粘合剂组合物及其制造方法、粘合剂层及其制造方法技术

技术编号:14649380 阅读:172 留言:0更新日期:2017-02-16 08:57
本发明专利技术提供一种粘合剂组合物,其含有:(A)氢化嵌段共聚物组合物100质量份;(B)分子量为2,000以下的化合物0.01质量份以上5质量份以下;以及(C)溶剂,该溶剂是在23℃为液体的脂肪族烃和/或芳香族烃,上述(A)氢化嵌段共聚物组合物包含以通式(A‑B)n表示的嵌段共聚物(a1)的氢化物(1)和以通式A‑B‑A或(A‑B)m‑X表示的嵌段共聚物(a2)的氢化物(2),上述(A)氢化嵌段共聚物组合物和上述(B)化合物均溶解在上述(C)溶剂中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及粘合剂组合物及其制造方法、以及粘合剂层及其制造方法。
技术介绍
氢化嵌段共聚物作为粘合剂组合物的成分使用。氢化嵌段共聚物,是含有包含源自芳香族乙烯系化合物的单体单元的聚合物嵌段和包含源自共轭二烯化合物的单体单元的聚合物嵌段B的共聚物的氢化物(例如,专利文献1)。该氢化嵌段共聚物,一般处理成粒料状、薄片状或块状等的颗粒状的形状。然而,如粘合剂所使用的较柔软的氢化嵌段共聚物的自粘性(自体粘连性)强,因此,采取通过将颗粒的表面用滑石、有机高分子颗粒等防粘连剂覆盖,从而防止颗粒彼此间的自粘(粘连)的措施。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平5-295056号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而,在使用含有如此的防粘连剂与氢化嵌段共聚物的混合物的粘合剂组合物形成粘合剂层的情况下,将该粘合剂组合物溶解在溶剂时,由于防粘连剂不溶解于该溶剂,故使用溶液或该粘合剂组合物而得到的粘合剂层有时会产生暗沉。这种情况,变得不适于要求透明性的用途。另外,就暗沉的产生而言,有当该粘合剂组合物或该粘合剂层暴露在高温高湿环境下时显著地产生的情况。例如,存在虽然将该粘合剂组合物或该粘合剂层在常温下溶解在溶剂中时,只产生轻微的暗沉,但在高温高湿环境下,变成该粘合剂组合物或该粘合剂层有不容忽视的暗沉的情况。用于解决课题的方法本专利技术人等经精心研究含有氢化嵌段共聚物的粘合剂组合物的组成,发现含有特定材料的粘合剂组合物以及由该粘合剂组合物所形成的粘合剂层具有高的透明性和抗湿热白化性,并且可通过后述的添加成分赋予优异的密合性、段差追随性。本专利技术提供能够得到具有高透明性并且具有优异的抗湿热白化性的粘合剂层的粘合剂组合物及其制造方法、以及粘合剂层及其制造方法。1.本专利技术的一方案的粘合剂组合物,含有:(A)氢化嵌段共聚物组合物100质量份;(B)分子量为2,000以下的化合物0.01质量份以上5质量份以下;以及(C)溶剂,该溶剂是在23℃为液体的脂肪族烃和/或芳香族烃,上述(A)氢化嵌段共聚物组合物包含以通式(A-B)n表示的嵌段共聚物(a1)的氢化物(1)和以通式A-B-A或(A-B)m-X表示的嵌段共聚物(a2)的氢化物(2)(上述式中,A各自相同或相异,表示包含源自芳香族乙烯系化合物的单体单元的聚合物嵌段A,B各自相同或相异,表示包含源自共轭二烯化合物的单体单元的聚合物嵌段B,n表示1以上3以下的整数,m表示1以上的整数,X表示偶联剂残基),上述(A)氢化嵌段共聚物组合物和上述(B)化合物均溶解在上述(C)溶剂中。2.上述1所述的粘合剂组合物,可以还含有(D)第1相容剂5质量份以上80质量份以下,上述(D)第1相容剂具有与上述聚合物嵌段A相容的性质,软化点为80℃以上,并且溶解于上述(C)溶剂。3.上述1或2所述的粘合剂组合物,可以还含有(E)第2相容剂10质量份以上150质量份以下,上述(E)第2相容剂具有与上述聚合物嵌段B相容的性质,在23℃为液体,并且溶解在上述(C)溶剂中。4.