光罩基底衬底收纳容器制造技术

本发明专利技术抑制对光阻图案产生的影响并且更确实地降低因在保管、搬送或容器操作的过程中所有可能产生的尘埃或粒子的附着引起的光罩基底的污染，提高光罩基底的质量及良率。本发明专利技术涉及一种光罩基底衬底收纳容器(1)，其收纳、搬送或保管光罩基底衬底(2)，且其构成零件中的至少1个包含以40℃保持60分钟下通过动态顶空法测定的己内酰胺量以正癸烷换算计每树脂单位重量成为0.01ppm以下的热塑性树脂，并且该构成零件的表面电阻值为1.0E+13欧姆以下。

Photomask substrate substrate container

The effect of inhibiting the generation of a photoresist pattern and more reliably reduced due to adhesion of all possible dust particles or a photomask caused by pollution in the storage, transport or container operation process, improve the quality and yield of the mask substrate. The invention relates to a photomask substrate container (1), the storage, transport or storage mask substrate (2), and its components in at least 1 to 40 degrees to keep the amount of caprolactam containing 60 minutes under determined by dynamic headspace method to n-decane conversion meter per tree fat weight as the 0.01ppm unit the thermoplastic resin composition and the surface resistance value of parts is 1.0E+13 ohms below.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】[相关申请]本申请是主张基于在2013年9月11日对日本专利厅提出申请的日本专利特愿2013-188177号的优先权。将日本专利特愿2013-188177号中记载的全部内容以参照的方式直接并入本申请中。另外，贯穿整个本申请所引用的全部文献以参照的方式直接并入本申请中。
本专利技术涉及一种收纳在表面涂布有半导体或液晶等的制造步骤的光刻工艺所使用的化学增幅型光阻的光罩基底衬底的容器。
技术介绍
以半导体为代表的设计电路的设计规则(designrule)正逐年推进电路的进一步微细化。伴随于此，针对于用以形成电路的光罩，对其线宽、形状、间距等电路图案所要求的条件也越严格。作为电路的形成方法，迄今为止一直使用光刻法，作为用以应对此种微细化的光阻材料，大多使用适合于波长更短、分辨率更高的化学增幅型光阻。使用化学增幅型光阻的光刻法是通过准分子激光等光照射、或电子束的照射而产生该光阻材料中的催化剂物质，在后续步骤中进行热处理，由此使该催化剂物质与高分子反应，使光或电子照射部分可溶(正型)、或不溶化(负型)，由此获得所需的电路图案的方法。迄今为止，关于在进行光或电子照射之前保管、搬送涂布有该光阻材料的衬底的收纳容器，就为了容易进行输送、搬送而理想为轻量，此外可以廉价且大量制造等方面而言，业界使用以各种塑料作为基材并通过射出成型等所制造的收纳容器。然而，由这些以塑料为材料的塑料制收纳容器所产生的各种挥发性有机物成分在保管及搬送光罩基底的过程中，对在光罩基底上所涂布的光阻材料的催化剂作用、其可溶化作用或不溶化作用产生某些影响，使通过光或电子束照射及热处理、显影所形成的在光罩基底上的光阻图案产生例如线宽的放大/缩小等尺寸变化或图案的变形、或者崩塌等，结果担忧发生无法获得如设计般的图案的不良情况。针对由此种塑料材料引起的问题，业界着眼于氮化合物，提出了由不含氮原子的高分子材料所构成的收纳容器、或作为释气成分的含氮化合物总量为特定量以下的收纳容器(例如参照专利文献1)。[现有技术文献][专利文献]专利文献1：日本专利特开2003-140324号公报
技术实现思路
