一种TFT‑LCD制造工艺中双面功能片的制备方法技术

本发明专利技术提供了一种TFT‑LCD制造工艺中双面功能片的制备方法。本发明专利技术TFT‑LCD制造工艺中双面功能片的制备方法工艺简单，将传统工艺中视窗保护胶层和绝缘胶层的制备过程整合为1步，之后可根据实际情况，对基片上设计银线位置的另一侧对应位置处的视窗保护胶进行快速改性，得到绝缘胶即可，避免了在基片两侧耗费大量时间，反复进行视窗保护胶层和绝缘胶层的制备，能够有节省升基片两侧都具有功能电极的双面功能片的生产时间，提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及微电子加工领域，具体而言，涉及一种TFT-LCD制造工艺中双面功能片的制备方法。
技术介绍
目前，在平板显示(FlatPanelDisplay，简称FPD)技术中，由于液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)具有轻薄短小，节省摆放空间等优点，已经逐渐取代阴极射线管(CathodeRayTube，简称CRT)，成为主流的显示器。在各种类型的LCD中，薄膜场效应晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，简称TFT-LCD)具有性能优良，适合大规模自动化生产等优点，已经成为主流的LCD产品。TFT-LCD的制备过程中需在基片上制备出所设计的功能电极形状，所得功能电极逐一与银线相连，得到功能片，在制备银线时需要在所需形状的功能电极上制备视窗保护胶层，还要在基片另一侧与银线位置相对应的位置处制备绝缘胶，工艺复杂，需要时间长；如果要制备双面都具有功能电极的功能片，则需在两侧功能电极上分别制备视窗保护胶，还要在两侧对应位置分别制备绝缘胶，工艺更为复杂，需要时间更长，这使得基片两侧都具有功能电极的TFT-LCD的生产效率大大降低，不能满足生产需求。有鉴于此，特提出本专利技术。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种TFT-LCD制造工艺中双面功能片的制备方法，所述的TFT-LCD制造工艺中双面功能片的制备方法具有工艺简单，能够有节省升基片两侧都具有功能电极的双面功能片的生产时间，提高生产效率等优点。为了实现本专利技术的上述目的，特采用以下技术方案：一种TFT-LCD制造工艺中双面功能片的制备方法，包括如下步骤：(1)在基片两侧的面板上分别制备功能电极层；(2)在步骤(1)所制备的功能电极层上分别制备所需形状的抗蚀剂层；(3)将步骤(2)所得基片两侧的功能电极层同时进行刻蚀处理；(4)将步骤(3)所得刻蚀后的基片上的所需形状的抗蚀剂层去除，得到两侧分别具有所需形状功能电极的基片；(5)在基片两侧的具有所需形状的功能电极上，以及在基片上一侧设计银线位置的另一侧对应位置处分别制备视窗保护胶层；(6)在基片两侧设计银线位置处分别制备银线；在所述步骤(5)或步骤(6)之后，对基片上设计银线位置的另一侧对应位置处的视窗保护胶进行改性，得到绝缘胶；(7)除去在基片上所需形状功能电极上的视窗保护胶，得到双面功能片。本专利技术TFT-LCD制造工艺中双面功能片的制备方法工艺简单，将传统工艺中视窗保护胶层和绝缘胶层的制备过程整合为1步，之后可根据实际情况，对基片上设计银线位置的另一侧对应位置处的视窗保护胶进行快速改性，得到绝缘胶即可，避免了在基片两侧耗费大量时间，反复进行视窗保护胶层和绝缘胶层的制备，能够有节省升基片两侧都具有功能电极的双面功能片的生产时间，提高生产效率。所述步骤(1)中基片为玻璃基片。在基片两侧的面板上分别制备功能电极层之前，对所述基片表面进行清洗。可用去离子水、乙醇等液体进行清洗，清洗能够去除玻璃基片上的灰尘和污渍，防止对在玻璃基片上制备的功能电极产生影响，保证功能电极的性能，基片表面清洗液挥发之后再进行后续工艺，可采用升温的方式加快基片表面清洗液的挥发。所述步骤(1)在基片两侧的面板上分别制备功能电极层的方法包括溅射、真空蒸镀、离子镀或化学气相沉积。基片两侧的面板上制备功能电极层，优选同时进行，有助于节省基片两侧都具有功能电极的TFT-LCD的生产时间，提高生产效率。所述功能电极层优选为ITO层，在TFT-LCD制造工艺中，ITO(IndiumTinOxide，氧化铟锡)凭借其自身优良的特性，被广泛用于制作透明显示电极。所述步骤(2)中在步骤(1)所制备的功能电极层上分别制备所需形状的抗蚀剂层的方法包括光刻法或模板印刷法。所述光刻法包括如下步骤：在功能电极层上制备抗蚀剂层，使用紫外线通过具有所需形状的模板对抗蚀剂层进行光照，除去被紫外线光照过的抗蚀剂层，得到具有所需形状的未被紫外线光照的抗蚀剂层。光刻法中的抗蚀剂优选为光阻剂，光阻剂有两种，正向光阻剂(positivephotoresist)和负向光阻剂(negativephotoresist)；正向光阻剂是光阻剂的一种，其照到光的部分会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液；负向光阻剂是光阻剂的一种，其照到光的部分不会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分会溶于光阻显影液。优选采用旋涂的方式制备得到所述抗蚀剂层，即在制备过程中，基片绕几何中心在水平方向旋转，通过离心力使抗蚀剂自动铺膜，提高铺膜效率，得到厚度均匀的抗蚀剂层。所述模板印刷法包括如下步骤：在功能电极层上使用模板印刷的方式直接制备出具有所需形状的抗蚀剂层。