本发明专利技术是有关一种玻璃基板均匀薄化装置，主要包含一蚀刻循环槽、一基板固定机构以及一柏努利振荡机构。该蚀刻循环槽，是用以容纳与更新玻璃蚀刻液。该基板固定机构，是用以固定复数个玻璃基板于该蚀刻循环槽内。该柏努利振荡机构，是连接该基板固定机构，以使在该蚀刻循环槽内的玻璃基板作各式振荡动作。本发明专利技术可以达到均匀蚀刻密集排列的玻璃基板，并减少氢氟酸气化量。
Uniform thinning device for glass substrate
The invention relates to a glass substrate uniform thinning device mainly comprises a circular groove, a fixed substrate etching mechanism and a Bernoulli oscillation mechanism. The etching cycle tank is used to accommodate and update the glass etching solution. The base plate fixing mechanism is used for fixing a plurality of glass substrates in the etching circulation tank. The Bernoulli oscillation mechanism, is connected with the substrate fixing mechanism, so that the glass substrate in the etching groove for all kinds of cyclic oscillation action. The invention can achieve uniform etching of densely arranged glass substrates and reduce the amount of hydrofluoric acid gasification.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种使玻璃基板均匀薄化的蚀刻技术，特别是涉及一种可 在槽内密集排列玻璃基板并达到更均匀的表面蚀刻功效，还可减少氢氟酸(HF)的气化量，避免氢氟酸的气体(即氟化氢)向外发散、蒸发与气化，导致 腐蚀机器金属构件问题，并避免其毒性对人体危害的高密度浸蚀的玻璃基 板均匀薄化装置。
技术介绍
以往的平面显示器会使用到玻璃基板，在制程中均匀薄化玻璃基板的 技术是相当重要的，已知可行的方法皆是以湿式蚀刻达成。如中国台湾专利公告第543113号"TFT LCD用玻璃基板的自动蚀刻装 置及蚀刻方法"所揭示的技术，其是在蚀刻槽内部设置有一多孔性起泡装 置，并在起泡装置的上侧设有一击板装置，通入许多氮气(N》气泡以搅动氢 氟酸(HF)蚀刻液，这种方式受到流体力学物理现象影响，无法产生理想流 场，且会有HF气化量增加的问题。因此，在蚀刻时为了避免具有毒性的HF 气体向外歉良而安装了气体帷幕(Air curtain)装置，虽然有气体帷幕(Air curtain)装置隔绝外面环境，但是仍然无法解决机器金属构件被HF腐蚀问 题，以及造成严重人体危害、工安与环保问题。此外，该氮气气体起泡装置(N2 buble)及导流装置仅考虑流畅特性，尚 未考虑到玻璃基板被HF蚀刻后，是否有足够及完全的流体剪力及惯性力，可 移除玻璃基板表面残留及析出的氟硅酸根颗粒，此颗粒残留在玻璃基板表 面，不只会影响蚀刻速度，也会影响蚀刻的均匀性。由此可见，上述现有的玻璃基板均匀薄化装置在结构与使用上，显然 仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在问题,相 关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被 发展完成，而一般产品又没有适切的结构能够解决上述问题，此显然是相 关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型结构的玻璃基板均匀薄 化装置，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。有鉴于上述现有的玻璃基板均匀薄化装置存在的缺陷，本专利技术人基于 从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及其专业知识，并配合学理的 运用，积极加以研究创新，以期创设 一 种新型结构的玻璃基板均匀薄化装 置，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本专利技术.
