一种镀膜玻璃，其包括玻璃基板及结合于该玻璃基板至少一表面的膜层，该膜层含有Al2O3、Cr2O3和ZrO2。所述镀膜玻璃通过在玻璃基板的表面镀覆含有Al2O3、Cr2O3和ZrO2的膜层，使镀膜玻璃具有较好的抗刮性能。另，本发明专利技术还涉及一种上述镀膜玻璃的制造方法，以及一种应用上述镀膜玻璃的电子装置。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种镀膜玻璃、该镀膜玻璃的制造方法及应用该镀膜玻璃的电子装置。
技术介绍
玻璃因具有较好的透光性而被广泛应用。然，因玻璃的表面抗刮性较差，不能满足产品所需要的抗刮性能，而影响了其使用效果和适用范围。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种抗刮性能较好的镀膜玻璃。另，还有必要提供一种上述镀膜玻璃的制造方法。另，还有必要提供一种应用上述镀膜玻璃的电子装置。一种镀膜玻璃，其包括玻璃基板及结合于该玻璃基板至少一表面的膜层，该膜层含有Al2O3、Cr2O3和ZrO2。一种镀膜玻璃的制造方法，其包括如下步骤：提供玻璃基板；采用磁控溅射法，以铝靶、铬靶和锆靶为靶材，以氧气为反应气体，在玻璃基板的表面溅镀膜层，该膜层中含有Al2O3、Cr2O3和ZrO2。一种应用所述镀膜玻璃的电子装置，该电子装置还包括主体，所述镀膜玻璃装设于该主体上。所述镀膜玻璃通过在玻璃基板的表面镀覆含有Al2O3、Cr2O3和ZrO2的膜层，使镀膜玻璃具有较好的抗刮性能。附图说明图1为本专利技术较佳实施方式的镀膜玻璃的示意图。图2为本专利技术所使用的真空镀膜机的俯视图。图3为应用图1所述镀膜玻璃的电子装置。主要元件符号说明如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本专利技术。具体实施方式请参阅图1，本专利技术一较佳实施方式的镀膜玻璃100，其包括玻璃基板10和结合于该玻璃基板10至少一表面的膜层20。该膜层20含有氧化铝（Al2O3）、氧化铬（Cr2O3）和氧化锆（ZrO2）。所述膜层20中的Al2O3可增加膜层20的硬度与抗刮性。所述膜层20中的Cr2O3可增加膜层20与玻璃基板10的附着性，并强化膜层20的韧性。所述膜层20中的ZrO2可强化膜层20的韧性。所述膜层20的厚度范围为1~4μm，该膜层20中所含Al2O3的质量分数为94%~96%，含Cr2O3的质量分数为1.7%~3.8%，含ZrO2的质量分数为0.8%~2.3%。一种制造上述镀膜玻璃100的方法，其包括如下步骤：提供玻璃基板10。请进一步参阅图2，提供一真空镀膜机200，其包括一镀膜室21及连接于镀膜室21的一真空泵30，该真空泵30用以对镀膜室21抽真空。该镀膜室21内设有转架(未图示)、铝靶22、铬靶23和锆靶24。对玻璃基板10进行表面预处理，该表面预处理可包括常规的对玻璃基板10进行清洗等步骤，将预处理后的玻璃基板10烘干后固定于镀膜室21内的转架上。转架可带动玻璃基板10沿圆形的轨迹25公转，且玻璃基板10在沿轨迹25公转时亦自转。抽真空：开启真空泵30，将镀膜室21抽真空至8×10-5~3×10-4Torr。洗靶：通入工作气体氩气，氩气的流量为100~300标况毫升每分钟（sccm），在恒定功率5~10KW下，洗靶3~5分钟，以将铝靶22、铬靶23和锆靶24表面的氧化物及油渍等杂质清除。继续对镀膜室21抽真空并加热，用真空泵300抽真空至8×10-5~3×10-4Torr，将镀膜室21的温度加热至150~250℃。高电压氩离子辉光清洗：控制镀膜室21温度为150~200℃，偏压设定为-200~-100V，通入工作气体氩气，对玻璃基板10表面进行清洗3~5分钟，通过氩离子轰击，可进一步对基板10的表面进行清洗，并增加基板10表面的附着力。采用磁控溅射法，以铝靶22、铬靶23和锆靶24为靶材，在清洗后的玻璃基板10的表面溅镀膜层20。铝靶22、铬靶23和锆靶24均采用射频电源，溅镀时，同时开启铝靶22、铬靶23和锆靶24，并设置铝靶22的功率为5~15KW，铬靶23的功率为0.5~5KW，锆靶24的功率为0.5~5KW，通入反应气体氧气，氧气的流量为100~400sccm，控制镀膜室21内的温度为150~250℃，施加于玻璃基板10的偏压为-300~0V（偏压为0V意为未施加偏压），镀膜时间为120~960分钟。下面通过实施例来对本专利技术进行具体说明。