一种防伪材料及其制备方法技术

本发明专利技术涉及防伪技术，尤其涉及一种防伪材料及其制备方法，该防伪材料，其特征在于：该防伪材料包括片状的无定形硅模块，无定形硅模块具有镂空区域，该防伪材料还包括稀土氧化物模块，稀土氧化物模块镶嵌于所述镂空区域；制备方法包括：在玻璃基底上面镀附着层；在附着层上面镀牺牲层，在牺牲层上面镀无定形硅层，在无定形硅层上面涂布光固胶，提供紫外线光源，提供第一淹模板，曝光，显影，清洗，刻蚀无定形硅层，提供清洗液，清洗，在无定形硅表面涂布稀土氧化物粉和光固胶的混合物，提供第二淹模板，曝光，显影清洗，提供牺牲层蚀刻液，刻蚀牺牲层清洗，过滤；本发明专利技术提供一种具有多材质、双重防伪的防伪材料及其制备方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及防伪技术，尤其涉及一种防伪材料及其制备方法。
技术介绍
现有技防伪术中，大多以水印、有色纤维、荧光油墨印刷、微点或微小记号的形体及随机分布等作为防伪手段。比如，现有技术1，中国专利文献CN102108653A，公开的一种片状防伪材料，所述片状防伪材料采用正四边形以外的异形结构；且所述片状防伪材料由以下层状结构组成：纸质防伪载体层，其中所述纸质防伪载体为由至少两种纤维复配制造得到的纸张；以及防伪层。还公开了所述片状防伪材料的制备方法以及含有该片状防伪材料的防伪纸。本专利技术的片状防伪材料可以获得同时具备肉眼识别、快速机读、专家分析等多层次的防伪功能的防伪纸。再比如，现有技术2，中国专利文献CN104610812A，公开的荧光硅纳米颗粒作为防伪标记的应用，由硅源制备荧光硅纳米颗粒，将得到的荧光硅纳米颗粒用做防伪墨水来制备防伪图案。由于硅纳米颗粒具有很好的荧光性质，量子产率高，储存稳定性好，具有良好的激发波长依赖性，制备的防伪图案在不同激发波长的光照下能显示不同颜色的光，能起到很好的防伪效果。再比如，现有技术3，中国专利文献CN101673341A,公开的本专利技术涉及防伪技术，尤其涉及一种微点防伪方法。该方法包括以下步骤：(1)提供一种微点；(2)提供一种胶水，将微点混合于胶水之中；(3)向承载物上点混有微点的胶水；(4)固化胶水；(5)拍照胶滴，形成原始对比图片；(6)原始对比图片存入后台数据库；(7)防伪验证拍照胶滴，形成被比图片；(8)读取后台数据库原始对比图片，与被比图片比较，作出真伪判断；其中，第(5)步所述的拍照胶滴，为放大拍照；第(7)步所述的防伪验证拍照胶滴，也是放大拍照。本专利技术提供一种不可仿制的微点防伪方法。与此相对应，中国专利文献CN102267287A公开了类似的一种微点防伪印记的制备方法及实现该方法的装置。微点防伪印记的制备方法包括以下步骤：S1，提供一种微点标记物，提供一种墨水；S2，混墨，即将微点标记物与墨水混合均匀；S3，提供至少二个喷头，提供目标物；S4，喷射，通过喷头将混有微点标记物的墨水喷向标的物；S5，干燥混有微点标记物的墨水；在喷射过程中，混墨步骤连续地进行，混墨、向喷头供墨、喷射是在全封闭的液路内完成的。本专利技术提供一种加工过程中不易混入杂质、实时保持微点在墨水内分布均匀的微点防伪印记的制备方法及实现该方法的装置。再比如，现有技术4，中国专利文献CN1350274A，公开的一种含有多数微小记号或图案的防伪标记及其形成方法，以含有多数微小图案记号的防伪标记，达成鉴定物品真伪及防止伪造的应用。物件鉴定用方法是根据在物件中所形成的至少一独特标记，它含有多数微小图案或记号，并以随机组合的方式合于标记内，以作为对比、鉴定的方法，而具有防止他人伪造及可以轻易达成识别及鉴定和对比的功效。然而,诸如以上列举，现有技术的复合纤维、荧光硅纳米颗粒、微点或微小记号的形体及随机分布等作为防伪手段，并不是向公开文本叙述的那样可以防止他人伪造的效果，随着科学技术的进步，这些技术手段均可以廉价仿制，不能仿制的只有现有技术3所述的后台数据库，但后台数据也不安全，企业的数据库很容易遭受黑客攻击，且需要通讯安全保障，仍然不理想。现有技术3和现有技术4，解实能解决大部分防伪需求，然而都是单一材质构成的防伪材料容易被仿制，而且统一的灰色调没有层次感和立体感，仍然不能满足高端需求，因而，需要不断推陈出新，不断进步。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种具有多材质的防伪材料。本专利技术的目的还在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种具有可见光和红外线双重防伪的防伪材料。本专利技术的目的还在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种具有多材质、双重防伪的防伪材料的制备方法。本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现：一种防伪材料，其特征在于：该防伪材料包括片状的无定形硅模块，无定形硅模块具有镂空区域，该防伪材料还包括稀土氧化物模块，稀土氧化物模块镶嵌于所述镂空区域。所述的防伪材料，其特征在于：所述的稀土氧化物模块，是指在单位防伪材料中，由稀土氧化物材料构成的各个子模块的总和，各个子模块之间离散分布，所述稀土氧化物模块可以是一个图形或字符，也可以是由多数个子模块组成一组图形或字符串；所述的无定形硅模块，是指在单位防伪材料中，由无定形硅材料构成的各个子模块的总和，各个子模块之间离散分布，所述无定形硅模块可以是一个图形或字符，也可以是由多数个子模块组成一组图形或字符串。所述的防伪材料，其特征在于：所述稀土氧化物模块底面与无定形硅模块底面位于同一平面上，所述稀土氧化物模块与无定形硅模块厚度一致。所述的防伪材料，其特征在于：所述稀土氧化物模块底面与无定形硅模块底面位于同一平面上，所述稀土氧化物模块比无定形硅模块厚度大。所述的防伪材料，其特征在于：所述稀土氧化物模块是稀土氧化物粉均匀固化在光固胶之中的结构；所述稀土氧化物材料是稀土氧化物粉与光固胶的均匀混合物。所述的防伪材料，其特征在于：在可见光下，稀土氧化物模块设置成白色，在红外线照射下，稀土氧化物模块是彩色的，面且不同的稀土氧化物模块子模块可以设置成不同的颜色，无定形硅模块设置成黑色；而且在可见光下，稀土氧化物模块与无定形硅模块构成黑白色的第一防伪信息；在红外线照射下，稀土氧化物模块与无定形硅模块构成彩色与黑色背景互映的第二防伪信息。所述的防伪材料，其特征在于：所述片状结构的厚度为2至10微米之间。本专利技术的目的还可以通过以下技术方案实现：一种防伪材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S110，提供玻璃基底；S120，在玻璃基底上面镀附着层；S130，在附着层上面镀牺牲层；S140，在牺牲层上面镀无定形硅层；S150，在无定形硅层上面涂布光固胶；S160，提供紫外线光源，提供第一淹模板，将S150步骤涂布的光固胶涂层曝光；S170，提供显影液，显影；S180，提供纯净水，清洗；S190，提供等离子刻蚀装备，刻蚀没有光固胶保护的无定形硅层，即镂空区域及各个单位防伪材料之外的周边区域；S200，提供清洗液，清洗，就是清洗掉用于保护无定硅层的光固胶；S210，在无定形硅表面涂布稀土氧化物粉和光固胶的混合物；S220，提供第二淹模板，将S200步骤涂布的混合物涂层曝光；S230，显影；S240，用纯净水清洗；S250，提供牺牲层蚀刻液，刻蚀牺牲层；S260，提供清洗过滤装备及纯净水，清洗，过滤；其中，S170步骤，所述提供显影液，显影液是四甲基加水；所述显影，用显影液固化部分光固胶；S180步骤，清洗，用纯净水清洗掉S170显影步骤未固化部分光固胶；所述S200步骤所述提供清洗液，清洗液是丙酮。所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：S120步骤，所述附着层是Cr或Ni，当然也可以采用不锈钢，所述镀是指真空镀；S130步骤，所述牺牲层是Al或Cu，所述镀是指真空镀。所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述S150步骤，还包括提供悬涂装备步骤，用悬涂方法涂布。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防伪材料，其特征在于：该防伪材料包括片状的无定形硅模块，无定形硅模块具有镂空区域，该防伪材料还包括稀土氧化物模块，稀土氧化物模块镶嵌于所述镂空区域。