使用模板印刷的方式，能够直接在功能电极层上制备得到所需形状的抗蚀剂层，相比光刻法，不需进行铺膜、不需除去多余的抗蚀剂，有助于节省基片两侧都具有功能电极的双面功能片的生产时间，提高生产效率。根据所会用的抗蚀剂的性质，基片两侧功能电极层上具有所需形状的抗蚀剂层的制备过程中，基片两侧可单独制备，一侧功能电极层上制备出所需形状的抗蚀剂层后，优选将其固化，再在另一侧功能电极层上制备出所需形状的抗蚀剂层，优选将另一侧功能电极层上制备出的所需形状的抗蚀剂层固化后，再将所得基片进行后续两侧同时刻蚀工艺。根据所使用的抗蚀剂的性质，可采用紫外线照射改性，或加热使溶剂挥发等方式进行所需形状的抗蚀剂层的固化。将步骤(2)所得基片两侧的功能电极层同时进行刻蚀处理之前，对具有功能电极层和所需形状抗蚀剂层的基片两侧进行清洗。可用去离子水等液体进行清洗，清洗能够去除基片两侧在前面工艺中产生的灰尘和污渍，防止对后续刻蚀工艺的影响，根据实际情况，基片两侧清洗液挥发之后再进行后续工艺，可采用升温的方式加快基片表面清洗液的挥发。使用溶剂将步骤(3)所得刻蚀后的基片两侧的所需形状的抗蚀剂层溶解去除。根据所使用的抗蚀剂，选用合适的溶剂进行溶解，水性溶剂可为去离子水、显影液等，有机溶剂为乙醇、乙醚、丙酮或苯等。将基片两侧的所需形状的抗蚀剂层去除后，在基片两侧分别得到了所需形状的功能电极层。可根据设计需要，重复上述步骤(1)-(4)，在基片两侧分别制备出所需形状的多层功能电极层，再进行后续工艺。所述步骤(6)中采用印刷的方式在基片上制备银线。优选将纳米银分散于溶剂中，之后在基片上印刷纳米银液线，之后可采用升温等方式使溶剂挥发，得到纳米银线；基片上的每个功能电极分别与1条纳米银线相连，所述纳米银线应延伸至基片边缘，便于与其他部件相连。对基片上设计银线位置的另一侧对应位置处的视窗保护胶进行改性的方式包括在基片上设计银线位置的另一侧对应位置处的视窗保护胶上添加光刻胶并通过紫外光照射进行固化，或在基片上设计银线位置的另一侧对应位置处的视窗保护胶上添加硬化剂进行固化。所述光刻胶优选为光交联型光刻胶，受紫外光照射后能够快速反应得到交联网状结构，连同基片上设计银线位置的另一侧对应位置处的视窗保护胶一起固化，形成绝缘胶，并且所得绝缘胶的结合强度好于视窗保护胶，在对视窗保护胶进行除去使，不会对绝缘胶与基板的粘合产生影响。所述硬化剂可为脂肪族硬化剂、脂环族硬化剂、酰胺硬化剂、芳香族硬化剂等，优选为脂环族硬化剂，脂环族硬化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种TFT‑LCD制造工艺中双面功能片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)在基片两侧的面板上分别制备功能电极层；(2)在步骤(1)所制备的功能电极层上分别制备所需形状的抗蚀剂层；(3)将步骤(2)所得基片两侧的功能电极层同时进行刻蚀处理；(4)将步骤(3)所得刻蚀后的基片上的所需形状的抗蚀剂层去除，得到两侧分别具有所需形状功能电极的基片；(5)在基片两侧的具有所需形状的功能电极上，以及在基片上一侧设计银线位置的另一侧对应位置处分别制备视窗保护胶层；(6)在基片两侧设计银线位置处分别制备银线；在所述步骤(5)或步骤(6)之后，对基片上设计银线位置的另一侧对应位置处的视窗保护胶进行改性，得到绝缘胶；(7)除去在基片上所需形状功能电极上的视窗保护胶，得到双面功能片。

【技术特征摘要】
1.一种TFT-LCD制造工艺中双面功能片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)在基片两侧的面板上分别制备功能电极层；(2)在步骤(1)所制备的功能电极层上分别制备所需形状的抗蚀剂层；(3)将步骤(2)所得基片两侧的功能电极层同时进行刻蚀处理；(4)将步骤(3)所得刻蚀后的基片上的所需形状的抗蚀剂层去除，得到两侧分别具有所需形状功能电极的基片；(5)在基片两侧的具有所需形状的功能电极上，以及在基片上一侧设计银线位置的另一侧对应位置处分别制备视窗保护胶层；(6)在基片两侧设计银线位置处分别制备银线；在所述步骤(5)或步骤(6)之后，对基片上设计银线位置的另一侧对应位置处的视窗保护胶进行改性，得到绝缘胶；(7)除去在基片上所需形状功能电极上的视窗保护胶，得到双面功能片。2.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD制造工艺中双面功能片的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中基片为玻璃基片。3.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD制造工艺中双面功能片的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)在基片两侧的面板上分别制备功能电极层的方法包括溅射、真空蒸镀、离子镀或化学气相沉积。4.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD制造工艺中双面功能片的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中在步骤(1)所制备的功能电极层上分别制备所需形状的抗蚀剂层的方法包括光...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨泽新，
申请(专利权)人：贵州乾盛科技有限公司，
类型：发明
国别省市：贵州;52