上述1~3中任一项所述的粘合剂组合物,其中,构成上述(A)氢化嵌段共聚物组合物的上述嵌段共聚物(a1)的氢化物(1)与上述嵌段共聚物(a2)的氢化物(2)的质量比可以是90:10~10:90。5.上述1~4中任一项所述的粘合剂组合物,其中,上述(B)化合物可以是选自紫外线吸收剂、光稳定剂、抗氧化剂以及金属减活剂中的至少1种。6.上述1~5中任一项所述的粘合剂组合物,其中,上述(D)第1相容剂可以是芳香族系增粘树脂。7.上述6所述的粘合剂组合物,其中,上述芳香族系增粘树脂可以是选自芳香族石油树脂、苯乙烯系聚合物、α-甲基苯乙烯系聚合物、苯乙烯-(α-甲基苯乙烯)系共聚物、苯乙烯-脂肪族烃系共聚物、苯乙烯-(α-甲基苯乙烯)-脂肪族烃系共聚物以及苯乙烯-芳香族烃系共聚物中的至少1种。8.上述1~7中任一项所述的粘合剂组合物,其中,上述(E)第2相容剂可以是选自聚丁烯系化合物、聚异丁烯系化合物以及聚异戊二烯系化合物中的至少1种。9.上述1~8中任一项所述的粘合剂组合物,其中,相对于上述(A)氢化嵌段共聚物组合物100质量份,上述(D)第1相容剂和上述(E)第2相容剂的合计含量可以是20质量份以上200质量份以下。10.本专利技术的一方案的粘合剂组合物的制造方法,其为上述1~9中任一项所述的粘合剂组合物的制造方法,上述制造方法包括将氢化嵌段共聚物组合物粒料溶解于上述(C)溶剂中的工序,上述氢化嵌段共聚物组合物粒料中,相对于上述(A)氢化嵌段共聚物组合物100质量份,含有上述(B)化合物0.01质量份以上5质量份以下,并且上述(B)化合物存在于上述粒料的内部和表面。11.本专利技术的一方案的粘合剂层的制造方法,包括:将上述1~9中任一项所述的粘合剂组合物涂布在基材上而得到膜的工序;以及通过使上述膜干燥,除去上述(C)溶剂,得到粘合剂层的工序。12.本专利技术的一方案的粘合剂层,含有:(A)氢化嵌段共聚物组合物100质量份;以及(B)分子量为2,000以下的化合物0.01质量份以上5质量份以下,上述(A)氢化嵌段共聚物组合物包含以通式(A-B)n表示的嵌段共聚物(a1)的氢化物(1)和以通式A-B-A或(A-B)m-X表示的嵌段共聚物(a2)的氢化物(2)(上述式中,A各自相同或相异,表示包含源自芳香族乙烯系化合物的单体单元的聚合物嵌段A,B各自相同或相异,表示包含源自共轭二烯化合物的单体单元的聚合物嵌段B,n表示1以上3以下的整数,m表示1以上的整数,X表示偶联剂残基),上述(A)氢化嵌段共聚物组合物和上述(B)化合物均具有溶解于(C)作为在23℃为液体的脂肪族烃和/或芳香族烃的溶剂中的性质。13.上述12所述的粘合剂层,其可以通过从上述1~9中任一项所述的粘合剂组合物除去上述(C)溶剂而得到。专利技术的效果上述1~9中任一项所述的粘合剂组合物含有:上述(A)氢化嵌段共聚物组合物100质量份;上述(B)分子量为2,000以下的化合物0.01质量份以上5质量份以下;以及上述(C)溶剂,该溶剂是在23℃为液体的脂肪族烃和/或芳香族烃的溶剂,并且,上述(A)氢化嵌段共聚物组合物和上述(B)化合物均溶解在上述(C)溶剂中,由此具有优异的透明性。因此,在使用该粘合剂组合物成膜之后,除去上述(C)溶剂而得到的粘合剂层中,上述(B)化合物的溶解性优异,并且该(B)化合物不易析出。由此,该粘合剂层的透明性高,并且抗湿热白化性优异。另外,通过后述的添加成分,能够对该粘合剂层赋予优异的密合性和段差追随性。另外,依据上述10所述的粘合剂组合物的制造方法,通过包括将上述(A)氢化嵌段共聚物组合物粒料溶解于上述(C)溶剂中的工序,能够将上述(A)氢化嵌段共聚物组合物和上述(B)化合物溶解于上述(C)溶剂中,因此,能够得到透明性优异的粘合剂组合物,并且在后续的粘合剂组合物的制造工序中一般进行的过滤工序中、进而在更加要求透明性的光学用途的精密过滤工序中,也不会在过滤装置产生网眼堵塞,从而能够顺利地进行过滤操作。依据上述11所述的粘合剂层的制造方法,包括:将上述1~9中任一项所述的粘合剂组合物涂布在基材上而得到膜的工序;以及通过使上述膜干燥,除去上述(C)溶剂,得到粘合剂层的工序,由此本文档来自技高网...