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于，克服现有的玻璃基板均匀薄化装置存在的缺 陷，而提供一种新型结构的玻璃基板均匀薄化装置，所要解决的技术问题是 使其能移除玻璃基板表面残留与析出的氟硅酸根颗粒，可在槽内密集排列玻璃基板并且达到更均匀的表面蚀刻的功效。此外，可以减少氢氟酸(HF)的 气化量，避免氢氟酸的气体(即氟化氢)向外发散、蒸发与气化，导致腐蚀 机器金属构件的问题并避免其毒性对人体的危害，从而更加适于实用。本专利技术另一目的在于，提供一种玻璃基板均匀薄化装置，所要解决的 技术问题是使其能够调整到最佳的柏努利振荡动作，以均匀蚀刻每一片玻 璃基板的表面，从而更加适于实用。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。本发 明揭示一种玻璃基板均匀薄化装置，该玻璃基板均匀薄化装置包含一蚀刻 循环槽、一基板固定机构以及一柏努利振荡机构(Bernoulli' s oscillatory mechani sm)。该蚀刻循环槽是用以容纳与更新玻璃蚀刻液。该基板固定机 构是用以固定复数个玻璃基板于该蚀刻循环槽内。该柏努利振荡机构是连 接该基板固定机构，以使在该蚀刻循环槽内的玻璃基板作振荡动作。本专利技术的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。在前述的玻璃14l均匀薄化装置中，前述的振荡动作为上下、左右、圆 周或上述任意组合的动作。在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，该柏努利振荡机构是包含有一振 荡方向改变机构与 一振荡驱动马达。在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，前述的振荡动作是为间歇性。在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，该基板固定机构是由一基板储槽 与 一储槽连结机构所组成。在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，该些玻璃基板是平行储放至该基 板储槽内，前述的振荡动作是平行于该些玻璃基板。在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，该蚀刻循环槽是设有一向上流的 循环4凡构。在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，该蚀刻循环槽是连接有一循环管 路进流与至少一循环管路回流，该循环管路进流是设于该蚀刻循环槽的底 部中央。在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，该蚀刻循环槽是设有一层流分配 板(laminar flow distribution plate)。本专利技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案，本专利技术玻璃基板均匀薄化装置至少具有下列《尤点1、 本专利技术能够移除玻璃基板表面残留与析出的氟硅酸根颗粒，可在槽 内密集排列玻璃基板，并且达到更均匀的表面蚀刻的功效。此外，可以减少氢氟酸(HF)的气化量，避免氢氟酸的气体(即氟化氢)向外发散、蒸发与气 化，导致腐蚀机器金属构件的问题，并避免其毒性对人体的危害，非常适于 实用。2、 再者，本专利技术能够调整到最佳的柏努利振荡动作，可以均匀蚀刻每 一片玻璃基板的表面，从而更加适于实用。综上所述，本专利技术新颖的玻璃基板均匀薄化装置，具有上述诸多优点 及实用价值，其不论在产品结构或功能上皆有较大改进，在技术上有显著 的进步，并产生了好用及实用的效果，且较现有的玻璃基板均匀薄化装置 具有增进的突出功效，从而更加适于实用，并具有产业的广泛利用价值，诚 为一新颖、进步、实用的新设计。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的 技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本专利技术的上述和 其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举4交佳实施例，并配合附 图，详细i兌明如下。附图说明图1是依据本专利技术的一具体实施例， 一种玻璃基板均匀薄化装置的侧视 示意图。图2是依据本专利技术的一具体实施例，该玻璃基板均匀薄化装置的底视示图3是依据本专利技术的一具体实施例，该玻璃基板均匀薄化装置的基板固 定机构的底视示意图。图4是依据本专利技术的一具体实施例，该玻璃基板均匀薄化装置的基板固 定机构的前视示意图。图5是绘示使用本专利技术的装置使玻璃基板紧密排列并柏努利振荡的俯 视示意图。图6A至图6D是绘示使用本专利技术的装置使玻璃基板可在不同方向柏努利振荡的前^f见示意图。10:玻璃基板 IOO:玻璃基板均匀薄化装置110:蚀刻循环槽 111:循环管路进流112:循环管路回流 120:基板固定机构121:基板储槽 122:储槽连结机构130:柏努利振荡机构 131:振荡方向改变机构U2:振荡驱动马达 具体实施例方式为更进一步阐述本专利技术为达成预定专利技术目的所采取的技术手段及功 效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本专利技术提出的玻璃基板均匀薄化装 置其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。在本专利技术的一具体实施例中，图l是为一种玻璃基板均匀薄化装置100 的側视示意图。图2是为该玻璃基板均匀薄化装置100的底视示意图。请参阅图1及图2所示，该玻璃基板均匀薄化装置100,主要包含一蚀 刻循环槽110、 一基板固定机构120以及一柏努利振荡机构130。该蚀刻循环槽110，是用以容纳与更新玻璃蚀刻液。如图l所示，在本 实施例中，其是以氢氟酸(HF本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种玻璃基板均匀薄化装置，其特征在于其包含：一蚀刻循环槽，用以容纳与更新玻璃蚀刻液；一基板固定机构，用以固定复数个玻璃基板于该蚀刻循环槽内；以及一柏努利振荡机构，其是连接该基板固定机构，以使在该蚀刻循环槽内的玻璃基板作振荡动作。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：谢育和，
申请(专利权)人：三福化工股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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