真空吸附装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种真空吸附装置，包括真空吸附平台、密封机构和控制系统，所述真空吸附平台用于承载一基板并设置有吸附孔和与所述吸附孔连通的空腔，所述吸附孔和空腔形成一真空通道，使用时，所述控制系统监测到所述真空吸附平台放置所述基板后有裸露的吸附孔时，可控制所述密封机构密封所述裸露的吸附孔。本实用新型专利技术的真空吸附装置，通过控制系统监测到真空吸附平台放置基板后有裸露的吸附孔时，控制密封机构将裸露的吸附孔进行封堵，由此确保了真空吸附平台内负压正常，从而避免了因基板破损致使吸附孔裸露而导致真空吸附平台内负压异常，进而出现真空吸附装置死机问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于工艺设备
，特别涉及一种激光切割时用于固定玻璃基板的真空吸附装置。
技术介绍
液晶显示器具有高画质、体积小、重量轻、低电压驱动、低消耗功率及应用范围广等优点，因而，广泛地应用于可携式电视、行动电话、笔记本电脑、台式显示器以及投影电视等消费性电子或计算机产品中，成为显示器的主流。玻璃面板(Panel)为液晶显示器中相当重要的零部件，由于机械式切割的断面质量较差，现今多使用激光裂断的切割方式，以将玻璃基板(Sheet)切割成小块的玻璃面板。如图1～2所示，现有的激光切割真空吸附装置10包括具有若干吸附孔11的真空吸附平台12，每个吸附孔11均与真空吸附平台12中的空腔13连通，而所述空腔13还连接一真空发生系统(未图示)。如图3所示，激光切割时，一玻璃基板20真空吸附于真空吸附平台12上，进而通过激光将玻璃基板20切割成若干玻璃面板。然而，专利技术人发现，玻璃基板20来料时经常存在边缘破损情况，导致其无法覆盖所有的吸附孔11，使得激光切割装置10时常出现异常而死机。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种真空吸附装置，以解决现有技术的激光切割真空吸附装置因玻璃基板边缘破损而导致其死机的问题。为解决上述技术问题，本技术提供了一种真空吸附装置，包括一用于承载基板的真空吸附平台，所述真空吸附平台设置有吸附孔和与所述吸附孔连通的空腔，所述吸附孔和空腔形成一真空通道，所述真空吸附装置还包括用以侦测所述真空吸附平台上裸露吸附孔的控制系统和用以密封所述裸露的吸附孔的密封机构。可选的，在所述的真空吸附装置中，所述密封机构包括密封件和驱动机构，所述驱动机构在所述控制系统的控制下带动所述密封件运动，以使所述密封件封堵所述裸露的吸附孔。可选的，在所述的真空吸附装置中，所述控制系统包括控制模块和监测器，所述监测器监测到放置所述基板后有裸露的吸附孔时，所述控制模块控制所述驱动机构运动，以带动所述密封件封堵所述裸露的吸附孔。可选的，在所述的真空吸附装置中，所述监测器为一压力传感器或者摄像头。可选的，在所述的真空吸附装置中，所述压力传感器设置于所述真空通道中或设置于所述密封件上。可选的，在所述的真空吸附装置中，所述驱动机构为一液压驱动装置或者气压驱动装置。可选的，在所述的真空吸附装置中，所述气压驱动装置包括气缸、供气装置和阀门，所述气缸设置于所述空腔中并与所述供气装置连接，所述阀门连接所述供气装置和控制系统，并且所述气缸包括气缸本体和活塞，所述活塞设置于所述气缸本体中并通过一活塞杆连接所述密封件。可选的，在所述的真空吸附装置中，所述压力传感器设置于所述密封件上。可选的，在所述的真空吸附装置中，所述驱动机构包括气囊、供气装置和阀门，所述密封件设置于所述气囊上，所述气囊设置于所述空腔中并与所述供气装置连接，所述阀门连接所述供气装置和控制系统。可选的，在所述的真空吸附装置中，所述密封件为一软塞。可选的，在所述的真空吸附装置中，所述真空吸附装置还包括一真空发生系统，所述真空发生系统与所述空腔连接，所述真空吸附装置为一激光切割真空吸附装置或者化学机械研磨真空吸附装置。相比于现有技术，本技术的真空吸附装置，其工作时，通过控制系统监测到真空吸附平台放置基板后有裸露的吸附孔时，控制密封机构将裸露的吸附孔进行封堵，由此确保了真空吸附平台内负压正常，从而避免了因基板破损致使吸附孔裸露而导致真空吸附平台内负压异常，进而出现真空吸附装置死机问题；特别的，对于激光切割玻璃基板而言，采用本技术的真空吸附装置固定所述玻璃基板，即使玻璃基板存在边缘破损问题，激光切割设备仍然能正常切割玻璃基板，使得边缘破损的玻璃基板可以得到利用，较大降低了材料成本。