<a href="http://www.xjishu.com/zhuanli/28/201580028882.html" title="粘合剂组合物及其制造方法、粘合剂层及其制造方法原文来自X技术">粘合剂组合物及其制造方法、粘合剂层及其制造方法</a>

【技术保护点】
一种粘合剂组合物,其特征在于,含有:(A)氢化嵌段共聚物组合物100质量份;(B)分子量为2,000以下的化合物0.01质量份以上5质量份以下;以及(C)溶剂,该溶剂是在23℃为液体的脂肪族烃和/或芳香族烃,所述(A)氢化嵌段共聚物组合物包含以通式(A‑B)n表示的嵌段共聚物(a1)的氢化物(1)和以通式A‑B‑A或(A‑B)m‑X表示的嵌段共聚物(a2)的氢化物(2),所述式中,A各自相同或相异,表示包含源自芳香族乙烯系化合物的单体单元的聚合物嵌段A,B各自相同或相异,表示包含源自共轭二烯化合物的单体单元的聚合物嵌段B,n表示1以上3以下的整数,m表示1以上的整数,X表示偶联剂残基,所述(A)氢化嵌段共聚物组合物和所述(B)化合物均溶解在所述(C)溶剂中。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.05.30 JP 2014-1126181.一种粘合剂组合物,其特征在于,含有:(A)氢化嵌段共聚物组合物100质量份;(B)分子量为2,000以下的化合物0.01质量份以上5质量份以下;以及(C)溶剂,该溶剂是在23℃为液体的脂肪族烃和/或芳香族烃,所述(A)氢化嵌段共聚物组合物包含以通式(A-B)n表示的嵌段共聚物(a1)的氢化物(1)和以通式A-B-A或(A-B)m-X表示的嵌段共聚物(a2)的氢化物(2),所述式中,A各自相同或相异,表示包含源自芳香族乙烯系化合物的单体单元的聚合物嵌段A,B各自相同或相异,表示包含源自共轭二烯化合物的单体单元的聚合物嵌段B,n表示1以上3以下的整数,m表示1以上的整数,X表示偶联剂残基,所述(A)氢化嵌段共聚物组合物和所述(B)化合物均溶解在所述(C)溶剂中。2.如权利要求1所述的粘合剂组合物,其特征在于:还含有(D)第1相容剂5质量份以上80质量份以下,所述(D)第1相容剂具有与所述聚合物嵌段A相容的性质,软化点为80℃以上,并且溶解在所述(C)溶剂中。3.如权利要求1或2所述的粘合剂组合物,其特征在于:还含有(E)第2相容剂10质量份以上150质量份以下,所述(E)第2相容剂具有与所述聚合物嵌段B相容的性质,在23℃为液体,并且溶解在所述(C)溶剂中。4.如权利要求1~3中任一项所述的粘合剂组合物,其特征在于:构成所述(A)氢化嵌段共聚物组合物的所述嵌段共聚物(a1)的氢化物(1)与所述嵌段共聚物(a2)的氢化物(2)的质量比为90:10~10:90。5.如权利要求1~4中任一项所述的粘合剂组合物,其特征在于:所述(B)化合物为选自紫外线吸收剂、光稳定剂、抗氧化剂以及金属减活剂中的至少1种。6.如权利要求1~5中任一项所述的粘合剂组合物,其特征在于:所述(D)第1相容剂为芳香族系增粘树脂。7.如权利要求6所述的粘合剂组合物,其特征在于:所述芳香族系增粘树脂为选自芳香族石油树脂、苯乙烯系聚合物、α-甲基苯乙烯系聚合物、苯乙烯-(α-甲基苯乙烯)系共聚物...

【专利技术属性】
技术研发人员:金塚洋平木口贵美子清水政一
申请(专利权)人:综研化学株式会社株式会社可乐丽
类型:发明
国别省市:日本;JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1