空泵抽真空。采用这种方法在镀膜室短时通大气后抽到1.2×10-3Pa时需要16~20小时;在更换镀膜室护板和辊子后,因上面吸附的水汽、油汽较多,抽到要求的真空度(1.2×10-3Pa)时,需要36~48小时。本专利技术的目的即是提出一种,使用该方法可节约抽真空所需时间并减少相应的抽真空能耗。本专利技术提出的为在真空泵将镀膜室真空度抽到0.12Pa时,通入氩气使镀膜室压力为0.26Pa并保持,将钛靶送电使之溅射,保持电流为30A,每次2~4分钟, 每半小时一次,直至达到要求的真空度(1.2×10-3Pa)。本专利技术提出在真空泵抽真空时,通入氩气,并将钛靶送电使之溅射的抽真空方法。钛靶溅射既用荷能粒子(通常为气体正离子)轰击靶体,从而引起靶体表面原子从母体逸出现象,因钛原子具有很强的吸附性,真空室顶部的钛靶原子被溅射出来,向底部运动的过程中,吸附原本在真空室内做自由运动的气体分子一同向底部运动(真空泵抽气口在底部),有效地提高了抽气速度。钛原子溅射到镀膜室护板和辊子上后,因其具有一定的能量,迫使护板和辊子上吸附的水汽、油气逸出(否则为缓慢放气),缩短了抽真空时间。本专利技术使用的氩气纯度为99.99%。氩气的加入是为了保证真空室的压力满足钛靶的溅射要求。采用本专利技术方法,镀膜室真空度在短时通大气后抽真空到满足生产要求,可节约时间10小时左右,在更换镀膜室护板和辊子后抽真空到满足生产要求,可节约时间30小时左右。增加了相应的生产时间,减少了相应的抽真空能耗。实施例在真空泵将镀膜室真空度抽到0.12Pa时,(真空泵继续工作)通入氩气(99.99%)使镀膜室压力为0.26Pa并保持,将钛靶送电使之溅射,保持电流为30A,每次3分钟,每半小时一次。至真空度达到要求(1.2×10-3Pa)。该方法中涉及到的钛靶,是镀膜玻璃生产中已有的设备,钛靶在镀膜玻璃生产中用以将氮化钛溅射到玻璃表面,形成生产工艺要求的膜层,氩气通入和控制装置是为钛靶溅射所提供,也为原有镀膜玻璃生产中已有的设备。权利要求1.一种,其特征是使用真空泵将镀膜室抽真空,在抽到真空度为0.12Pa时,通入氩气使镀膜室压力为0.26Pa并保持,将钛靶送电使之溅射,保持电流为30A,每次2-4分钟,每半小时一次,至镀膜室真空度达到要求(1.2×10-3Pa)。全文摘要本专利技术属于镀膜玻璃生产技术。本专利技术提出的方法为:在真空泵将镀膜室真空度抽到0.12Pa时,通入氩气使镀膜室压力为0.26Pa并保持,将钛靶送电使之溅射,保持电流为30A,每次2-4分钟,每半小时一次,至镀膜室真空度达到要求(1.2×10文档编号C03C17/00GK1357500SQ00131238公开日2002年7月10日 申请日期2000年12月9日 优先权日2000年12月9日专利技术者郭明, 陈功, 杨真理 申请人:洛阳晶润镀膜玻璃有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜玻璃生产抽真空的方法,其特征是:使用真空泵将镀膜室抽真空,在抽到真空度为0.12Pa时,通入氩气使镀膜室压力为0.26Pa并保持,将钛靶送电使之溅射,保持电流为30A,每次2-4分钟,每半小时一次,至镀膜室真空度达到要求(1.2×10↑[-3]Pa)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郭明陈功杨真理
申请(专利权)人:洛阳晶润镀膜玻璃有限公司
类型:发明
国别省市:41[中国|河南]

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