【技术特征摘要】
1.一种防伪材料，其特征在于：该防伪材料包括片状的无定形硅模块，无定形硅模块具有镂空区域，该防伪材料还包括稀土氧化物模块，稀土氧化物模块镶嵌于所述镂空区域。
2.根据权利要求1所述的防伪材料，其特征在于：所述的稀土氧化物模块，是指在单位防伪材料中，由稀土氧化物材料构成的各个子模块的总和，各个子模块之间离散分布，所述稀土氧化物模块可以是一个图形或字符，也可以是由多数个子模块组成一组图形或字符串；所述的无定形硅模块，是指在单位防伪材料中，由无定形硅材料构成的各个子模块的总和，各个子模块之间离散分布，所述无定形硅模块可以是一个图形或字符，也可以是由多数个子模块组成一组图形或字符串。
3.根据权利要求1所述的防伪材料，其特征在于：所述稀土氧化物模块底面与无定形硅模块底面位于同一平面上，所述稀土氧化物模块与无定形硅模块厚度一致。
4.根据权利要求1所述的防伪材料，其特征在于：所述稀土氧化物模块底面与无定形硅模块底面位于同一平面上，所述稀土氧化物模块比无定形硅模块厚度大。
5.根据权利要求1所述的防伪材料，其特征在于：所述稀土氧化物模块是稀土氧化物粉均匀固化在光固胶之中的结构；所述稀土氧化物材料是稀土氧化物粉与光固胶的均匀混合物。
6.根据权利要求1所述的防伪材料，其特征在于：在可见光下，稀土氧化物模块设置成白色，在红外线照射下，稀土氧化物模块是彩色的，面且不同的稀土氧化物模块子模块可以设置成不同的颜色，无定形硅模块设置成黑色。
7.根据权利要求1所述的防伪材料，其特征在于：所述片状结构的厚度为2至10微米之间。
8.一种防伪材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S110，提供玻璃基底；
S120，在玻璃基底上面镀附着层；
S130，在附着层上面镀牺牲层；
S140，在牺牲层上面镀无定形硅层；
S150，在无定形硅层上面涂布光固胶；
S160，提供紫外线光源，提供第一淹模板，将S150步骤涂布的光固胶涂层曝光；
S170，...

【专利技术属性】
技术研发人员：翟兴，
申请(专利权)人：深圳市天兴诚科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44