【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电阻器基片
，特别是一种碳膜电阻基片的配方。
技术介绍
膜电阻器制备的过程中，起到电阻电学作用的膜层都需要在特制的基片上进行成膜，基板需要具有耐高温、电绝缘性能高、介电常数和介质损耗低、热导率大、化学稳定性好、与元件的热膨胀系数相近等性能。电阻器基片的性能优劣对于电阻膜的成膜性和电学性能都有着较大的影响，合理的基片配方可以显著提高基片本身的各项性能。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了提供一种碳膜电阻基片的配方。为实现上述目的，本专利技术公开了一种碳膜电阻基片的配方，按重量份组成为：氧化铝30-40、氧化硅20-30、氧化钡20-30、氧化锆5-10、有机粘合剂3-5、光学稳定剂3-5。其中，有机粘合剂为酚醛树脂。其中，光学稳定剂为炭黑和氧化钛的混合物。本专利技术的优点和积极效果是：本专利技术方法配方以氧化铝、氧化硅、氧化钡、氧化锆为主料，还加入了有机粘合剂和光学稳定剂，使基片制成后均匀致密，耐高温、强光，绝缘性能较好。具体实施方式具体实施例一：一种碳膜电阻基片的配方，按重量份组成为：氧化铝30、氧化硅20、氧化钡20、氧化锆5、酚醛树脂3、炭黑和氧化钛的混合物3。具体实施例二：一种碳膜电阻基片的配方，按重量份组成为：氧化铝40、氧化硅30、氧化钡30、氧化锆10、酚醛树脂5、炭黑和氧化钛的混合物5。具体实施例三：一种碳膜电阻基片的配方，按重量份组成为：氧化铝35、氧化硅25、氧化钡25、氧化锆8、酚醛树脂4、炭黑和氧化钛的混合物4。以上所述，仅为本专利技术较佳的具体实施方式，但本专利技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术...
【技术保护点】
一种碳膜电阻基片的配方，其特征在于按重量份组成为：氧化铝30‑40、氧化硅20‑30、氧化钡20‑30、氧化锆5‑10、有机粘合剂3‑5、光学稳定剂3‑5。
【技术特征摘要】
1.一种碳膜电阻基片的配方，其特征在于按重量份组成为：氧化铝30-40、氧化硅20-30、氧化钡20-30、氧化锆5-10、有机粘合剂3-5、光学稳定剂3-5。2.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹维常，
申请(专利权)人：安徽斯迈尔电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。