[专利技术需要解决的问题]然而，所述收纳容器或因受到由不含氮原子的单体所获得的高分子材料(塑料材料)限定而选择适合于本用途的塑料材料，因此必须测定释气成分中的含氮化合物总量，而有耗费时间与成本的问题。因此，针对于使适合于本用途的塑料材料的选择更简化，利用使用所选择的材料而成形的塑料制收纳容器保管、搬送光罩基底的过程中、或收纳容器的开启及关闭操作的过程中有可能因收纳容器本身的摩擦等所产生的微小粒子、或存在于气体环境中的粒子会因静电而附着在光罩基底或收纳容器本身的污染，需要进一步的改善。本专利技术是为了解决所述问题而完成的者，目的在于抑制对光阻图案产生的影响并且降低因在保管、搬送或容器操作的过程中所有可能产生的尘埃或粒子的附着引起的光罩基底的污染，提高光罩基底的质量及良率。[解决问题的技术方案]本专利技术者们为了解决所述问题进行努力研究，结果发现：作为保管及搬送涂布有化学增幅型光阻的光罩基底的收纳容器，通过使用由构成收纳容器的塑料材料所产生的己内酰胺为一定量以下且其表面电阻值为1.0E+13欧姆以下的塑料材料，而防止在光罩基底的保管后进行曝光、感光及显影而形成的光阻图案的线宽及形状等所产生的不良情况，获得高精细的光阻图案，并且保护光罩基底或收纳容器本身免受在保管、搬送光罩基底的过程中所有可能产生的微小尘埃及粒子、以及存在于气体环境中的粒子的附着，从而完成了本专利技术。即，本专利技术的一形态是一种光罩基底衬底收纳容器，其用于收纳、搬送或保管光罩基底衬底，且其构成零件中的至少1个包含以40℃保持60分钟下通过动态顶空法测定的释气中的己内酰胺量以正癸烷换算计每树脂单位重量成为0.01ppm以下的热塑性树脂，并且包含该热塑性树脂材料的构成零件的表面电阻值为1.0E+13欧姆以下。另外，本专利技术的另一形态尤其是一种光罩基底衬底收纳容器，其在热塑性树脂中添加有碳填料。另外，本专利技术的另一形态尤其是一种光罩基底衬底收纳容器，其将热塑性树脂设为持续性抗静电树脂。另外，本专利技术的另一形态是一种光罩基底衬底收纳容器，其具备形成收纳光罩基底衬底的空间的上盖、及与上盖卡合的下箱，且至少使上盖及下箱由所述热塑性树脂材料构成。[专利技术的效果]根据本专利技术，能够抑制因由容器所产生的挥发性有机物成分对光阻图案产生的影响并且更确实地降低因在保管、搬送光罩基底衬底的过程中、或容器操作的过程中所有可能产生的尘埃或粒子的附着引起的光罩基底的污染，提高光罩基底的质量及良率。附图说明图1是表示本专利技术的实施方式的光罩基底衬底收纳容器的分解立体图。具体实施方式以下，对本专利技术的光罩基底衬底收纳容器的实施方式进行说明。但是，本专利技术并不限定于下述实施方式。图1是表示本专利技术的实施方式的光罩基底衬底收纳容器的分解立体图。该实施方式的光罩基底衬底收纳容器1如图1所示，主要具备：使光罩基底衬底2竖立于垂直方向并以一定间隔整齐排列而能够收纳光罩基底衬底2的匣盒3、收纳匣盒3的下箱4、从下箱4的上方卡止的上盖5、及从其上方压住光罩基底衬底2的压住构件6。下箱4形成为使其上方开口的有底箱型。在上方的开口部的周缘形成有边缘部。在外周部的相对向的各一对边缘部分别形成有一对卡止用的卡止凹部。匣盒3具有一对端壁、及连结这些端壁的另一对侧壁，在侧壁的内侧以相对向的方式以一定间隔形成有收纳光罩基底衬底2的收纳槽。上盖5形成为具有朝下开口的箱型而得以覆盖下箱4的开口而封闭。在上盖5的开口部形成有边缘部。在彼此相对向的各一对边缘部以向下方外延的方式分别形成有一对卡止爪。卡止爪分别与下箱4的卡止凹部嵌合而固定下箱4与上盖5。上盖5在其内表面朝下安装有个别地接触而压住光罩基底衬底2的构件且具备保持槽的压住构件6。在该实施方式中，所述光罩基底衬底收纳容器1的构成中，至少使下箱4与上盖5由以40℃保持60分钟的条件下通过动态顶空法测定的己内酰胺量以正癸烷换算计每树脂单位重量成为0.01ppm以下、更优选低于0.01ppm的热塑性树脂形成。为了降低粒子的附着，下箱4与上盖5是以使表面电阻值成为1.0E+13欧姆以下的方式由抗静电材料或导电性材料形成。另外，优选使匣盒3及压住构件6中的至少一个如所述般由以40℃保持60分钟的条件下通过动态顶空法测定的己内酰胺量以正癸烷换算计每本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光罩基底衬底收纳容器，其特征在于：其收纳、搬送或保管光罩基底衬底，且其构成零件中的至少1个包含以40℃保持60分钟下通过动态顶空法测定的释气中的己内酰胺量以正癸烷换算计每树脂单位重量成为0.01ppm以下的热塑性树脂，并且包含该热塑性树脂材料的构成零件的表面电阻值为1.0E+13欧姆以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.09.11 JP 2013-1881771.一种光罩基底衬底收纳容器，其特征在于：其收纳、搬送或保管光罩基底衬底，且
其构成零件中的至少1个包含以40℃保持60分钟下通过动态顶空法测定的释
气中的己内酰胺量以正癸烷换算计每树脂单位重量成为0.01ppm以下的热塑性树
脂，并且包含该热塑性树脂材料的构成零件的表面电阻值为1.0E+13欧姆以下。

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木勤，大堀伸一，小板桥龙二，中川秀夫，高坂卓郎，木下隆裕，福田洋，
申请(专利权)人：信越聚合物株式会社，信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP