A method to simulate the complex structure of semiconductor devices, the basic physical model according to the numerical discretization method used in all basic subroutines, the device structure according to the structure of the file basic function unit decomposition combined with fixed grammar rules, Attribute Editor for each special function unit in each of the basic basic physical model, code generator selection linear equations generate exclusive a special basic function unit generating subroutine, using linear equations correlation function pointer array basic function unit and the basic function unit generating subroutine, subroutine generated according to linear equations to obtain the simulation program compiled the entire device structure. The invention saves a large amount of extra judgment operation amount needed to generate the node value increment linear equations, improves the operation performance of the simulation program, and greatly increases the maintainability of the program.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种复杂结构半导体器件模拟方法。
技术介绍
当前的半导体器件模拟方法通常采用迭代的方法实现对物理变量的求解,如图1所示,其做法是依据数值方法,诸如有限体积法、有限差分法和有限元法,将主导化合物半导体器件性能的非线性偏微分方程组和边界条件转换为以所求解的物理变量的结点值为参数的非线性方程组(AnalysisandSimulationofSemiconductorDevices,S.Selberherr,1984),这些微分方程组通常包括反映静电势的Poisson方程、反映载流子(电子空穴)准费米势分布的连续性方程、反映载流子系综温度的能流方程等五个二阶偏微分椭圆型方程组成的方程组。离散的过程通常是将器件结构分解成不同特性的基本功能单元,这里是指界面、表面、材料生长时所定义的生长层、物理参数测试所定义的参数差异层等,材料生长层对于金属有机气相化学外延或分子束外延来说是指表征一种或多种参与化学反应或材料生长的前体浓度、温度、压力等源变化时间段内所生长的材料,测试参数差异层是指测试仪器所反映出的界面缺陷、表面缺陷、体材料缺陷种类、某种原子非故意扩散等参数的差异区域。将器件结构分解成这些基本功能单元,依次遍历这些基本功能单元生成以这些单元内结点值变量为参数的小方程组模块,然后通过几何邻接关系或者界面邻接关系或者边界条件组合成大的非线性方程组,如图2所示,这里需要将结点编号重新组织排列。这些非线性方程组的求解通常先以迭代的方法求解,基本过程是假定初始猜测值,通过适当级数展开以结点值增量为变量的线性方程组,选择合适的数值线性代数方法求解线性方程组,目前比 ...
【技术保护点】
一种复杂结构半导体器件模拟方法,其特征在于,包含以下步骤:步骤S1、将基本物理模型按照所采用的数值离散方法全部写成基本子程序;所述的基本物理模型包含:化合物半导体器件结构的微分方程组所涉及到的物理现象;步骤S2、将器件结构按照基本功能单元分解组合成具有固定语法规则的结构文件,同时编写基本功能单元的默认基本线性方程组生成子程序;所述的基本功能单元包含多个基本物理模型;步骤S3、编辑器读取并分析结构文件,获取每个基本功能单元中每个基本物理模型的参数属性特征,代码生成器根据每个基本功能单元所包含的每个基本物理模型的属性特征,与默认基本功能单元属性特征比较判断该基本功能单元是否为默认基本功能单元,如果否,则生成属于该特殊基本功能单元的线性方程组生成子程序;所述的代码生成器输入每个特殊基本功能单元中每个基本物理模型的属性特征,输出专属某特殊基本功能单元的线性方程组生成子程序;步骤S4、采用函数指针数组关联基本功能单元和基本功能单元的线性方程组生成子程序,使特殊基本功能单元使用其专属的线性方程组生成子程序;步骤S5、根据获得的线性方程组生成子程序,编译整个器件结构的模拟求解程序。
【技术特征摘要】
1.一种复杂结构半导体器件模拟方法,其特征在于,包含以下步骤:步骤S1、将基本物理模型按照所采用的数值离散方法全部写成基本子程序;所述的基本物理模型包含:化合物半导体器件结构的微分方程组所涉及到的物理现象;步骤S2、将器件结构按照基本功能单元分解组合成具有固定语法规则的结构文件,同时编写基本功能单元的默认基本线性方程组生成子程序;所述的基本功能单元包含多个基本物理模型;步骤S3、编辑器读取并分析结构文件,获取每个基本功能单元中每个基本物理模型的参数属性特征,代码生成器根据每个基本功能单元所包含的每个基本物理模型的属性特征,与默认基本功能单元属性特征比较判断该基本功能单元是否为默认基本功能单元,如果否,则生成属于该特殊基本功能单元的线性方程组生成子程序;所述的代码生成器输入每个特殊基本功能单元中每个基本物理模型的属性特征,输出专属某特殊基本功能单元的线性方程组生成子程序;步骤S4、采用函数指针数组关联基本功能单元和基本功能单元的线性方程组生成子程序,使特殊基本功能单元使用其专属的线性方程组生成子程序;步骤S5、根据获得的线性方程组生成子程序,编译整个器件结构的模拟求解程序。2.如权利要求1所述的复杂结构半导体器件模拟方法,其特征在于,所述的物理现象包含:以静电势、载流子准费米势、晶格温度等为参数的微分方程组的流密度及流离散方法;体材料中的离散能级缺陷与连续分布能级缺陷;表面和界面中的离散能级缺陷和连续能级缺陷;跨越不同基本功能单元的附加属性;连接器件结构光学特性与材料属性的物理模型。3.如权利要求2所述的复杂结构半导体器件模拟方法,其特征在于,所述的基本功能单元分为默认基本功能单元和特殊基本功能单元,所述的默认基本功能单元是最常见的形式,默认基本功能单元内的所有基本物理模型的参数属性在基本功能单元所限定的空间尺寸和能量范围内是固定不变的,每个默认...
【专利技术属性】
技术研发人员:张玮,李欣益,陆宏波,杨丞,张华辉,张梦炎,陈杰,郑奕,张建琴,
申请(专利权)人:上海空间电源研究所,
类型:发明
国别省市:上海;31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。