实施例1提供玻璃基板10，该玻璃基板10为透光玻璃，对该玻璃基板10进行表面预处理，将预处理后的玻璃基板10烘干后固定于镀膜室21内的转架上。抽真空：开启真空泵30，将镀膜室21抽真空至1×10-4Torr。洗靶：通入工作气体氩气，氩气的流量为200sccm，在恒定功率8KW下，洗靶4分钟。对镀膜室21抽真空并加热，镀膜室21的温度设定为200℃，用真空泵300抽真空至1×10-4Torr。高电压氩离子辉光清洗：镀膜室21温度为200℃，偏压设定为-150V，通入工作气体氩气，对玻璃基板10表面进行清洗，清洗4分钟。以铝靶22、铬靶23和锆靶24为靶材，采用磁控溅射法在清洗后的玻璃基板10表面溅镀膜层20。铝靶22、铬靶23和锆靶24均采用射频电源，溅镀时，同时开启铝靶22、铬靶23和锆靶24，并设置铝靶22的功率为15KW，铬靶23的功率为3KW，锆靶24的功率为2KW，通入反应气体氧气，氧气的流量为300sccm，镀膜室21的室内温度为250℃，此实施例不施加偏压于玻璃基板10上，镀膜时间为480分钟。所得膜层20的厚度为2.01μm，所含Al2O3的质量分数为94.33%，含Cr2O3的质量分数为3.53%，含ZrO2的质量分数为2.14%。实施例2提供玻璃基板10，该玻璃基板10为透光玻璃，对该玻璃基板10进行表面预处理，将预处理后的玻璃基板10烘干后固定于镀膜室21内的转架上。抽真空：开启真空泵30，将镀膜室21抽真空至3×10-4Torr。洗靶：通入工作气体氩气，氩气的流量为100sccm，在恒定功率5KW下，洗靶3分钟。对镀膜室21抽真空并加热，镀膜室21的温度设定为150℃，用真空泵300抽真空至3×10-4Torr。高电压氩离子辉光清洗：镀膜室21温度为150℃，偏压设定为-100V，通入工作气体氩气，对玻璃基板10表面进行清洗，清洗3分钟。以铝靶22、铬靶23和锆靶24为靶材，采用磁控溅射法在清洗后的玻璃基板10表面溅镀膜层20。铝靶22、铬靶23和锆靶24均采用射频电源，溅镀时，同时开启铝靶22、铬靶23和锆靶24，并设置铝靶22的功率为10KW，铬靶23的功率为2.25KW，锆靶24的功率为0.75KW，通入反应气体氧气，氧气的流量为200sccm，镀膜室21的室内温度为150℃，此实施例不施加偏压于玻璃基板10上，镀膜时间为240分钟。所得膜层20的厚度为1.2μm，所含Al2O3的质量分数为94%，含Cr2O3的质量分数为3.8%，含ZrO2的质量分数为2.2%。实施例3提供玻璃基板10，该玻璃基板10为透光玻璃，对该玻璃基板10进行表面预处理，将预处理后的玻璃基板10烘干后固定于镀膜室21内的转架上。抽真空：开启真空泵30，将镀膜室21抽真空至8×10-5Torr。洗靶：通入工作气体氩气本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种镀膜玻璃，其包括玻璃基板及结合于该玻璃基板至少一表面的膜层，其特征在于：该膜层中含有Al2O3、Cr2O3和ZrO2。
【技术特征摘要】
1.一种镀膜玻璃，其包括玻璃基板及结合于该玻璃基板至少一表面的膜层，其特征在于：该膜层中含有Al2O3、Cr2O3和ZrO2。
2.如权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于：所述膜层中Al2O3的质量分数为94%~96%，Cr2O3的质量分数为1.7%~3.8%，ZrO2的质量分数为0.8%~2.3%。
3.如权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于：所述膜层的厚度范围为1~4μm。
4.一种镀膜玻璃的制造方法，其包括如下步骤：
提供玻璃基板；
采用磁控溅射法，以铝靶、铬靶和锆靶为靶材，以氧气为反应气体，在玻璃基板的表面溅镀膜层，该膜层中含有Al2O3、Cr2O3和ZrO2。
5.如权利要求4所述的镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：溅镀膜层的工艺参数为：同时开启铝靶、铬靶和锆靶，铝靶的功率为5~15KW，铬靶的功...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈杰良，魏朝沧，简士哲，廖名扬，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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