附图说明图1是现有技术中真空吸附装置的俯视示意图；图2是图1所示的真空吸附装置的纵向剖视图；图3是图1所示的真空吸附装置于吸附玻璃基板的示意图；图4是根据本技术具有一驱动机构的真空吸附装置的示意图；图5是根据本技术具有另一驱动机构的真空吸附装置的示意图。本技术实施例的附图标记说明如下：100-真空吸附装置；111-空腔；112-吸附孔；113-密封件；114-监测器；115-控制模块；116-水平部分；117-竖直部分；118-气缸；119-阀门；120-供气装置；121-活塞；122-活塞杆；123-管道；124-气囊；125-杆件。具体实施方式以下结合附图4～5对本技术提出的真空吸附装置作进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。图4示出的是本技术具有一驱动机构的真空吸附装置100的示意图。如图4所示，一种真空吸附装置100，包括真空吸附平台、密封机构和控制系统，所述真空吸附平台用于承载一基板，同时其上设置有空腔111和与空腔111连通的吸附孔112，所述空腔111和吸附孔112形成一真空通道，工作时，所述控制系统监测到所述真空吸附平台放置所述基板后有裸露的吸附孔112时，可以控制所述密封机构密封裸露的吸附孔112。此处，所述裸露的吸附孔112指的是未被所述基板覆盖的吸附孔112，例如所述基板存在破损致使其未能完全覆盖吸附孔112。具体的，所述密封机构包括密封件113和驱动机构，所述驱动机构在所述控制系统的控制下带动密封件113运动，以使密封件113封堵裸露的吸附孔112。所述控制系统包括监测器114和控制模块115，所述监测器114监测到放置所述基板后有裸露的吸附孔112时，所述控制模块115控制所述驱动机构运动，以带动密封件113封堵裸露的吸附孔112。可选的，所述监测器114为一压力传感器，其可设置于所述真空通道中，用于获取所述真空通道中的气压信息，并将获取的气压信息传输至控制模块115，以监测到所述真空吸附平台放置所述基板后有裸露的吸附孔112，此时，所述控制模块115根据所述气压信息控制所述驱动机构带动密封件113运动，以使密封件113封堵住裸露的吸附孔112。例如所述压力传感器设置于密封件113上，并且所述密封件113运动后，所述压力传感器可容置于裸露的吸附孔112中。所述监测器114例如为一真空压力传感器。其他实施例中，所述监测器114可为一摄像头等具有成像功能的装置，其可对所述真空吸附平台放置所述基板后，对所述真空吸附本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空吸附装置，包括一用于承载基板的真空吸附平台，所述真空吸附平台设置有吸附孔和与所述吸附孔连通的空腔，所述吸附孔和空腔形成一真空通道，其特征在于，所述真空吸附装置还包括用以侦测所述真空吸附平台上裸露吸附孔的控制系统和用以密封所述裸露的吸附孔的密封机构。

【技术特征摘要】
1.一种真空吸附装置，包括一用于承载基板的真空吸附平台，所述真空吸
附平台设置有吸附孔和与所述吸附孔连通的空腔，所述吸附孔和空腔形成一真
空通道，其特征在于，所述真空吸附装置还包括用以侦测所述真空吸附平台上
裸露吸附孔的控制系统和用以密封所述裸露的吸附孔的密封机构。
2.根据权利要求1所述的真空吸附装置，其特征在于，所述密封机构包括
密封件和驱动机构，所述驱动机构在所述控制系统的控制下带动所述密封件运
动，以使所述密封件封堵所述裸露的吸附孔。
3.根据权利要求2所述的真空吸附装置，其特征在于，所述控制系统包括
控制模块和监测器，所述监测器监测到所述真空吸附平台放置所述基板后有裸
露的吸附孔时，所述控制模块控制所述驱动机构运动，以带动所述密封件封堵
所述裸露的吸附孔。
4.根据权利要求3所述的真空吸附装置，其特征在于，所述监测器为一压
力传感器或者摄像头。
5.根据权利要求4所述的真空吸附装置，其特征在于，所述压力传感器设
置于所述真空通道中或设置于所述密封件上。
6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：王艳华，王洪亚，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32